Beata StaÅkiewicz - Instytut Fizyki
Beata StaÅkiewicz - Instytut Fizyki
Beata StaÅkiewicz - Instytut Fizyki
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
E.42 Metody otrzymywania metamateriałów 2D<br />
I STANDARDOWA METODA – litografia wiązek elektronowych<br />
e<br />
(electron– beam litography ― (EBL))<br />
W metodzie tej wykorzystuje się wiązki elektronowe, które padają<br />
na wybraną powierzchnię. Szerokość wiązek jest rzędu nanometrów, co pozwala<br />
uznać tę metodą za technologię nanoskpową. EBL to seryjny proces, w którym wiązka<br />
elektronowa skanuje powierzchnię próbki. Przez ostatnie dwa lata z powodzeniem<br />
wytwarzano róŜne struktury (charakteryzujące się ujemnym współczynnikiem<br />
załamania) przy zastosowaniu metody EBL, a róŜne zespoły badawcze z<br />
powodzeniem przeprowadzały na nich eksperymentalne badania. Najlepszy wynik dla<br />
ujemnego współczynnika załamania dla długości fali stosowanej w telekomunikacji,<br />
osiągnęła grupa badawcza z Uniwersytetu w Karlsruhe we współpracy z grupą<br />
z Uniwersytetu Stanu Iowa w 2006 roku [109] dla struktury „sieci rybnej-(fishnet)”<br />
[110]. Tworzyła ją tablica prostopadłych, dielektrycznych mikroelementów<br />
umieszczonych w równoległych metalowych foliach. Dla struktury „fishnet” − stała<br />
sieci wynosząca 600 nm (w formie kanapkowej, tzn. Ag [45 nm]–MgF 2 [30 nm]−Ag<br />
[45 nm]) wykazano istnienie ujemnego współczynnika załamania n’ = −2 dla<br />
λ ≈ 1, 45 µm.<br />
Dalsze badania zaowocowały wykazaniem przez dwie grupy badawcze meta<br />
materiału o ujemnym współczynniku załamania dla zakresu widzialnego: grupa<br />
z Karlsruhe otrzymała ośrodek z n’ = – 0,6 dla λ ≈ 780 nm, a grupa z Purdue<br />
University otrzymała ośrodek z n’ = − 0.9, n’ = −1.1 dla λ = 770 nm oraz λ ≈ 810 nm<br />
[109]; patrz rys. I. Mimo, Ŝe metoda EBL jest powszechnie stosowana do nadruku<br />
relatywnie małych powierzchni, ostatnio rozpoczęto produkować równieŜ długie<br />
powierzchnie metamateriałów dielektrycznych [111]. W tym podejściu zastosowanie<br />
warstw o zmiennej dyspersji znacznie zmniejsza błędy seryjnego procesu nadruku i<br />
umoŜliwia tym samym produkcje dobrej jakości struktur.<br />
Wytwarzanie materiałów o ujemnym współczynniku załamania<br />
dla częstotliwości optycznych jest zadaniem bardzo ambitnym, gdyŜ wymaga<br />
uzyskania próbek o niewielkiej periodyczności (bliskiej lub mniejszej od 300 nm) oraz<br />
nanoskopowych rozmiarów (poniŜej kilku dziesiątek nm). Odkąd moŜliwym stała się<br />
fabrykacja niewielkich fragmentów materiałów (rzędu 100 µm × 100 µm)<br />
w umiarkowanie krótkim czasie i po rozsądnych kosztach, EBL nie stanowi juŜ<br />
rozwiązania proponowanego przy produkcji metamateriałów o duŜej skali integracji<br />
(poŜądanych w zastosowaniach).<br />
Rys I Obraz pochodzący ze skaningowego mikroskopu elektronowego<br />
przedstawiający „nano sieć rybną-fishnet” wytworzoną przy uŜyciu metody EBL;<br />
a) ujemny współczynnik załamania uzyskany przez grupę z Karlsruhe (n’ = − 0.6 dla<br />
λ≈ 780 nm, warstw Ag(40 nm)–MgF 2 (17 nm)–Ag(40 nm) układanych w stos, stała<br />
sieci 300 nm); b) grupę z Uniwersytetu Purdue’a (n’= − 0.9 dla λ ≈ 772 nm, warstw<br />
Ag(33 nm)–Al 2 O 3 (38 nm)–Ag(33 nm) układanych w stos, stała sieci 300 nm) (na<br />
podstawie [111]).<br />
89