Mikrosenzory a mikromechanické systémy - Vysoké učení technické ...

Mikrosenzory a mikromechanické systémy 33Obrázek 4.14:Příklad vytvoření tenkovrstvého odporuHodnoty rezistorů se navrhují podle hodnoty stanovené na čtverec, tj. odpor na čtverecse vypočte podle měrného odporu deponovaného materiálu a jeho tloušťky:R□ = ρtloušt' ka[Ω/□], ( 4.2 )Je zřejmé, že nezáleží na velikosti čtverce, hodnotu celkového odporu určuje početčtverců. Potvrzuje se, že určujícím parametrem pro vytvoření přesného odporu je tloušťkamateriálu. Protože pracujeme s tloušťkami v několika desítek či stovek nm a víme, žetechnologické vybavení umožňuje poměrně velkou odchylku od požadované tloušťky, jezřejmé, proč je tak obtížné vyrobit přesný odpor tenkovrstvou technologií.4.4.2 Selektivní leptáníTato technika umožní vytvoření motivů za využití masky a chemicko-fyzikálníchprincipů roztoků a materiálů. Masku tvoří většinou fotorezist, který je polymerizovánelektronovou litografií, nepolymerizované části jsou rozpuštěny a odplaveny. Do polovodičůlze tak vytvářet díry (jámy), které získávají směrem do hloubky tvar určený orientací