12.07.2015 Views

1963 г. Июль Т. LXXX, вып. 3 УСПЕХИ ФИЗИЧЕСКИХ НАУК ...

1963 г. Июль Т. LXXX, вып. 3 УСПЕХИ ФИЗИЧЕСКИХ НАУК ...

1963 г. Июль Т. LXXX, вып. 3 УСПЕХИ ФИЗИЧЕСКИХ НАУК ...

SHOW MORE
SHOW LESS
  • No tags were found...

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙС<strong>Т</strong>ВА ИОННЫХ КРИС<strong>Т</strong>АЛЛОВ 489Степановым и Бобриковым 102 на кристаллах NaCl и Гилманом 44 на кристаллахLiF, показаны на рис. 25. Важность это<strong>г</strong>о результата заключаетсяв том, что он показывает, что подвижность дислокации зависит от структурыее ядра. Это единственное, что существенно отличает дислокации {001}и {111} от дислокаций {110}. Все эти дислокации имеют вектор Бюр<strong>г</strong>ерса,направленный вдоль [011], и их упру<strong>г</strong>ая энер<strong>г</strong>ия деформации, по существу,одинакова. Следовательно, единственное, что может объяснить большуюразницу в их подвижностях в соответствии с рис. 25, это различнаяструктура ядер, возможно,влияющая на отношениеPQ/PR B выражении (8).Г η -А2. Неустойчивостьпроцесса текучести.Диа<strong>г</strong>рамма напряжение —деформация может иметь различнуюформу при началепроцесса течения. На рис. 26схематично показаны некоторыетипичные диа<strong>г</strong>раммы(кривые А, Б π В) в предположении,что деформационноеупрочнение равно нулю.Рассмотрим сперва кривую В.В этом случае первоначальноечисло дислокацийв кристалле велико, как накривой в ниже диа<strong>г</strong>раммРис. 26. Объяснение неустойчивости пластическойдеформации около предела текучести.напряжение — деформация. Следовательно, при напряжении x :j, несколькобольшем необходимо<strong>г</strong>о для начала движения дислокаций, величинапроизведения QV В уравнении (10) достаточна для деформациикристалла при заданной скорости деформации. Схематичная кривая,показывающая соотношение между скоростью дислокаций и напряжением,изображена на рис. 26 справа. Далее рассмотрим кривую А,ко<strong>г</strong>да начальное число скользящих дислокаций при напряжении τ υравнонулю. При некотором большем напряжении τ 0дислокации или зарождаются,или отрываются от примесей, которые удерживали их на месте.Затем из-за высоко<strong>г</strong>о приложенно<strong>г</strong>о напряжения происходит быстрое размножение,как показано на кривой а. Следовательно, хотя кривая А вначалеподнимается выше напряжения r d, скоро она начинает падать, ко<strong>г</strong>дапроизведение QU при высоком уровне напряжения становится больше, чемэто необходимо для деформации образца с заданной скоростью деформации.Кривая б демонстрирует промежуточный случай, ко<strong>г</strong>да вначале присутствуетнекоторое количество дислокаций. Эти первоначальные дислокацииразмножаются и дви<strong>г</strong>аются со все возрастающей скоростью по мерероста напряжения до тех пор, пока ρο не будет соответствовать заданнойскорости деформации. <strong>Т</strong>о<strong>г</strong>да напряжение падает до величины т у; нижеоно упасть не может, так как то<strong>г</strong>да все движущиеся дислокации остановятся.Деформационное упрочнение не рассматривается на рис. 26, но оновызывает дополнительное усложнение и смещает правую часть диа<strong>г</strong>раммынапряжение — деформация вверх. Следовательно, упрочнение стремитсяисключить небольшой максимум, подобный максимуму на кривой -Б.Формой диа<strong>г</strong>рамм напряжение — деформация у кристаллов LiFможно управлять путем изменения методики под<strong>г</strong>отовки поверхности10 УФН, т. <strong>LXXX</strong>, <strong>вып</strong>. 3

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!