21.01.2015 Views

I BÖLMƏ OPTO NANOELEKTRONİKA - Bakı Dövlət Universiteti

I BÖLMƏ OPTO NANOELEKTRONİKA - Bakı Dövlət Universiteti

I BÖLMƏ OPTO NANOELEKTRONİKA - Bakı Dövlət Universiteti

SHOW MORE
SHOW LESS

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

Fizikanın müasir problemləri VI Respublika konfransı<br />

плохого смачивания может образовывать изолированные кластеры. Отметим, что<br />

ОСУНТ получается с использованием газовой смеси CH 4 и A 2 . Струя ВЧ –<br />

микроплазмы генерируется при атмосферном давлении с помощью однотрубчатого<br />

электрода и направляется на подложку к-Si с покрытой пленкой Fe .<br />

В широком диапазоне изменения параметров синтеза (внутреннего диаметра<br />

сопла электрода, скорости потока метана и температуры подложки) получены такие<br />

углеродные микроструктуры, как алмазные частицы, углеродные нанопроволочки,<br />

углеродные нанотрубки и конусообразные микрочастицы Si .<br />

Также изучено влияние условий роста скорости потока метана, тип подложки на<br />

распределение, структуру и свойства двухстеночных углеродных нанотрубок (ВУН).<br />

При скорости потока 600куб см/мин получаются ДУН с преимущественно<br />

полупроводковыми свойствами. При более высокой скорости потока (700куб см/мин)<br />

образуется смесь одностенных и двухстенных нанотрубок, большинство из которых<br />

являются полупроводниковыми. При более низких скоростях (300-500куб см/мин)<br />

преобладают металлические многостенные углеродные нанотрубки. Длина полученных<br />

нанотрубок составляет 1-4мкм.<br />

Обнаружено, что полученные из газовой смеси SiH 4 + H 2 + PH 3 или<br />

SiH + H + B на кварцевой, стеклянной или же подложек с увеличением<br />

4 2 2H<br />

6<br />

концентрации PH 3 уменьшается средний размер зерен (d) и доля кристаллических<br />

зерен объема (Ve). При легировании бором с увеличением концентрации B 2 H 6<br />

значение d не меняется, а с Vc уменьшается.<br />

Полученные пленки нанокристаллические SiC толщиной 0,5-1,0мкм на<br />

подложки кварца при температуре 200-6000 0 С в плазме 80% H 2 +20% A 2 , при<br />

повышении температуры подложки до 600 0 С наблюдалось увеличение плотности<br />

нанокристаллов SiC средний размер которых составлял 12пм до 24пм.<br />

Полученные результаты проверены также и методом ИК спектра поглощения.<br />

Исходя из этих результатов, можно утверждать, что наногидридные Si − H и<br />

дигидридные Si − H 2 комплексно ведут себя как пространственный барьер в объеме<br />

пленок и изменяют рост нанокристаллов [8].<br />

Для анализа картины, получаемой на дебасграмме, воспользуемся<br />

представлением Брега-Вульфа. Для получения отражения определенного порядка от<br />

некоторых серий плоскостей, кристаллик должен быть ориентирован таким образом,<br />

чтобы эти плоскости составляли с подающим пучком угол θ , удовлетворяющий<br />

уравнению:<br />

2d sinθ = λ<br />

(1)<br />

Зная угол падения пучка и длину волны из уравнения (1) можно определить<br />

диаметр нанокристаллов. Пользуясь формулой (1) для каждой линии можно определить<br />

отношение межкомплексного расстояния отражающей серии сеток к порядку<br />

отражения:<br />

d λ<br />

=<br />

(2)<br />

n 2sinθ<br />

d<br />

Значение для всех линий является конечным результатом, полученным<br />

n<br />

непосредственно из диаграммы.<br />

Рентгеноструктурный анализ проведен пороликовым методом и спектра ИК<br />

поглощения измерено ИКС-21.

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!