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JAEA-Review 2010-014
あり,大きな変化は見られなかった。なお,MIU-3 号孔のメンテナンスに伴う観測機器の交換において生
じている全水頭の差(約 0.5m)は, 観測プローブの誤差範囲内に収まっていることから,観測上の問題
は生じていないと考える。
MIU-4 号孔においては,6 月中旬に水圧観測プローブの点検および観測区間の変更による数日間の
欠測期間が生じているが,1 年間を通してほぼ継続的な観測データが得られている。
観測区間ごとに結果を整理すると,No.6 と No.8,9,10 で全水頭の値が異なっている。MIU-4 号孔では
深度 595m 付近において月吉断層を貫通しており,同断層の上盤側と下盤側で全水頭が異なることを示
している。月吉断層の上盤側に位置する No.6 では,全水頭は概ね一定の値を示し,大きな変化は見ら
れなかった。一方,月吉断層の下盤側に位置する No.8,9,10 においては,全水頭の値は深くなるほど大
きくなる傾向を示した。なお, MIU-4 号孔における水圧観測プローブの交換前後で観測結果に約 1.8m
の差が生じた。これは,水圧観測プローブの精度誤差を考慮すると,誤差範囲を超えているため,プロー
ブ交換前の全水頭の絶対値に対する信頼性は低い。今後は,定期的にメンテナンス(圧力値の確認や
定期的なプローブの交換)を行うことでデータの品質を確保することとする。
月吉断層を境界とした全水頭分布について考察した結果,月吉断層上盤側(AN-1 号孔
(No.1,6,10,12),AN-3 号孔(No.1,3,4,5),MIU-2 号孔(No.2,5,9),MIU-3 号孔(No.1,4),MIU-4 号孔
(No.6))と月吉断層下盤側(MIU-2 号孔(No.12),MIU-3 号孔(No.6,8),MIU-4 号孔(No.8,9,10))で全
水頭に差が生じており,月吉断層下盤側の全水頭は上盤側より高い。この結果は,月吉断層が断層面
に直交する方向において低透水性であるというこれまでの調査,観測結果と整合的である。
図 4.2-1 ボーリング孔位置図(正馬様用地) 1)
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(JAEA 作成)に追筆