Beata Staśkiewicz - Instytut Fizyki

Rys. II Obraz uzyskany ze skaningowego mikroskopu elektronowego przedstawiający
próbkę wykonaną za pomocą techniki litografii interferencyjnej; a) multiwarstwowa
struktura wykonana z pary prętów (Au(30 nm)–Al 2 O 3 (75 nm)–Au(30 nm))
[powierzchnia całkowita wynosi 787 nm, rozmiary dziur 470 nm i 420 nm];
b) heksagonalna struktura 2D wykonana na szklanym podłoŜu z Au(20 nm)–MgF 2 (60
nm)–Au(20 nm); c) oraz d) struktura „sieci rybnej - fishnet” wykonana z Au(30 nm)–
Al 2 O 3 (60 nm)–Au(30 nm) [rozmiary – długość 528 nm, szerokość 339 nm] (na
podstawie [111]);
IV Litografia ‘NANOODCISKOWA’
Kolejnym obiecującym kierunkiem wytwarzania produkcyjnie
kompatybilnych, wysokiej jakości materiałów o ujemnym współczynniku załamania,
przy równocześnie niewielkich kosztach produkcji i nakładach czasu, oferuje
litografia ‘nanoodciskowa’ (NIL) [114]. NIL realizuje transfer próbek przez
mechaniczne zniekształcenia oparte na znakowaniu, rzadziej na reakcjach foto- lub
elektro- indukowania, na których opiera się większość obecnie wykonywanych metod
litograficznych. Tego typu rozwiązanie techniczne nie jest ograniczane długością fali
emitowanej przez źródło światła, a niewielkie parametry osiąga się stosując produkcję
znakowania. Ponadto NIL zapewnia wysoką przepustowość równoległych procesów,
przy uŜyciu standardowych procedur, połączonych z prostotą oraz niskimi kosztami.
Ostatnio wyprodukowano za pomocą metody NIL dwa rodzaje materiałów
wykazujących ujemny współczynnik załamania dla zakresu bliskich i średnich
podczerwieni. Pierwsza kompozycja składała się z uporządkowanych warstw
struktury „fishnet” tworzących tablice metal-dielektryk-metal, które dowiodły
istnienia ujemnej przenikalności elektrycznej i magnetycznej w takim samym zakresie
częstotliwości, i tym samym wykazały ujemny współczynnik załamania n’ ≈ −1,6 dla
λ ≈ 1,7 µm [111] (patrz rys. III).
91