SP - UMEL - Vysoké uÄÂenàtechnické v Brně
SP - UMEL - Vysoké uÄÂenàtechnické v Brně SP - UMEL - Vysoké uÄÂenàtechnické v Brně
Návrh analogových integrovaných obvodů (BNAO) 17gδI∆Dd= ( 3.15 )δVDSV GSVýstupní vodivost v kvadratické oblasti klesá s rostoucím napětím drain-sourceWgd, quad= µ Cox( VGS−VT−VDS)( 3.16 )LA je nulová když se MOS tranzistor nachází v saturacigd , sat= 0( 3.17 )Příklad 3.1Vypočtěte proud drain NMOS tranzistoru jehož V T =1V, W=10um, L=1um a t ox =20nm.Pracovní bod je nastaven takto: V GS =3V, V DS =5V. K výpočtům použijte kvadratický model,povrchová pohyblivost nosičů je 300cm 2 /V a V BS =0V.Vypočtěte také přenosovou vodivost (transkonduktanci) při V GS =3V a V DS =5V.Porovnejte její velikost s výstupní vodivostí při V GS =3V a V DS =0V.MOSFET se nachází v saturačním režimu při splnění podmínky V DS > V GS - V T .Potom tedy výstupní proud (drain) je roven:ID,sat= µ CoxWL( V −V)GS23,9 ⋅8,85⋅10= 300⋅−720⋅10T2−1410⋅1( 3 −1)Přenosová vodivost (transkonduktance):gm= µ CoxWL( V −V)GS3,9 ⋅8,85⋅10= 300 ⋅−720 ⋅10a výstupní vodivost:gd= µ CoxWLT−14( V −V−V)GS3,9 ⋅8,85⋅10= 300⋅−720⋅10TDS−14101⋅10⋅122= 1,04 mA( 3 −1) = 1,04 mS( 3−1−0) = 1,04mSPokud změříme proud drainem v saturační oblasti zjistíme, že není konstantní, jakpředpokládá kvadratický model. Místo toho lehce roste se zvyšujícím se napětí drain-source.Modulace délky kanálu je název jevu, který toto chování způsobuje. Příčinou je zkráceníkanálu u oblasti drain. Jednoduchý empirický model, který zahrnuje tento efekt je popsánI2( VGS−VT) ( 1+VDS) pro VDS> ( VGS−VTW= µ C,) ( 3.18 )L 2D, sat oxλkde λ je parametr modulace délky kanálu.
18 FEKT Vysokého učení technického v Brně3.2.3 Model s proměnnou šířkou depletiční vrstvyNyní se zaměříme na model s měnící se tloušťkou depletiční vrstvy, který uvažujezměny náboje depletiční vrstvy mezi oblastí drain-source. Tato změna je způsobena měnícímse potenciálem v kanále.invox( VGS−VT) pro VGSVTQ = −C, >( 3.19 )Sem nyní doplníme implicitní závislost prahového napětí na náboji v depletiční oblastiVT= VFB+ VC+2εqN( 2ϕ+ V + V )S a F SB C2 ϕF+( 3.20 )CoxNapětí V C je rozdíl mezi napětím v kanále a napětím source. Můžeme aplikovat lineárnímodel na maličkou část kanálu délky y začínající u source oblasti a s tloušťkou dy. Napětív tomto zkoumaném místě je rovno V C+VS, zatímco napětí přes tuto malou část kanálu jerovno dV C . Z tohoto potom dostávámeID= µ CnoxWdy( 2ϕ+ V V )⎛ 2εqN+⎜VGS−VFB−VC−⎜⎝S a F SB C2 ϕF−dVCC⎟( 3.21 )oxObě strany rovnice mohou být integrovány přes oblast source-drain, kdy y se mění od 0po délku kanálu L, a V C se mění od 0 k V DS . Dostáváme:Integrací dostávámeL∫0IIDDdy = µ Cnnox− µ WµnCoxW⎛= ⎜VL ⎝2 W− µn3 LGSWVVDS∫0DS∫ ( VGS− VFB− VC− 2ϕF)0−V2εqNS2εqNFBaSadV( 2ϕF+ VSB+ VC) dVCVDS−VC− 2ϕF−222( 2ϕ+ V ) ( ) )3− 2ϕ+ V3FDB⎞⎟V⎠DSFSBC⎞⎟⎠( 3.22 )( 3.23 )CV charakteristiky jsou na Graf 3.4 spolu s charakteristikami získanými pomocíkvadratického modelu. Opět předpokládáme, že proud drainu vstupuje do saturace ve svémaximální hodnotě a inverzní vrstva vytvořená z děr nemůže v NMOS struktuře existovat.Napětí, při kterém vstupuje MOS do saturace je potom dánoV⎪⎧2ε⎪⎫SqNaCox= VGS−VFB− 2ϕ F− ⎨ 1+2 ( V − ) −12GBV ⎬ ( 3.24 )Cox⎪⎩εSqNa⎪⎭DS , satFB
- Page 1 and 2: Ing. Daniel Bečvář, Ph.D.Ing. Ji
- Page 3 and 4: 2 FEKT Vysokého učení technické
- Page 5 and 6: 4 FEKT Vysokého učení technické
- Page 7 and 8: 6 FEKT Vysokého učení technické
- Page 9 and 10: 8 FEKT Vysokého učení technické
- Page 11 and 12: 10 FEKT Vysokého učení technick
- Page 13 and 14: 12 FEKT Vysokého učení technick
- Page 15 and 16: 14 FEKT Vysokého učení technick
- Page 17: 16 FEKT Vysokého učení technick
- Page 21 and 22: 20 FEKT Vysokého učení technick
- Page 23 and 24: 22 FEKT Vysokého učení technick
- Page 25 and 26: 24 FEKT Vysokého učení technick
- Page 27 and 28: 26 FEKT Vysokého učení technick
- Page 29 and 30: 28 FEKT Vysokého učení technick
- Page 31 and 32: 30 FEKT Vysokého učení technick
- Page 33 and 34: 32 FEKT Vysokého učení technick
- Page 35 and 36: 34 FEKT Vysokého učení technick
- Page 37 and 38: 36 FEKT Vysokého učení technick
- Page 39 and 40: 38 FEKT Vysokého učení technick
- Page 41 and 42: 40 FEKT Vysokého učení technick
- Page 43 and 44: 42 FEKT Vysokého učení technick
- Page 45 and 46: 44 FEKT Vysokého učení technick
- Page 47 and 48: 46 FEKT Vysokého učení technick
- Page 49 and 50: 48 FEKT Vysokého učení technick
- Page 51 and 52: 50 FEKT Vysokého učení technick
- Page 53 and 54: 52 FEKT Vysokého učení technick
- Page 55 and 56: 54 FEKT Vysokého učení technick
- Page 57 and 58: 56 FEKT Vysokého učení technick
- Page 59 and 60: 58 FEKT Vysokého učení technick
- Page 61 and 62: 60 FEKT Vysokého učení technick
- Page 63 and 64: 62 FEKT Vysokého učení technick
- Page 65 and 66: 64 FEKT Vysokého učení technick
- Page 67 and 68: 66 FEKT Vysokého učení technick
18 FEKT Vysokého učení technického v Brně3.2.3 Model s proměnnou šířkou depletiční vrstvyNyní se zaměříme na model s měnící se tloušťkou depletiční vrstvy, který uvažujezměny náboje depletiční vrstvy mezi oblastí drain-source. Tato změna je způsobena měnícímse potenciálem v kanále.invox( VGS−VT) pro VGSVTQ = −C, >( 3.19 )Sem nyní doplníme implicitní závislost prahového napětí na náboji v depletiční oblastiVT= VFB+ VC+2εqN( 2ϕ+ V + V )S a F SB C2 ϕF+( 3.20 )CoxNapětí V C je rozdíl mezi napětím v kanále a napětím source. Můžeme aplikovat lineárnímodel na maličkou část kanálu délky y začínající u source oblasti a s tloušťkou dy. Napětív tomto zkoumaném místě je rovno V C+VS, zatímco napětí přes tuto malou část kanálu jerovno dV C . Z tohoto potom dostávámeID= µ CnoxWdy( 2ϕ+ V V )⎛ 2εqN+⎜VGS−VFB−VC−⎜⎝S a F SB C2 ϕF−dVCC⎟( 3.21 )oxObě strany rovnice mohou být integrovány přes oblast source-drain, kdy y se mění od 0po délku kanálu L, a V C se mění od 0 k V DS . Dostáváme:Integrací dostávámeL∫0IIDDdy = µ Cnnox− µ WµnCoxW⎛= ⎜VL ⎝2 W− µn3 LGSWVVDS∫0DS∫ ( VGS− VFB− VC− 2ϕF)0−V2εqNS2εqNFBaSadV( 2ϕF+ VSB+ VC) dVCVDS−VC− 2ϕF−222( 2ϕ+ V ) ( ) )3− 2ϕ+ V3FDB⎞⎟V⎠DSFSBC⎞⎟⎠( 3.22 )( 3.23 )CV charakteristiky jsou na Graf 3.4 spolu s charakteristikami získanými pomocíkvadratického modelu. Opět předpokládáme, že proud drainu vstupuje do saturace ve svémaximální hodnotě a inverzní vrstva vytvořená z děr nemůže v NMOS struktuře existovat.Napětí, při kterém vstupuje MOS do saturace je potom dánoV⎪⎧2ε⎪⎫SqNaCox= VGS−VFB− 2ϕ F− ⎨ 1+2 ( V − ) −12GBV ⎬ ( 3.24 )Cox⎪⎩εSqNa⎪⎭DS , satFB