18.03.2015 Views

Osnovi elektronike

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

n<br />

= BT e −<br />

(6.9)<br />

2 3 EG<br />

kT<br />

i<br />

31<br />

gde je B konstanta koja zavisi od materijala i za silicijum iznosi 5.4<br />

⋅ 10 . E<br />

G<br />

= 1.12 eV je<br />

parametar koji se naziva energetski procep i predstavlja minimalnu energiju za raskidanje<br />

−5 o<br />

kovalentne veze, dok je k = 8.62 ⋅10<br />

eV/ K Bolcmanova konstanta. Sopstvene koncentracije<br />

o<br />

o<br />

16<br />

3<br />

elektrona i šupljina na sobnoj temperaturi T = 300 K = 27 C su n i<br />

= p i<br />

=1.5⋅10<br />

nosilaca m i<br />

28<br />

3<br />

veoma su male u odnosu na gustinu atoma u kristalu silicijuma 5⋅ 10 atoma m . Dakle, kod<br />

čistog silicijuma svaki bilioniti atom u kristalu daje jedan par slobodnih nosilaca. Zbog toga je<br />

čist silicijum veoma slab provodnik.<br />

Ako se na krajeve silicijumskog kristala priključi napon V kao na slici:<br />

J e<br />

J p<br />

V<br />

+<br />

Slika 6.4: Priključenje naponskog izvora na kristal čistog silicijuma.<br />

onda dolazi do usmerenog kretanja slobodnih nosilaca kroz poluprovodnik. Iako se elektroni i<br />

šupljine pod dejstvom električnog polja kreću u suprotnim smerovima, pošto su oni nosioci<br />

suprotnog naelektrisanja, struje elektrona i šupljina se efektivno sabiraju. Dakle, gustina struje<br />

kroz poluprovodnik data je izrazom:<br />

gde je<br />

J = e( μ n +μ p ) E =σ E<br />

(6.10)<br />

n i p i<br />

−19<br />

e = 1.5 ⋅10<br />

C - naelektrisanje elektrona, μ = 0.135 m<br />

2<br />

n<br />

Vs je pokretljivost elektrona, a<br />

μ = 0.048 m<br />

2<br />

p<br />

Vs je pokretljivost šupljina. Veličine μ<br />

n, μ<br />

p takođe zavise od temperature. Na<br />

−4<br />

sobnoj temperaturi je σ = 4.4 ⋅10<br />

S/m , što predstavlja slabu provodnost.<br />

Još jedna osobina silicijuma koja je veoma korisna u mikroelektronici je da se izlaganjem<br />

silicijuma kiseoniku na povišenoj temperaturi na njegovoj površini formira oksid (SiO 2 ), koji je<br />

odličan izolator.<br />

6.4 Dopiranje silicijuma primesama<br />

Ako se u kristal silicijuma unesu primese drugih materijala, provodnost silicijuma se<br />

može povećati. Taj postupak se naziva dopiranje silicijuma.<br />

Silicijum ima 4 valentna elektrona u najvišem energetskom opsegu. Ako se silicijumu<br />

doda mala količina primesa od materijala koji ima pet valentnih elektrona (fosfor, arsen ili drugi<br />

elementi 5. grupe), pojaviće se višak slobodnih elektrona koji znatno povećava provodnost<br />

silicijuma. Takve primese se nazivaju donorske primese jer daju elektrone, a tako dopirani<br />

52

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!