SP - UMEL - Vysoké učení technické v Brně

148 FEKT Vysokého učení technického v Brně505152535455565859X5960616263X63646566X676869MASK-OPL-OMP-HC2DEP-OXMP-CO1--------------------MASK7HPL-7HZIDOXOZIVDETIALMASK8HMP-8HMP-TIMERZS1DEP-PNMASK9HPL-9HMERZS2MER-FUNanesení pozitivního rezistu (sušení při 90 °C)Plazmatické odstranění poly-Si ze zadní strany + odstranění rezistuMytí před HTO (SC1 + SC2)Depozice oxidu HTO (800 nm)Čištění povrchu HTO (scrubber + H 2 SO 4 + H 2 O 2 )7. maska (kontakty)Kombinované leptání 7. masky (Pershing + 7 : 1) + odstranění rezistuŽíhání HTO (1000/15´N 2 )Oživení povrchu (do 60´před depozicí Al)Depozice titanu a hliníku + slití (magentron, 100nm Ti, 900 nmAl, 400 °C/15´Ar)8. maska (hliník)Leptání 8. masky (hliník) + odstranění rezistu v dýmavé HNO 3Leptání titanu (NH 4 OH + H 2 O 2 , 1 : 3)Kontrolní měření zkušebních strukturDepozice pasivačního nitridu (500 nm)9. maska (kontaktní okna)Plazmatické leptání nitridu + odstranění rezistu v dýmavé HNO 3Měření zkušebních strukturMěření funkcePoznámky:SC= H O + NH OH + H O (80°C /10 )1 ′2 42 25 : 1 : 1( 11.12 )SC = H O + HCl + H O (80°22 2 2C6 : 1 : 1DA = HF + H2O (25°C/15′)1 : 50/150)( 11.13 )( 11.14 )