SP - UMEL - Vysoké uÄÂenàtechnické v Brně
SP - UMEL - Vysoké uÄÂenàtechnické v Brně SP - UMEL - Vysoké uÄÂenàtechnické v Brně
Návrh analogových integrovaných obvodů (BNAO) 111Druhá část offsetu má náhodný charakter. Je důsledkem nevyhnutelných neshodv geometrických rozměrech tranzistorů a technologických parametrů. Z tohoto důvodu jevelmi důležité lokalizovat kritická místa návrhu a snažit se těmto věnovat maximálnípozornost.Celý OTA se skládá ze dvou samostatných částí. Jakákoliv neshoda (v geometrii neboodchylka v technologických parametrech) určuje offset vstupu prvního i druhého stupně.Offsety spolu nekorelují a kombinují se v mocninné závislosti.Obr. 60 Zdroje offsetu ve dvoustupňovém zesilovačiKdyž přičítáme offset ze vstupního terminálu druhého stupně, musíme tento vydělitzesílením stupně prvního. Pro celkový offset potom dostáváme2V = V ( ) 21V2/ A( 10.54 )1os os+osPokud předpokládáme, že oba offsety budou mít podobnou velikost, potom díkyvelkému zesílení A1 prvního stupně můžeme prohlásit, že náhodný offset je prakticky určenpouze příspěvkem vstupního bloku.Obr. 61 Neshoda tranzistorů M3 a M4 způsobuje náhodný offsetObvykle jsou tranzistory M1 a M2, stejně jako M3 a M4 (na Obr. 61), shodné. Bohuželvlivem výrobního procesu vznikají odchylky. Pro zjednodušení situace předpokládejme, ženeshodu mezi M1-M2 převedeme na neshodu mezi M3-M4. Nyní předpokládáme, že M1 aM2 jsou shodné a analyzujeme vliv chyby v proudovém přenosu (jeho velikost bude (1+ε)místo 1) zrcadla tvořeného tranzistory M3 a M4. Proud tranzistorem M4 teď bude (1+ε)I M3 aabychom vykompenzovali vzniklou chybu, musíme připojit na vstup offsetové napětí.Budeme-li dále předpokládat, že offsetové napětí nebude velké a diferenciálním párem potečecelkový proud I Bias , potom⎛ IBiasVos1 ⎞ ⎛ IBiasVos1 ⎞⎜ − gm1⎟( 1+ε ) = ⎜ + gm2⎟⎝ 2 2 ⎠ ⎝ 2 2( 10.55 )⎠A při g m1 =g m2 dostaneme pro velikost offsetu
112 FEKT Vysokého učení technického v BrněVos1I 1≅ ⋅ εg ( 10.56 )m1Z rovnice vyplývá, že velikost offsetového napětí je přímo úměrná neshodnosti ε (skrzemultiplikační koeficient I 1 /g m1 I). Pro diferenciální pár v saturaci a podprahovém režimudostávámeIgI1g mVgs1−V=2( 10.57 )1 Thm= nVT =nkTq( 10.58 )Vidíme, že náhodný offset vznikající v důsledku neshodnosti je menší pro vstupní blokpracující v podprahovém („subthreshold“) režimu. Pro kvantitativní představu ε může míthodnotu kolem 0,02 a napětí drain-source v saturaci je asi (V gs -V th )=300 mV. Offset se tedypohybuje kolem 3 mV.Za poznámku stojí srovnání s bipolárnítechnologií. Transkonduktance MOS tranzistorův CMOS aplikacích má většinou 5-10x nižší hodnotunež transkonduktance tranzistorů bipolárních. Pokud sitoto uvědomíme v souvislosti s rovnicí ( 10.57 ) zjistíme,že v bipolárních aplikacích je náhodný offset asi 5-10xmenší než v aplikacích CMOSPOZN pro NÁVRHÁŘEVelký systematický offset jeprozradí spatně navržený obvod!Velký náhodný offset ukazuje nanevhodný layout obvodu!Obr. 62 Malosignálový náhradní obvod dvoustupňového OTA10.6.4 Kmitočtová odezva a kompenzaceMalosignálový model dvoustupňového OTA (Obr. 58) je zobrazen na Obr. 62. Každýstupeň je reprezentován řízeným proudovým zdrojem a paralelní kombinací výstupníhoodporu a zatěžovací kapacity. Stejnosměrný zisk je dán ziskem obou stupňů g m1 R 1 , g m2 R 2 .Dva RC obvody vytváří dva póly s úhlovým kmitočtem' 1 1p1= = τ1R1C( 10.59 )1' 1 1p2= =τ R C( 10.60 )22Víme, že výstupní odpor je dán paralelní kombinací dvou rds. Zatěžovací kapacita seskládá z parazitních kapacit tranzistorů a případně kapacitní zátěže na výstupu zesilovače.Časové konstanty obou stupňů se od sebe příliš neliší.Máme tedy systém se dvěma póly přenosu a stabilitu obvodu můžeme zaručit pouzev případě, že druhý pól je od toho prvního dostatečně vzdálen. Jinými slovy: je dostatečněvzdálen, pokud modul přenosu dosáhne 1 (jedné) dříve se k tomuto druhému pólu dostaneme.2
- Page 61 and 62: 60 FEKT Vysokého učení technick
- Page 63 and 64: 62 FEKT Vysokého učení technick
- Page 65 and 66: 64 FEKT Vysokého učení technick
- Page 67 and 68: 66 FEKT Vysokého učení technick
- Page 69 and 70: 68 FEKT Vysokého učení technick
- Page 71 and 72: 70 FEKT Vysokého učení technick
- Page 73 and 74: 72 FEKT Vysokého učení technick
- Page 75 and 76: 74 FEKT Vysokého učení technick
- Page 77 and 78: 76 FEKT Vysokého učení technick
- Page 79 and 80: 78 FEKT Vysokého učení technick
- Page 81 and 82: 80 FEKT Vysokého učení technick
- Page 83 and 84: 82 FEKT Vysokého učení technick
- Page 85 and 86: 84 FEKT Vysokého učení technick
- Page 87 and 88: 86 FEKT Vysokého učení technick
- Page 89 and 90: 88 FEKT Vysokého učení technick
- Page 91 and 92: 90 FEKT Vysokého učení technick
- Page 93 and 94: 92 FEKT Vysokého učení technick
- Page 95 and 96: 94 FEKT Vysokého učení technick
- Page 97 and 98: 96 FEKT Vysokého učení technick
- Page 99 and 100: 98 FEKT Vysokého učení technick
- Page 101 and 102: 100 FEKT Vysokého učení technick
- Page 103 and 104: 102 FEKT Vysokého učení technick
- Page 105 and 106: 104 FEKT Vysokého učení technick
- Page 107 and 108: 106 FEKT Vysokého učení technick
- Page 109 and 110: 108 FEKT Vysokého učení technick
- Page 111: 110 FEKT Vysokého učení technick
- Page 115 and 116: 114 FEKT Vysokého učení technick
- Page 117 and 118: 116 FEKT Vysokého učení technick
- Page 119 and 120: 118 FEKT Vysokého učení technick
- Page 121 and 122: 120 FEKT Vysokého učení technick
- Page 123 and 124: 122 FEKT Vysokého učení technick
- Page 125 and 126: 124 FEKT Vysokého učení technick
- Page 127 and 128: 126 FEKT Vysokého učení technick
- Page 129 and 130: 128 FEKT Vysokého učení technick
- Page 131 and 132: 130 FEKT Vysokého učení technick
- Page 133 and 134: 132 FEKT Vysokého učení technick
- Page 135 and 136: 134 FEKT Vysokého učení technick
- Page 137 and 138: 136 FEKT Vysokého učení technick
- Page 139 and 140: 138 FEKT Vysokého učení technick
- Page 141 and 142: 140 FEKT Vysokého učení technick
- Page 143 and 144: 142 FEKT Vysokého učení technick
- Page 145 and 146: 144 FEKT Vysokého učení technick
- Page 147 and 148: 146 FEKT Vysokého učení technick
- Page 149 and 150: 148 FEKT Vysokého učení technick
- Page 151 and 152: 150 FEKT Vysokého učení technick
Návrh analogových integrovaných obvodů (BNAO) 111Druhá část offsetu má náhodný charakter. Je důsledkem nevyhnutelných neshodv geometrických rozměrech tranzistorů a technologických parametrů. Z tohoto důvodu jevelmi důležité lokalizovat kritická místa návrhu a snažit se těmto věnovat maximálnípozornost.Celý OTA se skládá ze dvou samostatných částí. Jakákoliv neshoda (v geometrii neboodchylka v technologických parametrech) určuje offset vstupu prvního i druhého stupně.Offsety spolu nekorelují a kombinují se v mocninné závislosti.Obr. 60 Zdroje offsetu ve dvoustupňovém zesilovačiKdyž přičítáme offset ze vstupního terminálu druhého stupně, musíme tento vydělitzesílením stupně prvního. Pro celkový offset potom dostáváme2V = V ( ) 21V2/ A( 10.54 )1os os+osPokud předpokládáme, že oba offsety budou mít podobnou velikost, potom díkyvelkému zesílení A1 prvního stupně můžeme prohlásit, že náhodný offset je prakticky určenpouze příspěvkem vstupního bloku.Obr. 61 Neshoda tranzistorů M3 a M4 způsobuje náhodný offsetObvykle jsou tranzistory M1 a M2, stejně jako M3 a M4 (na Obr. 61), shodné. Bohuželvlivem výrobního procesu vznikají odchylky. Pro zjednodušení situace předpokládejme, ženeshodu mezi M1-M2 převedeme na neshodu mezi M3-M4. Nyní předpokládáme, že M1 aM2 jsou shodné a analyzujeme vliv chyby v proudovém přenosu (jeho velikost bude (1+ε)místo 1) zrcadla tvořeného tranzistory M3 a M4. Proud tranzistorem M4 teď bude (1+ε)I M3 aabychom vykompenzovali vzniklou chybu, musíme připojit na vstup offsetové napětí.Budeme-li dále předpokládat, že offsetové napětí nebude velké a diferenciálním párem potečecelkový proud I Bias , potom⎛ IBiasVos1 ⎞ ⎛ IBiasVos1 ⎞⎜ − gm1⎟( 1+ε ) = ⎜ + gm2⎟⎝ 2 2 ⎠ ⎝ 2 2( 10.55 )⎠A při g m1 =g m2 dostaneme pro velikost offsetu