диагностика низкотемпературной плазмы
диагностика низкотемпературной плазмы
диагностика низкотемпературной плазмы
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
МАТЕРИАЛЫ<br />
VII РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ<br />
СОВРЕМЕННЫЕ СРЕДСТВА ДИАГНОСТИКИ<br />
ПЛАЗМЫ И ИХ ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ<br />
КОНТРОЛЯ ВЕЩЕСТВ И ОКРУЖАЮЩЕЙ СРЕДЫ<br />
Москва, НИЯУ МИФИ, 30 ноября-2 декабря 2010 г.<br />
Москва 2010
Министерство образования и науки РФ<br />
Государственная корпорация по атомной энергии «РОСАТОМ»<br />
Научный совет по физике <strong>низкотемпературной</strong> <strong>плазмы</strong> РАН<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
МАТЕРИАЛЫ<br />
VII РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ<br />
СОВРЕМЕННЫЕ СРЕДСТВА ДИАГНОСТИКИ ПЛАЗМЫ<br />
И ИХ ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ КОНТРОЛЯ ВЕЩЕСТВ И<br />
ОКРУЖАЮЩЕЙ СРЕДЫ<br />
Москва, НИЯУ МИФИ, 30 ноября-2 декабря 2010 г.<br />
Москва 2010<br />
2
ББК 22.333я5<br />
УДК: 533.9 (06)<br />
С-56<br />
Материалы VII Российскй Конференции «Современные средства<br />
диагностики <strong>плазмы</strong> и их применение для контроля веществ и<br />
окружающей среды». Москва, 30 ноября-2 декабря 2010 г.<br />
М.: НИЯУ МИФИ, 2010 г., 195 с.<br />
Сборник содержит материалы, представленные в виде устных и стендовых<br />
докладов на 7-ой российской конференции по диагностике <strong>плазмы</strong> и ее<br />
применению. Тематика сборника достаточно широка. Она охватывает как<br />
вопросы диагностики <strong>плазмы</strong> в термоядерных реакторах, включая проблемы<br />
диагностических зеркал, так и вопросы диагностики импульсных и<br />
стационарных газовых разрядов в исследовательских и технологических<br />
установках. Большой раздел сборника посвящен диагностике пылевой <strong>плазмы</strong>.<br />
Представлены также работы по исследованию новых плазменных объектов, в<br />
том числе образуемых в конденсированных средах, а также традиционных, но с<br />
применением нетрадиционных средств диагностики.<br />
Включенные в сборник материалы приведены в авторской редакции.<br />
Редакционная коллегия<br />
В.А.Курнаев<br />
А. С. Савѐлов<br />
Э. И. Додулад<br />
© Национальный<br />
исследовательский ядерный<br />
ISBN 978-5-7262-1379-8 университет «МИФИ», 2010<br />
3
ОРГАНИЗАТОРЫ КОНФЕРЕНЦИИ<br />
КАФЕДРА ФИЗИКИ ПЛАЗМЫ НАЦИОНАЛЬНОГО<br />
ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОГО ЯДЕРНОГО УНИВЕРСИТЕТА<br />
«МИФИ»<br />
МИНИСТЕРСТВА ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РФ<br />
ГОСУДАРСТВЕННАЯ КОРПОРАЦИЯ ПО АТОМНОЙ ЭНЕРГИИ<br />
«РОСАТОМ»<br />
СЕКЦИЯ «ДИАГНОСТИКА НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ<br />
ПЛАЗМЫ» СОВЕТА «ФИЗИКА НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ<br />
ПЛАЗМЫ» РАН<br />
ПРОГРАММНЫЙ КОМИТЕТ<br />
Воронов Г.С. (ИОФ РАН)<br />
Гаранин С.Г. (РФЯЦ ВНИИЭФ) чл.корр. РАН<br />
Голубев А.А. (ИТЭФ)<br />
Ковальский Н.Г. (ТРИНИТИ)<br />
Кругляков Э.П. (ИЯФ СО РАН) - акад. РАН<br />
Курнаев В.А. (НИЯУ МИФИ)<br />
Лебедев Ю.А. (ОФО РФ, ИНХС)<br />
Литновский А.М. (FZJ, Juelich, Germany)<br />
Петров О.Ф.(ОИВТ РАН) чл.корр. РАН<br />
Пергамент М.И. (ТРИНИТИ)<br />
Савѐлов А.С. (НИЯУ МИФИ)<br />
Сергеев В.Ю. (СПбГТУ)<br />
Сон Э.Е. (ОИВТ РАН)-чл.корр. РАН<br />
Стрелков В.С. (ИФТ РНЦ "Курчатовский институт")<br />
ОРГАНИЗАЦИОННЫЙ КОМИТЕТ<br />
Курнаев В. А. (НИЯУ МИФИ)<br />
Савѐлов А. С. (НИЯУ МИФИ)<br />
Додулад Э. И. (НИЯУ МИФИ)<br />
Раевский И. Ф. (НИЯУ МИФИ)<br />
Саранцев С. А. (НИЯУ МИФИ)<br />
4
МАГНИТНАЯ ДИАГНОСТИКА ТОКАМАКОВ НОВОГО<br />
ПОКОЛЕНИЯ: ПРОБЛЕМЫ И РЕШЕНИЯ<br />
И. Большакова 1 , И. Васильевский 2 , Л. Виерербл 3 , Р. Голяка 1 , И. Дюран 4 ,<br />
В. Ерашок 1 , Р. Коноплѐва 5 , Я. Кость 1 , С. Куликов 6 , В. Курнаев 2 , К. Лерой 7 ,<br />
Е. Макидо 1 , В. Чеканов 5 , Ф. Шурыгин 1<br />
1. Национальный университет «Львовская политехника»<br />
2. Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
3. Nuclear Research Institute, Rež, Czech Republic<br />
4. Institute of Plasma Physics, Prague, Czech Republic<br />
5. Петербургский Институт Ядерной Физики<br />
6. Объединенный Институт Ядерных Исследований, Дубна<br />
7. Université de Montréal, Canada<br />
Успешная работа и эксплуатационные показатели токамаков зависят от<br />
точности информации, обеспечиваемой магнитной диагностикой. В самых<br />
больших из современных токамаков JET и TORE SUPRA количество магнитных<br />
датчиков достигает 500, в строящемся ITER их предусмотрено 1700. Сложность<br />
системы магнитной диагностики связана, с одной стороны, с высокими<br />
требованиями к точности измерения, с другой – с жѐсткими условиями<br />
эксплуатации. Среди них основное место занимают интенсивные радиационные и<br />
тепловые нагрузки, а в ITER ситуация осложняется ещѐ и тем, что техническое<br />
обслуживание элементов диагностики внутри токамака затруднительно и<br />
магнитная <strong>диагностика</strong> конструируется с расчѐтом на весь срок службы реактора<br />
(от 20 до 35 лет).<br />
В системах магнитной диагностики как действующих современных<br />
токамаков, так и ITER предусмотрено использование традиционных<br />
индуктивных методов, основанных на использовании pick-up coils и<br />
интеграторов. В существующих реакторах, в которых длительность импульсов<br />
магнитного поля не превышает несколько десятков секунд, индуктивные<br />
преобразователи удовлетворительно выполняют свою функцию.<br />
Проблема реакторов нового поколения состоит в том, что с возрастанием<br />
длительности импульса до 3600 сек, как это предусмотрено в ITER, точность<br />
интегрирования резко уменьшается, и индуктивные преобразователи не<br />
4
позволяют получить необходимую точность измерения квазистационарного<br />
(steady-state) магнитного поля.<br />
Другая проблема заключается в том, что радиационное поле в ITER<br />
будет намного жѐстче, чем в современных установках. Высокие уровни<br />
проникающего излучения могут существенно влиять на точность измерения<br />
индуктивных преобразователей посредством радиационно-индуцированных<br />
эффектов (RIEMF, RITES и др.) [1].<br />
Для решения этих проблем нами было предложено дополнить систему<br />
магнитной диагностики ITER гальваномагнитными преобразователями, а<br />
именно полупроводниковыми сенсорами Холла. В отличие от индуктивных<br />
преобразователей они не имеют ограничений относительно длительности<br />
импульса и с достаточно высокой точностью измеряют как высокочастотные,<br />
так и постоянные магнитные поля, и являются наиболее пригодными для<br />
измерения steady-state магнитных полей в реакторах нового поколения с<br />
большой длительностью импульса > 1000 сек [2].<br />
Задача состоит в том, чтобы обеспечить достаточную радиационную<br />
стойкость полупроводниковых сенсоров в потоках высокоэнергетических<br />
нейтронов и работоспособность при повышенных температурах в реакторе.<br />
Например, в ITER в местах, предназначенных для размещения steady-<br />
state сенсоров, температура выживания сенсоров составляет 220ºС и<br />
определяется условиями отжига камеры для ее дегазации, рабочая температура<br />
steady-state сенсоров находится на уровне 120ºС. Радиационные нагрузки в этих<br />
местах определяются флюенсом нейтронов за время жизни ITER и достигают<br />
максимального значения F = 10 18 н∙см -2 при интенсивности потока 7,71∙10 10<br />
н∙см -2 ∙с -1 .<br />
Для удовлетворения этим требованиям в Лаборатории Магнитных<br />
Сенсоров НУЛП (ЛМС) совместно с Центром нанотехнологий и<br />
наноматериалов НИЯУ «МИФИ» разработаны и изготовлены<br />
радиационностойкие сенсоры магнитного поля на основе полупроводниковых<br />
гетероструктур InSb/i-GaAs.<br />
Предварительно, для изучения радиационно-физических процессов в<br />
облученных полупроводниках, в ЛМС были выращены методом CVD<br />
структурно совершенные монокристаллические вискеры InSb, InAs и их<br />
твердые растворы InAsxSb1-x. Будучи практически бездефектными, они являются<br />
5
прекрасным модельным материалом для изучения влияния вводимых<br />
облучением радиационных дефектов на электрофизические свойства<br />
полупроводникового материала и определения его оптимальных исходных<br />
параметров для создания радиационно-стойких сенсоров [3].<br />
Методы повышения радиационной стойкости указанных<br />
полупроводников включают как химическое легирование комплексом<br />
донорных, изовалентных и редкоземельных примесей, так и другие технологии,<br />
составляющие ноу-хау разработчиков.<br />
Испытания радиационной стойкости полупроводниковых материалов и<br />
сенсоров проводились в нейтронных потоках исследовательских ядерных<br />
реакторов ИБР-2 (ОИЯИ, Дубна), ВВР-М (ПИЯФ, Гатчина) и LVR-15 (Rež, Czech<br />
Republic).<br />
Для проведения испытаний до высоких флюенсов нейтронов в ЛМС была<br />
создана специальная многофункциональная аппаратура, позволяющая проводить<br />
измерения параметров сенсоров в режиме реального времени во время их облучения<br />
в каналах ядерных реакторов (on-line измерения). Она включает оснастку для<br />
размещения тестируемых образцов в канале реактора, источник магнитного поля,<br />
управляющую электронику, линии связи и программное обеспечение, позволяющее<br />
получать информацию по сети интернет за тысячи километров от места проведения<br />
испытаний на протяжении нескольких месяцев длительности эксперимента [4].<br />
Проведенные испытания показали работоспособность<br />
полупроводниковых сенсоров в потоках нейтронов до самых высоких флюенсов<br />
F = 3∙10 18 н∙см -2 , превышающих уровень максимальной радиационной нагрузки<br />
в местах размещения steady-state сенсоров в ITER. При этом, изменение<br />
чувствительности сенсоров при облучении нейтронами до флюенов 10 15 н∙см -2<br />
составляет всего лишь 0,04%, при флюенсах 10 16 н∙см -2 – 0,08%, при самых<br />
высоких флюенсах 10 17 н∙см -2 ÷ 10 18 н∙см -2 дрейф чувствительности составляет<br />
всего лишь (5÷10)%.<br />
Для обеспечения требуемой высокой точности измерения (0,1÷0,3)%<br />
указанный уровень дрейфа сигнала сенсоров поддается периодической<br />
коррекции. Для решения этой задачи была разработана специальная<br />
электронная аппаратура. Она является многофункциональной и способной<br />
обеспечить периодическую диагностику и автоматическую коррекцию сигнала<br />
сенсоров без их переустановки в течение времени жизни ITER. Метод<br />
6
диагностики основан на периодическом измерении сигнала, обусловленного<br />
тестовым магнитным полем, которое создается медным микросоленоидом, в<br />
котором размещается сенсор, и не зависит от накопления радиационной дозы.<br />
Разработаны также методы обработки сигнала, основанные на синхронном<br />
детектировании, позволяющие выделить сигнал тестового магнитного поля<br />
(5 мТл) из тороидального поля ITER (5 Тл), превышающего тестовое поле в<br />
тысячу раз.<br />
Созданная магнитоизмерительная аппаратура на основе радиационно-<br />
стойких сенсоров была установлена и успешно апробирована в самых больших из<br />
действующих токамаков TORE SUPRA (Франция) и JET (Великобритания) [5].<br />
JET является наилучшим из токамаков для оценки радиационной<br />
стойкости в радиационном поле, подобном тому, которое ожидается в реакторах<br />
следующего поколения. В 2009 г. во время экспериментальной дейтериевой<br />
сессии на JET были установлены шесть комплектов нашей<br />
магнитоизмерительной аппаратуры с радиационно-стойкими 3D сенсорами. На<br />
протяжении всей сессии с июля по октябрь 2009 г. все шесть комплектов<br />
аппаратуры работали без сбоя, полученные результаты измерений хорошо<br />
совпадали с расчѐтными. Эти результаты оценены руководством JET как<br />
перспективные для ITER.<br />
Разработанные методы измерения магнитных полей защищены как<br />
национальными патентами, так и патентами Великобритании (2009) и Франции<br />
(2010).<br />
Работа выполнена при поддержке проектов УНТЦ, а также в рамках<br />
Соглашения с НИЯУ «МИФИ» о сотрудничестве в научной и академической<br />
областях от 12.12.2006 г.<br />
Литература:<br />
1. Vayakis G., Walker C. Magnetic Diagnostics for ITER/BPX plasmas // Rev. Sci.<br />
Instrum., 2003, vol.74, № 4, p.2409-2417.<br />
2. Bolshakova I., Duran I., Holyaka R., at al. Performance of Hall Sensor-Based Devices<br />
for Magnetic Field Diagnosis at Fusion Reactors // Sensor Letters, 2007, vol.5, p.283-288.<br />
3. Bolshakova I., Boiko V., Brudnyi V., at al. The effect of neutron irradiation on the<br />
properties of n-InSb whiskers // Semiconductors (Fizika i tekhnika poluprovodnicov),<br />
2005, vol.39, №7, p.780-785.<br />
7
4. Bolshakova I., Chekanov V., Leroy C., at al. Methods and Instrumentation for<br />
Investigating Hall Sensors During Their Irradiation in Nuclear Research Reactors // IEEE<br />
Xplore: Advancements in Nuclear Instrumentation, Measurement Methods and their<br />
Application, 2010, P.1-6.<br />
http://ieeexplore.ieee.org/xpl/freeabs_all.jsp?arnumber=5503722.<br />
5. Murari A., Edlington T., Angelone M., Bertalot L., Bolshakova I. at al, JET-EFDA<br />
Contributors. Measuring the radiation field and radiation hard detectors at JET:<br />
Recent developments // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A.,<br />
2008, vol.593, p.492-504.<br />
8
ЭРОЗИОННЫЕ ИСПЫТАНИЯ МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ<br />
ДИАГНОСТИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ РЕАКТОРА ITER<br />
М. Матвеева 1 , A. Литновский 1 , L. Marot 2 , B. Eren 2 , V. Philipps 1 , A. Pospieszczyk 1 ,<br />
H. Stoschus 1 , Д. Матвеев 3 и U. Samm 1<br />
1 Institut für Energieforschung-Plasmaphysik, Forschungszentrum Jülich GmbH,<br />
Assoziation EURATOM-FZ-Jülich, Trilaterales Euregio Cluster, Jülich, Germany<br />
2 Department of Physics, University of Basel, Klingelbergstr. 82, Basel, Switzerland<br />
3 Department of Applied Physics, Ghent University, Plateaustr. 22, Ghent, Belgium<br />
Аннотация<br />
Данная работа посвящена исследованию материалов, предлагаемых для<br />
изготовления так называемых первых диагностических зеркал реактора ITER в<br />
условиях эрозии. Представлены результаты экспериментов в токамаке<br />
TEXTOR, а также анализ возможности применения рассмотренных концепций<br />
зеркал для диагностик ITER. Показано, что все рассмотренные концепции<br />
подходят для применения в условиях умеренной эрозии в случае применения<br />
защитных методик и установки зеркал вглубь портов. Монокристаллические<br />
молибденовые зеркала продемонстрировали наивысшую устойчивость к<br />
сильной эрозии, ожидаемой в верхнем порту установки в случае газонапуска.<br />
Введение<br />
ITER будет нуждаться в точных измерениях широкого диапазона<br />
параметров <strong>плазмы</strong>, необходимых для защиты реактора, контроля <strong>плазмы</strong> и<br />
выполнения исследовательской программы [1]. Для этого будет использовано<br />
большое число различных диагностик, в том числе оптических, в которых в<br />
качестве первого элемента, обращенного к плазме, будут установлены<br />
металлические зеркала. Таким образом, время жизни зеркал будет критическим<br />
параметром для соответствующих диагностик [2]. Зеркала будут подвержены<br />
облучению нейтронами, гамма-излучением, большими потоками частиц.<br />
Наибольшее влияние на характеристики зеркала оказывает осаждение примесей<br />
на его поверхность или эрозия поверхности, осуществляемая атомами<br />
перезарядки с потоками порядка 10 19 –10 21 ат/м 2 с и энергиями до нескольких кэВ<br />
[3]. Отражательная способность зеркала в условиях эрозии зависит в основном<br />
от материала зеркала [4]. Данная работа основана на изучении изменения<br />
9
характеристик зеркал, предполагаемых к использованию в диагностических<br />
системах ITER. Эксперименты проводились в токамаке TEXTOR.<br />
Изготовление и определение параметров зеркал<br />
Зеркала с родиевым (Rh) и молибденовым (Мо) покрытиями на<br />
различных подложках, изготовленные в Университете города Базель [5],<br />
исследовались совместно с монокристаллическими молибденовыми зеркалами<br />
(SC Mo). SC Mo зеркала имеют ряд преимуществ по сравнению с<br />
поликристаллическими Мо зеркалами [6], однако ограничены в размерах.<br />
Измерение оптических и поверхностных характеристик зеркал производилось в<br />
Базеле и в лаборатории MirrorLab научного центра в Юлихе [7]. Вторичная<br />
ионная масс-спектрометрия (ВИМС) была использована для элементного<br />
анализа и анализа распределения элементов по глубине. Для измерения<br />
толщины пленок производилось исследование кратеров ВИМС с помощью<br />
профилометра DEKTAK. Полная и диффузная отражательная способности<br />
зеркал были измерены с помощью двулучевого спектрофотометра Lambda 950.<br />
Эксперименты в токамаке TEXTOR<br />
Было проведено два эксперимента с 3<br />
зеркалами каждый. Зеркала были установлены<br />
на тест-лимитере (Рис. 1) в пристеночной плазме<br />
токамака. Первый эксперимент проводился при<br />
умеренных эрозионных условиях: полный поток<br />
частиц на центр зеркал составил около 5.9×10 24<br />
ионов/м 2 . Параметры <strong>плазмы</strong> у поверхности<br />
зеркал, усредненные по всем разрядам, были<br />
ne = 2.6×10 18 м -3 , Te = 36 эВ. Температура<br />
поверхности зеркал во время разряда не превышала 570° C. Для этого<br />
эксперимента были использованы Rh и Mo покрытия на Мо подложке,<br />
изготовленные с помощью метода выпаривания, а также монокристаллическое<br />
Мо зеркало. Во время выращивания Мо пленки наблюдалось окисление ее<br />
поверхности, а после напыления – частичное ее отслаивание.<br />
Второй эксперимент производился с целью обнаружения предела<br />
применения зеркал при более интенсивных потоках частиц. Во время этого<br />
эксперимента исследовалось SC Mo зеркало наряду с Rh пленкой на<br />
10<br />
20°<br />
B<br />
Рис. 1: Тест- лимитер с<br />
зеркалами после эксперимента
вольфрамовой (W) подложке и Мо пленкой на молибденовой подложке,<br />
выращенной методом магнетронного распыления. Вольфрамовая подложка для<br />
зеркала с родиевым покрытием была выбрана как не образующая сплав с<br />
родием при высоких температурах, ожидавшихся во время эксперимента.<br />
Полный поток частиц на центр каждого из зеркал составил около 1.4×10 25<br />
ионов/м 2 , что в 2.3 раза больше, чем в предыдущем эксперименте. Усредненная<br />
по всем разрядам плотность <strong>плазмы</strong> около зеркал составила 3.6×10 18 м -3 при<br />
электронной температуре 31 эВ. Температура поверхности зеркал во время<br />
разряда находилась в пределах 670° C-1300° C.<br />
Результаты экспериментов<br />
В первом эксперименте зеркала<br />
продемонстрировали удовлетворительные<br />
результаты: изменение полного коэфициэнта<br />
отражения после облучения не превысило 4% в<br />
диапазоне длин волн от 250 до 2500 нм.<br />
Родиевое покрытие на вольфрамовой подложке,<br />
выбранное для второго эксперимента,<br />
изначально имело несколько отслоившихся<br />
участков. Плотность таких участков с размерами, превышающими 10 мкм, была<br />
около 120 единиц на мм 2 (Рис. 2а), однако их суммарная площадь не превышала<br />
1% поверхности зеркала.<br />
После эксперимента в токамаке TEXTOR родиевое зеркало было<br />
распылено в центре на 340 нм. За счет неоднородного распыления увеличилась<br />
шероховатость поверхности (Рис. 2b), что привело к росту диффузной<br />
11<br />
Рис. 2: Родиевое (Rh) покрытие на<br />
вольфраме (W) с отслоившимся<br />
участком до (a) и после (b)<br />
экспозиции (оптический микроскоп)<br />
Рис. 3: Диффузная (a) и зеркальная (b) отражательная способность зеркала с Rh<br />
покрытием до и после эксперимента (справочные данные [8])
компоненты отраженного света (Рис. 3а) с соответствующим уменьшением<br />
зеркально отраженного света (до 25% в УФ диапазоне (Рис. 3b)).<br />
После распыления 120 нм поверхность зеркала с Мо покрытием осталась<br />
неповрежденной, за исключением пары участков. Диффузная составляющая<br />
отраженного света увеличилась до 2.5% в УФ, оставаясь порядка 1% в видимой<br />
и ИК областях. Коэффициент зеркального отражения уменьшился на 4% в ИК<br />
области и на 12% в УФ (Рис. 4а).<br />
Рис. 4: Зеркальная отражательная способность зеркала с Mo покрытием (a) и SC Mo<br />
зеркала (b) до и после эксперимента (справочные данные [8])<br />
Шероховатость монокристаллического Mo зеркала осталась �2 нм, что<br />
подтверждается низкой, порядка 1%, диффузной отражательной способностью.<br />
Однородное распыление монокристала является его преимуществом и<br />
объясняется одинаковой ориентацией кристаллической решетки вдоль всей<br />
поверхности зеркала. Коэффициент зеркального отражения света уменьшился<br />
на 4% в ИК диапазоне (Рис. 4b), подобно всем изученным Мо зеркалам вне<br />
зависимости от количества распыленного материала. Для сравнения,<br />
шероховатость зеркала с Rh покрытием была порядка 20 нм.<br />
Обсуждение<br />
Все исследованные зеркала продемонстрировали удовлетворительные<br />
результаты в случае умернных эрозионных условий. Полный поток в первом<br />
эксперименте сравним с более чем 350 разрядами ITER для зеркал,<br />
установленных в экваториальных портах, и 10 разрядами для зеркал в верхних<br />
портах в случае газонапуска. Данные расчеты выполнены для зеркал,<br />
установленных в диагностических портах на уровне первой стенки [3]. Во<br />
втором эксперименте поток на зеркала соответствовал примерно 850 разрядам<br />
ITER для зеркал, находящихся в экваториальных портах, или 25 разрядам в<br />
случае верхних портов при условии газонапуска. Молибденовые зеркала<br />
сохранили свои оптические свойства, и лишь небольшое ухудшение в УФ<br />
12
области было выявлено для зеркала с Мо покрытием. Распыление поверхности<br />
и внедрение частиц привели к значительному ухудшению, достигающему 25% в<br />
УФ диапазоне, отражательной способности зеркала с Rh покрытием. С другой<br />
стороны, реалистичный сценарий предполагает установку первых зеркал глубже<br />
в портах ITER и применение защитных методов, таких как диафрагмы,<br />
открытые только во время измерений. Такие меры могут уменьшить поток на<br />
поверхность зеркала на порядки величины [9,10]. В этом случае все<br />
исследованные концепции зеркал могут применяться в ITER, однако<br />
монокристаллические молибденовые зеркала остаются предпочтительными для<br />
использования в условиях эрозии. В связи с тем, что наибольшее технически<br />
доступное SC Mo зеркало имеет размер порядка 10 см в диаметре [2], основные<br />
усилия должны быть направлены на производство зеркал больших размеров.<br />
Зеркала с использованием покрытий представляют собой многообещающую<br />
альтернативу для диагностик ITER, однако технология их изготовления должна<br />
быть усовершенствована и в дальнейшем выведена на промышленный уровень.<br />
Литература<br />
1. V. Mukhovatov et al, Plasma Phys. Control. Fusion 45 (2003) A235–A252<br />
2. A. Litnovsky et al, Nucl. Fusion 49 (2009) 075014<br />
3. V. Kotov et al, Journal of Nuclear Materials 390–391 (2009) 528–531<br />
4. A. Litnovsky et al, Journal of Nuclear Materials 363–365 (2007) 1395–1402<br />
5. L. Marot et al. Surf. Coat. Tech. 202 (2008) 2837<br />
6. A. Litnovsky et al, Fusion Engineering and Design 82 (2007) 123–132<br />
7. https://tec.ipp.kfa-juelich.de/mirrorlab/ Access details: mirrorlab@fz-<br />
juelich.de<br />
8. E.D. Palik (Ed.), Handbook of Optical Constants of Solids, Academic Press,<br />
1985<br />
9. J.N. Brooks and J.P. Allain, Nucl. Fusion 48 (2008) 045003<br />
10. A.E. Costley et al, Fusion Engineering and Design 55 (2001) 331-346<br />
13
ПРИМЕНЕНИЕ ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОГО<br />
РЕФРАКТОМЕТРА 150 ГГц ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ СРЕДНЕЙ<br />
ПЛОТНОСТИ ПЛАЗМЫ НА ТОКАМАКЕ-10<br />
Е.П.Горбунов 1 , А.А.Петров 2 , В.Г.Петров 2 , Д.С.Сергеев, 1 Ю.В.Скосырев 1<br />
1. Российский научный центр‖ Курчатовский институт‖<br />
2. ФГУП ― ГНЦ РФ ТРИНИТИ ‖<br />
Для экспериментов на Токамаке-10 весьма актуальной сейчас является<br />
наличие надежной (бессбойной) информации о плотности <strong>плазмы</strong>,<br />
определяемой по концентрации электронов, в реальном времени для управления<br />
поведением плотности <strong>плазмы</strong> в течение импульса разряда с применением<br />
обратной связи. На токамаках в Курчатовском институте с 60-х годов для<br />
определения средней по хорде зондирования концентрации электронов в<br />
плазменном шнуре применяются одноканальные СВЧ-интерферометры<br />
миллиметрового диапазона длин волн [1].<br />
Для определения профиля плотности <strong>плазмы</strong> используется<br />
многохордовое фазовое зондирование плазменного шнура [2] с более короткими<br />
волнами. На Токамаке-10 такое зондирование проводится по 8 вертикальным<br />
хордам на длине волны 0,9 мм с генератором ЛОВ [3] и по 8 хордам на длине<br />
волны 337 мкм с HCN – лазером [4]. Сигналы с центральных хорд этих<br />
интерферометров используются для определения и управления уровнем средней<br />
плотности <strong>плазмы</strong> в течение импульса разряда.<br />
К сожалению, иногда электромагнитные помехи приводят к появлению<br />
резкого «перескока» фазового сигнала, не отражающего физический процесс в<br />
плазме, а являющегося следствием воздействия помехи на системы регистрации<br />
интерферометров, в которых применены двоичные делители частоты для<br />
преобразования большого фазового сдвига от <strong>плазмы</strong> в сдвиг менее 2π радиан.<br />
При последующей обработке данных о профиле плотности используются<br />
различные алгоритмы для восстановления информации, но для управления<br />
параметрами разряда по величине средней плотности нужны надѐжные данные<br />
в реальном времени.<br />
14
Для уменьшения влияния электрических помех во всех интерферометрах<br />
применяются полосовые усилители на рабочей промежуточной частоте [1] .<br />
При исследовании на Токамаке-10 процессов с быстрым изменением плотности<br />
<strong>плазмы</strong> (инжекция пеллет, срыв тока) необходимо заранее определить<br />
необходимую широкополосность во избежание ошибок. Теория таких<br />
процессов рассмотрена в работе [5] , а наблюдающиеся явления при измерениях<br />
с интерферометрами на Токамаке-10 были рассмотрены в работе [6]. На рис. 3<br />
приводится пример влияния помехи на ― перескок ― фазы в СВЧ-<br />
интерферометре и реакция клапана напуска рабочего газа.<br />
Сейчас на Токамаке-10 проводится работа по наладке прибора<br />
―Дифференциальный Рефрактометр‖ с частотой зондирования 150 ГГц. Для<br />
этой частоты плазма с плотностью до 2,5.10 14 см -3 прозрачна. Метод впервые<br />
был применен в экспериментах на Токамаке -11 в ТРИНИТИ [7] .Принцип<br />
действия прибора основан на измерении разности фаз между двумя<br />
зондирующими пучками с близкими частотами и проходящих вдоль одной и<br />
той же хорды. После изготовления макета в ТРИНИТИ для Токамака-10 в нем<br />
заменены лучеводные элементы и добавлен второй канал для будущих<br />
двухканальных измерений. Для защиты от мощного излучения от гиротронов с<br />
частотой 130 ГГц и 140 ГГц вмонтирован волноводный фильтр перед<br />
измерительным детектором с ослаблением 40 дБ на указанных частотах<br />
гиротронов.<br />
Проводится испытание прибора в различных режимах плазменных<br />
разрядов при омическом и с дополнительным нагревом от гиротронов.<br />
Установленный волноводный фильтр пока полностью защищают<br />
чувствительный ДБШ - детектор при вводе в плазму мощности от гиротронов<br />
до 600 кВт с длительностью 100 мсек. Готовятся эксперименты с суммарной<br />
мощностью от четырѐх гиротронов 4 МВт.<br />
Аналоговый сигнал от рефрактометра подаѐтся через АЦП в базу данных<br />
Т-10. Получено удовлетворительное согласие (Рис.4) в показаниях фазового<br />
сдвига рефрактометра (кривая 1, зондирование вертикально через центр<br />
<strong>плазмы</strong>), лазерного интерферометра (кривая 2 , хорда +8,4 см) и СВЧ –<br />
интерферометра (кривая 3, хорда +4,2 см). Продемонстрирована бессбойность<br />
метода.<br />
15
Для управления газонапуском необходимо устранить небольшие<br />
колебания на выходном напряжении рефрактометра, которые возможно<br />
обусловлены переотражениями в тракте, в том числе и внутри металлической<br />
камеры Т-10.<br />
Прибор прост в эксплуатации. Настроенный прибор готов к работе сразу<br />
после подачи электропитания. Твердотельные микроволновые генераторы<br />
имеют большой срок службы. Данный рефрактометр может быть применен на<br />
других плазменных установках с квазистационарным разрядом при<br />
концентрации электронов менее 2,5.10 14 см -3 . Фазовая чувствительность 10<br />
мВ/град.<br />
В.<br />
Рис.1. Микроволновые полупроводниковые генераторы с блоками<br />
питания и квазиоптическая часть рефрактометра на Токамаке-10.<br />
Рис.2. Калибровка дифференциального рефрактометра – зависимость между<br />
измеряемым фазовым сдвигом и линейной плотностью nL .Изменение разности<br />
фаз на 180 град. соответствует изменению напряжения на выходе фазометра на 1,8<br />
16
Рис.3.Фазовый сдвиг в рефрактометре (1) при ―ложном перескоке‖ фазы вниз<br />
в СВЧ-интерферометре (2) в режиме с обратной связью по газонапуску.<br />
Литература:<br />
Рис.4. Сравнение показаний трех приборов.<br />
1. Горбунов Е.П. В сб. Диагностика <strong>плазмы</strong>, Госатомиздат, М. 1963, с.68-77<br />
2. Горбунов Е.П., Днестровский Ю.Н., Костомаров В.П. ЖТФ, 1968, т.38, вып.5,<br />
с.812-817.<br />
3. Багдасаров А.А., Бузанкин В.В., Васин Н.Л., и др. В кн.: Диагностика <strong>плазмы</strong>,<br />
М. Энергоиздат, 1981, с.141-146<br />
4. Горбунов Е.П., Кулешов Е.М., Нестеров П.К. и др. Физика <strong>плазмы</strong>,т.18, в.2,<br />
1992, с. 162<br />
5. Хилиль В.В. В кн. Диагностика <strong>плазмы</strong>, М.,Атомиздат,1973, вып.3,с.404-411.<br />
6. Горбунов Е.П., Денисов В.Ф., Крупин В.А. и др. В сб.материалов IV<br />
Российского семинара ― Современные средства диагностики <strong>плазмы</strong> и их<br />
применение для контроля веществ и окружающей среды‖.М.,МИФИ, 12-14<br />
ноября 2003 г,с.55-57.<br />
7. Петров В.Г., Петров А.А., Малышев А.Ю. и др. ПТЭ, 2006, №2, .99-104.<br />
17
ИССЛЕДОВАНИЕ ДИНАМИКИ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ В<br />
ТОКАМАКЕ ТУМАН-3М С ПОМОЩЬЮ HIBP МЕТОДОМ<br />
ДВУХТОЧЕЧНОГО ЗОНДИРОВАНИЯ<br />
А.А. Белокуров 1 , Л.Г. Аскинази 2<br />
1. Санкт-Петербургский Государственный Политехнический университет<br />
2. ФТИ им. А.Ф. Иоффе<br />
Исследование радиальной и полоидальной компонент электрического<br />
поля в токамаке является важной задачей физики <strong>плазмы</strong> и УТС; информация<br />
об этих полях, их распределении и динамике может стать эффективным<br />
инструментом исследования аномального переноса.<br />
Диагностика пучком тяжелых ионов (Heavy Ion Beam Probe) – мощный<br />
инструмент, позволяющий производить невозмущающее локальное<br />
исследование целого ряда параметров <strong>плазмы</strong>: потенциала, электронной<br />
концентрации, магнитного поля, а также, что особо важно, флуктуаций этих<br />
величин. Основная физическая величина, измеряемая с помощью HIBP – это<br />
электростатический потенциал <strong>плазмы</strong>; однако, исследование радиального<br />
распределения потенциала не дает информацию о флуктуациях электрического<br />
поля, так как с помощью HIBP можно получить Er только как результат<br />
численного дифференцирования профиля потенциала. Проведение<br />
одновременных измерений потенциала в двух пространственных точках <strong>плазмы</strong><br />
позволит проводить с точностью до расстояния между точками локальные<br />
прямые измерения электрического поля и, таким образом, дает возможность<br />
измерения флуктуаций.<br />
На токамаке ТУМАН-3М [1] реализован диагностический комплекс<br />
HIBP с возможностью двухточечного зондирования <strong>плазмы</strong> [2]. Для<br />
детектирования вторичных ионов используется 30 о анализатор типа «плоское<br />
зеркало» Прока-Грина. В этом случае на два независимых трехканальных<br />
детектора поступают пучки вторичных ионов из соседних точек <strong>плазмы</strong>;<br />
расстояние между исследуемыми точками вторичной ионизации определяется<br />
расстоянием между щелями анализатора.<br />
Необходимо отметить, что при исследовании <strong>плазмы</strong> токамака с<br />
помощью HIBP положение и размер исследуемой области можно определить<br />
18
только расчѐтным путѐм. Реальные системы инжекции ионов обладают<br />
некоторой погрешностью, поэтому расчетные траектории даже при заданных<br />
параметрах инжекции не являются абсолютно точными. Решить задачу<br />
локализации может использование системы контроля первичного пучка,<br />
позволяющей точно задать координаты влета первичного пучка в плазму, т.е.<br />
определить точные начальные условия для расчета траекторий.<br />
На токамаке ТУМАН-3М существует подобная система контроля<br />
первичного пучка. Она представляет собой сеточный детектор, расположенный<br />
во входном патрубке токамака. Для максимально эффективного исследования<br />
электрического поля данная система была усовершенствована; разработан и<br />
реализован программно-аппаратный комплекс автоматизации измерений<br />
(рис. 1): электронная система позволяет эффективно собирать сигналы с 10<br />
каналов и при помощи мультиплексора подавать их через АЦП на компьютер.<br />
Рис. 1. Блок-схема системы контроля первичного пучка<br />
Рис. 1. Блок-схема системы контроля первичного пучка<br />
Специально созданное для этой задачи программное обеспечение обрабатывает<br />
сигнал с проволочек и восстанавливает значения координат центра пучка, его<br />
ширины и полного тока. Комплекс позволяет оперативно определять не только<br />
координаты влета пучка в плазму, но и угол влета как функцию напряжения на<br />
отклоняющих пластинах инжектора; это дает возможность более точно задать<br />
начальные условия для моделирования траекторий пучка в плазме и определить<br />
положение объема вторичной ионизации.<br />
Одна из проблем при исследовании электрического поля на токамаке<br />
ТУМАН-3М заключается в том, что анализатор ионов вторичного пучка<br />
подвержен засветке детекторных пластин и корпуса ультрафиолетовым и<br />
рентгеновским излучением из <strong>плазмы</strong>, что приводит к эмиссии электронов. Это<br />
дает дополнительный вклад в значение тока на детекторных пластинах, причем<br />
ошибка может быть обоих знаков: положительная при эмиссии электронов из<br />
детекторных пластин и отрицательная при попадании выбитых из корпуса<br />
19
электронов на детектор. Для борьбы с этим явлением используется специальный<br />
подавляющий электрод, установленный на детекторе, к которому подведен<br />
отрицательный потенциал. Важно, чтобы значение потенциала на электроде не<br />
было слишком большим – это может вызвать дополнительный поток<br />
электронов, выбитых из элементов конструкции, «засасываемых» полем. Чтобы<br />
узнать величину погрешности за счет фоновой засветки, были сделаны оценки<br />
для тока вторичных ионов, проведено экспериментальное исследование влияния<br />
фоновой засветки на сигнал детектора вторичных ионов. В результате<br />
эксперимента было обнаружено, что разные каналы детектора дают<br />
существенно разный результат - различие может быть связано с особенностями<br />
взаимного расположения детекторов и подавляющего электрода. В связи с этим<br />
была решена задача об определении оптимального напряжения на подавляющем<br />
электроде. Паразитные токи фоновой засветки при оптимальном напряжении<br />
равны 0.5-2 нА; исходя из оценки для тока вторичных ионов 20 нА, можно<br />
считать погрешность малой в режиме с оптимальным напряжением подавления.<br />
В связи с установкой на токамак двущхелевого анализатора возникает<br />
необходимость поиска таких наборов параметров инжекции (энергия ионов,<br />
тороидальное магнитное поле, угол инжекции, ток по плазме, etc.), при которых<br />
точки детектирования отстоят друг от друга только в радиальном или только в<br />
полоидальном направлении. Такие пары точек позволяют проводить измерения<br />
радиального или полоидального поля как отношение разности потенциалов в<br />
двух точках ионизации к межточечному расстоянию. Расстояние между точками<br />
составляет от 1 до 5 мм; характерный масштаб изменения электрического поля<br />
порядка 1 см на периферии в области транспортного барьера и порядка 10 см в<br />
центре токамака. Следовательно, соблюдено условие локальности диагностики.<br />
Установлено, что в режиме двухточечного зондирования при исследовании<br />
радиального электрического поля область, в которой можно проводить<br />
исследования, покрывает значительную часть сечения токамака (рис. 2), что при<br />
соответствующем подборе параметров дает возможность проводить<br />
исследования как центральной области, так и периферии плазменного шнура.<br />
Полоидальное поле можно измерять только в конкретных точках в центральной<br />
области <strong>плазмы</strong> при точно заданных параметрах диагностики (рис. 3). Это<br />
связано с тем, что даже при фиксированных энергии и угле инжекции<br />
небольшое отклонение величины магнитного поля от заданной приводит к<br />
изменению взаимного расположения точек вторичной ионизации и к появлению<br />
20
радиального смещения, не позволяющего однозначно выделить полоидальную<br />
компоненту электрического поля.<br />
.<br />
Литература:<br />
1. Vorobiev G.M., Golant V.E., Lebedev S.V. et al // Sov. J. Plasma Phys. (Fisika<br />
Plazmy). 1983. vol.9. p. 65.<br />
2. Askinazi L.G.; Kornev V.A.; Lebedev S.V. et al // Rev. Sci. Instrum. 75, 2004, 10<br />
Part 2 3517-3519.<br />
Y, cm<br />
Y, cm<br />
0<br />
-5<br />
-10<br />
10<br />
5<br />
0<br />
E=95 keV, �=25 o , B � =0.83 - 0.97 T<br />
0 5 10 15 20<br />
E = 75 keV, �=25 o , B�=0.8 T<br />
0 5 10<br />
21<br />
E = 80 keV, �=26 o , B�=0.8 T<br />
X, cm<br />
X, cm<br />
Рис. 2. Пример положения точек вторичной ионизации при<br />
измерении радиального электрического поля<br />
E = 85 keV, �=28 o , B�=0.8 T<br />
Рис. 3. Пример положения точек вторичной ионизации при<br />
измерении полоидального электрического поля
LASER INDUCED DESORPTION AS TRITIUM RETENTION<br />
DIAGNOSTIC METHOD<br />
STATUS & PLANS FOR EXPERIMENT AND THEORY<br />
M. Zlobinski, V. Philipps, A. Huber, B. Schweer, the TEXTOR Team et al.<br />
Forschungszentrum Jülich GmbH, Institute of Energy Research, IEF-4: Plasma<br />
Physics, 52425 Jülich, GERMANY, Association EURATOM-FZJ, Partner in the<br />
Trilateral Euregio Cluster<br />
Abstract:<br />
Measurement and control of long term tritium retention is one of the most<br />
critical issues for ITER and future fusion devices. Since the measurement of the<br />
hydrogenic retention by post mortem tile analysis becomes more and more difficult in<br />
future devices due to active water cooling and tile activation Laser Induced<br />
Desorption Spectroscopy (LIDS) is under development in TEXTOR to provide a tool<br />
to measure the tritium inventory in-situ without tile removal. The method is based on<br />
rapid spot laser heating and consecutive detection of thermally released hydrogen by<br />
spectroscopic detection of Balmer line emission. This talk presents a short overview<br />
of the LIDS setup, the laser heating process, the optical detection and data evaluation<br />
as well as the application of laser desorption to map the hydrogen content on a<br />
TEXTOR ALT limiter tile with erosion areas and deposition dominated areas with<br />
thick a-C:H layers in a laboratory setup, demonstrating the ability to create a 2D<br />
mapping of the hydrogenic inventory without damaging the substrate.<br />
Unacceptable long term retention of the fuel (tritium) in the walls of fusion<br />
devices is one of the critical issues for development of a fusion reactor. In order to<br />
have a solid base for the tritium retention behaviour in the activated phase of ITER, a<br />
detailed analysis of fuel retention is needed already in the non activated phase, to<br />
prove the predictions on retention and to qualify the tritium control schemes. The<br />
main goals are the identification of the amount of retention, its spatial distribution, its<br />
dependence on plasma operation and wall conditions and the qualification of tritium<br />
retention mitigation and cleaning techniques. The vast majority of data on fuel<br />
retention in present devices is based on post mortem analyses if tiles are taken out of<br />
22
fusion devices after a certain amount of operation, averaging thus normally over a<br />
variety of wall and plasma conditions. In addition, these measurements become more<br />
and more difficult with actively cooled tiles, which are activated with tritium and, in<br />
case of ITER, contaminated with Be. For this purpose LIDS is under development<br />
both in lab experiments and in the TEXTOR tokamak. The technique has been already<br />
successfully tested and approved to measure in-situ in TEXTOR the hydrogen content<br />
of thin (d < 500 nm) amorphous hydrocarbon layers (a-C:H layers) on graphite,<br />
showing a reasonable matching of data measured in-situ in TEXTOR with laboratory<br />
data on the same layers [1, 5]. The present activities are the extension of LID to much<br />
thicker layers deposited on graphite and on tungsten, both in lab laser desorption and<br />
in-situ in the TEXTOR tokamak as well as the extension to the measurement of only<br />
plasma-implanted hydrogen isotopes into W and W/C mixed substrates.<br />
The experimental setup and detection system of LIDS has been presented<br />
earlier in [1, 4]. Nevertheless a short update of the LIDS diagnostic will be given. For<br />
applying LIDS in fusion reactors a different setup with coaxial light paths for the laser<br />
and the collected light is being developed in order to reach the main plasma-wall<br />
interaction areas in ITER. This rather technical issues will not be addressed in the<br />
talk, although they are extensively investigated in our institute. With this<br />
improvements LIDS could become a highly valuable in-situ tritium monitoring<br />
system in the future. We propose this new setup as part of a combined laser wall<br />
characterization system for ITER, see [2]. For the development of LIDS and a more<br />
detailed analysis of the desorption process a laboratory method called LID-QMS has<br />
been developed, which has been presented in a similar setup in [3]. It will be reviewed<br />
quickly with a focus on the parameters used for the exemplary results presented in this<br />
talk.<br />
The physics of a typical LID measurement can briefly be summarized as<br />
follows: A high energy Nd:YAG laser pulse at 1064 nm wavelength with a nearly<br />
constant power throughout the pulse [3] with a duration of 3 ms is guided by fibre<br />
optics (fibre core diameter 400 µm) to a viewport above the limiter lock system [4] in<br />
TEXTOR. The multiple reflections inside the fibre produce a nearly constant spatial<br />
intensity distribution [3]. A lens images the laser to the sample position to be analyzed<br />
with a circular spot size with an area of 5.2 mm 2 . A 2.5 µm thick a-C:H layer (called<br />
―test layer‖) pre-coated on a tungsten substrate (with a Cr interlayer for better<br />
adhesion) was mounted on a holder with the surface tangential to the magnetic flux<br />
23
surfaces. The sample was placed 2 cm outside the last closed flux surface (LCFS) at a<br />
minor radius of 48 cm. The reflection of the laser light from the sample (14 %) was<br />
measured beforehand and added to the measured losses from reflections on the lenses<br />
and fibre (24 %) and the viewport window (8 %). The remaining light fraction (60 %)<br />
is mainly absorbed in the a-C:H layer, following the extinction coefficient of k = 0.2<br />
determined at 1064 nm by ellipsometry the layer thickness and applying Beer's law,<br />
��<br />
z 4�k<br />
I(<br />
z)<br />
� I0<br />
e with � �<br />
�<br />
giving an e-folding decay length of the light intensity of 0.4 µm. Here I is the light<br />
intensity and z is the depth from the surface. The temperature profile in the wall can<br />
be estimated roughly by<br />
�s<br />
�e � � serfc<br />
( ) �<br />
2 I t<br />
T(<br />
z)<br />
� T0<br />
�<br />
s<br />
� Kc�<br />
with<br />
s<br />
�<br />
2<br />
z<br />
�t<br />
24<br />
(1)<br />
(2)<br />
where T0 is the starting temperature (ca 400 K) and K, c,<br />
heat capacity and density of the heated material, respectively and t the time after the<br />
laser pulse. On graphite or tungsten with or without a thin a-C:H layer, the<br />
analytically calculated temperature is in good agreement with measured temperatures<br />
and more refined finite element calculations (Code: ANSYS) that solve the heat<br />
equation. For a standard surface temperature of 2000 K the temperature in 100 µm<br />
depth is around 1400 K, which is still enough for total desorption of hydrogen also<br />
from these depths. In the current case an initial laser energy of 22 J was used of which<br />
13 J remain for heating. This corresponds to an intensity of 85 kW/cm 2 , that led to an<br />
estimated temperature of ca 3100 °C. On the one hand this assures complete<br />
desorption, but causes partial removal of the layer and interlayer.<br />
The hydrogen releases mainly molecularly as H2 and in the case of deuterated<br />
layers also as HD and D2 with ca 12 % contribution from hydrocarbons. These species<br />
are then ionized, dissociated into atoms and excited by electron impact from the<br />
plasma. They are determined quantitatively in TEXTOR by local spectroscopy of the<br />
H-alpha light at 656 nm, when they emit photons during the de-excitation process. A<br />
narrow-band H-alpha filter was used with a FWHM of 1.5 nm, so that hydrogen and<br />
deuterium are detected simultaneously due to their small spectral separation of 0.18<br />
nm. The light is recorded by a 2D digital camera (Allied Vision Technology PIKE
F032B) with 0.3 MPixel, 14-bit depth resolution, 100 Hz framerate and an image<br />
intensifier. The camera and laser are synchronized via a common clock. For the<br />
detailed analysis of the desorption process a 500 Hz frame rate has been used utilizing<br />
an analog camera with 32 x 32 pixels. In future diodes with a much higher<br />
measurement rate will be used. After background subtraction by subtracting half of<br />
the intensity of the two neighbouring frames from each picture pixel by pixel the<br />
desorption image is obtained. By integration and multiplication of a calibration factor<br />
that accounts for the camera sensitivity, the amount of photons of each frame is<br />
calculated and transformed into the total amount of hydrogen and deuterium via<br />
conversion factors that include the photon to atom conversion (S/XB value) and a<br />
correction for the atomic yield factor. It takes into account that especially the<br />
hydrocarbon molecules dissociate weakly into hydrogen atoms compared to hydrogen<br />
molecules. This is due to the electron induced ionization and subsequent dissociation<br />
processes in the TEXTOR edge plasma that are summarized by the following<br />
dominant reaction:<br />
� �<br />
H2 � e � H2<br />
� H � H<br />
(3)<br />
generating only one neutral atom thus only one potential photon source. The atomic<br />
yield factor in the case of desorbing only H2 is therefore 2 - or for the case of only<br />
CH4 it is 5 for example. For the usual hydrocarbon fraction the atomic yield factor is<br />
2.2 to 2.6. In the present setup also a correction for the estimated light fraction outside<br />
the field of view has to be applied, which will not be needed in ITER.<br />
The heating process for LID-QMS is exactly the same as described above for LIDS<br />
but lower laser parameters have been chosen and therefore lower surface temperatures<br />
arise, in order to minimize surface changes. The detection of the released species is<br />
done by a quadrupole mass spectrometer. To optimize the sensitivity and obtain a<br />
complete spectrum of released species, the valve to the pumps is closed. The<br />
background mass spectrum is recorded with typically 15-50 ms/u after the flash laser<br />
desorption for 30 s. A simple fit procedure is then applied to the temporal behaviour<br />
of each mass peak from which the step of the mass signal due to the laser flash<br />
desorption is evaluated with high accuracy. The mass spectrometry is routinely<br />
calibrated with a calibrated gas injection for H2, D2, CH4, and C2H4. The parameters<br />
for the laser spot desorption on a TEXTOR ALT as well as typical desorption spectra<br />
will be presented in the talk.<br />
25
As an example the examination of the hydrogen retention on a limiter tile (fine<br />
grain graphite) of TEXTOR, which has faced the plasma for about 33200 s for more<br />
than two years of tokamak operation will be shown. The incoming hydrogen flux on<br />
the ALT limiter is routinely recorded spectroscopically by integrating the light in<br />
ploidal direction with a toroidal width of 1 cm. The light has been integrated for all<br />
the discharges in the corresponding time and converted to an average hydrogen flux<br />
density using a constant S/XB value of 20 and a calibration factor. In this way an<br />
averaged fluence of 1 . 10 26 /m 2 has been determined assuming toroidal symmetry of the<br />
flux density. The laser technique allows a spatial resolution of about 4 mm in this case<br />
and the whole limiter tile has been scanned in polidal and toridal direction. In the<br />
erosion dominated area, the hydrogen and deuterium retention amounts to about 5.5 .<br />
10 21 H/m 2 while the deuterium only is about 3.6 . 10 21 D/m 2 .<br />
During the operation period of the limiter tile, TEXTOR was operated in a<br />
mixture of H and D, since mostly H NBI was used, but in the average the deuterium<br />
plasma content was larger then the hydrogen. Evidently, part of the hydrogen<br />
retention is also from hydrogen background in the graphite as measured usually on<br />
non exposed graphite. One may speculate, that also fast H ions from not fully<br />
confined hydrogen beams may contribute to the increase in the hydrogen retention in<br />
the net erosion zone above a value expected from the H/D ratio of the thermalised<br />
plasma, since they can penetrate deeper into the material. Thus the total hydrogenic<br />
retention in the net erosion zone is about 10 22 H+D/m 2 . The limiter tile temperature<br />
during TEXTOR operation is routinely between 100 and 200 °C but may also<br />
temporally increase due to high heating power operation. In the deposition dominated<br />
area the hydrogenic retention is increased by factors up to 18 for hydrogen and 14 for<br />
deuterium, reaching values of the order of 10 23 H&D/m2. The H/D ratio is typically<br />
between 1.2 and 2. The detailed balance of erosion and deposition depends on details<br />
of tile geometry, which is easily detectable by LID. To confirm the data from LID-<br />
QMS, the tile has been cut in pieces and normal slow ramp TDS and NRA has been<br />
performed on few locations. The comparision will be shown and discussed in the<br />
presentation.<br />
The amount of deuterium bound in hydrocarbons is usually in the range of 10<br />
to 15 %. The total D content is calculated by taking into account HD, D2, CD3H, CD4<br />
and C2D4 but further contributing species may also contribute. The D atoms in the<br />
hydrocarbons account for 12 % of the total D content in most cases for C substrates.<br />
26
LID-QMS has also been applied to determine the inventory on the tile sides in<br />
between two limiter tiles. A quick presentation of this gap deposition and a<br />
presentation of details about the a-C:H layer properties can be done if requested.<br />
The different release mechanisms of hydrogen from graphite, a-C:H layers and<br />
tungsten will be presented in the way how we understand the involved processes,<br />
which then shall be modeled in our cooperation. The talk will finish with a list of<br />
requirements and options for the development of a theory/model/simulation for the<br />
explanation of our experimental results. (For a preliminary list of requirements see<br />
next the page.) In the discussion after the talk, I on the other hand expect a list of<br />
experimentally measurable quantities that are needed for such a model from your side.<br />
References<br />
1. B.Schweer et al. / Journal of Nuclear Materials 390–391 (2009) 576–580<br />
2. A.Huber et al., SOFT conference 2010, P2-114, will be published soon<br />
3. B.Schweer et al. / Journal of Nuclear Materials 363–365 (2007) 1375–1379<br />
4. B.Schweer et al. / Fusion Science and Technology, 47 (2005) 138<br />
5. F.Irrek, Entwicklung einer In-situ-Messmethode zur Bestimmung des<br />
Wasserstoffgehalts amorpher Kohlenwasserstoffschichten in Fusionsanlagen,<br />
Forschungszentrum Jülich GmbH – Zentralbibliothek, Nr. 4279 (2008)<br />
27
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ПЕРЕОСАЖДЕНИЯ<br />
УГЛЕРОДНЫХ И МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ<br />
НА ОПТИЧЕСКИЕ ЭЛЕМЕНТЫ ДИАГНОСТИК<br />
ТОКАМАКА ИТЭР<br />
С.Е. Кривицкий 1 , К.Ю. Вуколов 2 , Т.Р. Мухаммедзянов 2 , А.Ю. Таранченко 2<br />
1. Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана<br />
2. Российский научный центр «Курчатовский институт»<br />
Диагностика параметров <strong>плазмы</strong> в строящемся Международном<br />
экспериментальном термоядерном реакторе ИТЭР будет проводиться в<br />
основном с использованием бесконтактных методов. Около половины<br />
диагностических систем ИТЭР будут оптическими. Ряд диагностик создается в<br />
России. В РНЦ «Курчатовский институт» разрабатывается несколько<br />
диагностических систем, в том числе система спектроскопии водородных линий<br />
(Hα-<strong>диагностика</strong>). Излучение высокотемпературной <strong>плазмы</strong> будет поступать на<br />
диагностическое оборудование по системе оптических элементов (зеркал и<br />
оптоволоконных кабелей), расположенных в предназначенных для этого порт-<br />
плагах. При создании диагностики одной из основных является проблема<br />
первого зеркала. Обращенное непосредственно к плазме, оно будет<br />
подвергаться воздействию потока атомов перезарядки, кроме того, на<br />
поверхности зеркала переосаждаются углеводороды с диверторных пластин и<br />
бериллий с внутренней стенки камеры. Попадание этих компонентов на<br />
поверхность внутрикамерных зеркал в совокупности с процессом эрозии за счет<br />
атомов перезарядки может привести к деградации их оптических характеристик,<br />
а, следовательно, и к нарушению работы всего диагностического тракта.<br />
Тестирование зеркал в лабораторных условиях позволяет оценить время<br />
жизни данного элемента оптической системы и определить влияние <strong>плазмы</strong> на<br />
его оптические характеристики. Согласно расчетам [1], поток примесей,<br />
представленных в основном углеродом и бериллием в соотношении 3:1, в<br />
экваториальном и верхнем диагностических портах токамака ИТЭР составляет<br />
около 4·10 18 м -2 с -1 . Требуемые для тестирования зеркал условия можно<br />
28
обеспечить в магнетронном разряде. В нем за счѐт ионизации рабочего газа и<br />
ускорения образовавшихся ионов реализуется распыление поверхности катода и<br />
получение направленного атомарного потока. Поскольку бериллий токсичен, в<br />
лабораторных экспериментах его заменяют алюминием, как элементом с<br />
наиболее близкими химическими свойствами.<br />
Для проведения тестирования образцов диагностических зеркал<br />
использовался экспериментальный стенд, схема которого приведена на<br />
рисунке 1. С помощью магнетронной распылительной системы 1 в объеме<br />
вакуумной камеры 2 создавался поток атомов углерода и алюминия в<br />
требуемом отношении. Такую величину удалось получить в результате<br />
основанного на расчетах корректного выбора параметров разряда. Образец<br />
первого зеркала 3 располагался на специальном столике 4, оборудованном<br />
нагревателем 5 и термопарой 6 для контроля и поддержания заданной<br />
температуры образца. Величина потока регулировалась либо изменением<br />
расстояния между катодом и образцом, либо выбором величины разрядного<br />
тока.<br />
1 – магнетрон, 2 – камера, 3 – тестируемый образец, 4 – столик, 5 –<br />
нагреватель, 6 – термопара, 7 – поток распыленных атомов, 8 – клапан, 9 –<br />
регулятор расхода газа, 10 – газовый редуктор, 11 – баллон с газом й, 12 –<br />
преобразователь термопарный, 13 – преобразователь ионизационный, 14 –<br />
вакуумная система, 15 – блок питания катушек магнитного поля, 16 – блок<br />
питания разряда, 17 – блок питания нагревателя, 18 – вакуумметр, 19 – блок<br />
управления регулятором расхода газа, 20 – устройство сбора данных, 21 –<br />
ПЭВМ<br />
Рисунок 1 – Схема экспериментального стенда<br />
29
Рабочей средой в экспериментах служил дейтерий высокой чистоты. Для<br />
приближения к реальным условиям работы первого зеркала в ИТЭР в<br />
вакуумной камере экспериментального стенда поддерживалось давление менее<br />
1 Па. При таких условиях сравнительно тяжелые атомы углерода и алюминия не<br />
испытывали значительного рассеяния по направлению и изменения энергии на<br />
пути к тестируемому зеркалу.<br />
В ходе экспериментов было проведено тестирование ряда образцов<br />
металлических зеркал размером 22х22х4 мм из молибдена МЧВП и стали<br />
04Х16Н11М3Т. Для проведения анализа и сравнения результатов тестирования<br />
все образцы облучались потоками с одной и той же дозой атомов C и Al. В<br />
зависимости от величины генерируемого потока (1…4·10 18 м -2 с -1 ) расстояние<br />
между катодом и образцом составляло от 120 до 240 мм, а длительность<br />
эксперимента – от 60 до 120 минут. Зеркала экспонировались в интервале<br />
температур от 150 °С до 340 °С.<br />
Для каждого полученного в результате эксперимента образца зеркала с<br />
напыленной пленкой на спектрофотометре PerkinElmer Lambda 850 было<br />
проведено измерение коэффициента отражения от его поверхности.<br />
Полученные зависимости представлены на рисунке 2. По результатам анализа<br />
следует отметить две основные закономерности: с увеличением потока атомов<br />
коэффициент отражения снижается, а с ростом температуры имеет место<br />
обратная ситуация. Это хорошо согласуется с проводившимися ранее<br />
исследованиями влияния углеводородных пленок на коэффициент отражения<br />
[2, 3] и объясняется химической эрозией углерода в агрессивной дейтериевой<br />
среде.<br />
Проведенные тесты показали, что на всех зеркалах в ходе эксперимента<br />
образовались плѐнки, которые заметно ухудшали спектральные коэффициенты<br />
отражения. Наибольшее снижение отмечено в диапазоне 250 – 500 нм. Условия,<br />
в которых экспонировались зеркала, являются наиболее неблагоприятными с<br />
точки зрения работоспособности системы диагностики, т.к. тестирование<br />
проводилось в условиях отсутствия защитных элементов.<br />
30
1 – чистый образец; 2 – 1∙10 18 м -2 с -1 , 150 °С;<br />
3 – 2∙10 18 м -2 с -1 , 190 °С; 4 – 1∙10 18 м -2 с -1 , 175 °С;<br />
5 – 2∙10 18 м -2 с -1 , 250 °С; 6 – 4∙10 18 м -2 с -1 , 340 °С<br />
Рисунок 2 – Коэффициент отражения от поверхности протестированных<br />
молибденовых зеркал при фиксированных значениях потока и температуры<br />
Работа выполнена при поддержке Федерального агентства по атомной<br />
энергии (Росатом) в рамках Государственного контракта Н.4з.41.03.08.258 от<br />
20.03.2008 г<br />
Литература:<br />
1. Kotov V., Litnovsky A., Kukushkin A.S., Reiter D., Kirschner A. Journal of<br />
Nuclear Materials, June 2009, Volumes 390-391, 528-531.<br />
2. Изучение влияния нагрева на образование углеводородных пленок на<br />
диагностических зеркалах / К.Ю. Вуколов, Л.С. Данелян, В.В. Затекин и др. //<br />
Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2008.<br />
- № 4. – С. 5-10.<br />
3. Влияние нагрева на скорость роста а-С:Н-пленок и характеристики<br />
металлических зеркал в условиях, подобных ИТЭР / К.Ю. Вуколов, Л.С.<br />
Данелян, С.Н. Звонков и др. // ВАНТ, Сер. Термоядерный синтез, 2006. - Вып. 4.<br />
– С. 21- 33.<br />
31
ИЗМЕРЕНИЯ И КОНТРОЛЬ СОДЕРЖАНИЯ ИЗОТОПОВ<br />
ВОДОРОДА И ДЕЙТЕРИЯ В ПЛАЗМЕ СТЕЛЛАРАТОРА Л-2М<br />
Г.С. Воронов и М.С. Бережецкий<br />
Учреждение Российской Академии Наук Институт Общей Физики им.<br />
А.М.Прохорова<br />
Время удержания энергии в токамаках и стеллараторах, наряду с<br />
другими параметрами, зависит также и от массы основного иона.<br />
По скэйлингу ИТЭР [1] : η ITER ~ M 0.19 . В стеллараторах на разных установках и<br />
в различных режимах зависимость η(М) сильно отличается. Поэтому в<br />
стеллараторном скэйлинге [2], усредненном по нескольким установкам, принято<br />
η ISS04 ~ M 0.01 . Эти зависимости отражают результат совместного действия<br />
различных механизмов неоклассического и турбулентного переноса.<br />
Зависимость от массы иона для отдельных механизмов переноса варьируется в<br />
широких пределах от ~ M -0.5 до ~ M 0.5. Изучение изотопного эффекта может<br />
дать полезную информацию о влиянии отдельных механизмов переноса на<br />
удержание энергии и частиц.<br />
H 2 D 2<br />
Никелевый фильтр<br />
Импульсный клапан<br />
Рис.1 Схема напуска рабочего газа в Л-2М<br />
32<br />
В настоящей работе изучалась<br />
методика измерений и<br />
контроля изотопного состава<br />
<strong>плазмы</strong>, состоящей из водорода<br />
и дейтерия.<br />
Напуск рабочего газа в<br />
стелларатор Л-2М<br />
производится с помощью<br />
импульсного клапана.<br />
Предварительно газ очищается<br />
путем диффузии через<br />
тонкостенную никелевую трубку. Трубка нагревается до 100-200�С . При этом<br />
давление в буферном объеме перед импульсным клапаном поднимается до 0.5
атм. Клапан открывается за 30-40 мс до начала разряда, чтобы давление газа<br />
успело выровняться по всей длине тороидальной камеры. Количество<br />
напускаемого газа регулируется длительностью открытого состояния клапана,<br />
обычно ~ 10-20 мс. Это обеспечивает получение <strong>плазмы</strong> с начальной<br />
плотностью 1 – 2 х 10 19 м -3 . В дальнейшем поддержание плотности <strong>плазмы</strong><br />
происходит за счет поступления газа, выделяющегося из стенок в результате<br />
воздействия <strong>плазмы</strong> (процесс рециклинга).<br />
До начала описываемых экспериментов стелларатор долгое время<br />
работал на водороде. Так что стенка была напитана изотопом водорода 1 Н.<br />
Затем водород в буферном объеме перед клапаном был заменен дейтерием 2 D.<br />
Так что плазма состояла из дейтерия, поступающего из импульсного клапана, и<br />
водорода выбиваемого из стенок в результате рециклинга.<br />
Измерения проводились с помощью комплекса спектральной аппаратуры<br />
стелларатора Л-2М [3], обладающего достаточно высоким спектральным<br />
(��~0.04 нм), временным (~ 2 мс) и пространственным (~0.2 см) разрешением.<br />
На рис.2 показан участок спектра вблизи линии Н� при омическом разряде в<br />
t=50 ms<br />
t=60 ms<br />
t<br />
Рис.2 Участок спектра. Линии D�, H� и CII<br />
33<br />
плазме из смеси водорода и<br />
дейтерия. Съемка велась со<br />
скоростью 100 кадров в секунду. На<br />
рисунке показаны два<br />
последовательных кадра с<br />
экспозицией 10 мс. Видно, что с<br />
течением разряда концентрация D<br />
убывает, а концентрация Н растет.<br />
После 30 разрядов инжектируемый газ был заменен обратно на водород. По<br />
мере "отстрела" в последовательности омических разрядов содержание D в<br />
стенке камеры уменьшается. Относительная концентрация дейтерия D/(D+H)<br />
уменьшается по экспоненте с постоянной ~ 94 разряда: D/(D+H) ~ exp(- N/94),<br />
N – количество разрядов после замены инжектируемого газа.
Da / (Da+Ha)<br />
уменьшения содержания дейтерия в стенке вакуумной камеры.<br />
100<br />
90<br />
80<br />
70<br />
60<br />
50<br />
110<br />
100<br />
90<br />
80<br />
70<br />
60<br />
50<br />
0,7<br />
0,6<br />
0,5<br />
0,4<br />
0,3<br />
0,2<br />
0,1<br />
62720 62740 62760 62780 62800 62820 62840 62860<br />
D �<br />
Номер выстрела<br />
580 590 600 610 620<br />
D �<br />
1620 1630 1640 1650 1660<br />
�<br />
H �<br />
H �<br />
Da/(Da+Ha) 50 ms<br />
~ exp( - (N-62760) / 94 )<br />
# 62736 50 ms<br />
# 62736 60 ms<br />
А Б<br />
Рис.4 Изменение профилей линий Dα и Нα .<br />
34<br />
Рис.3 Относительная<br />
концентрация дейтерия<br />
спадает по экспоненте с<br />
показателем 94 выстрела<br />
На рис.4 показано<br />
изменение спектральных<br />
профилей линий Dα и Нα по<br />
мере отстрела и<br />
А - при напуске дейтерия и высоком содержании водорода в стенке.<br />
Б - при напуске водорода и низком содержании дейтерия в стенке после 120<br />
выстрелов.<br />
580 590 600 610 620<br />
Экспоненциальный спад содержания изотопов водорода позволяет<br />
проводить замену рабочего газа в течение одной экспериментальной сессии и<br />
160<br />
140<br />
120<br />
100<br />
80<br />
60<br />
40<br />
140<br />
120<br />
100<br />
80<br />
60<br />
40<br />
# 62857 50 ms<br />
# 62857 60 ms<br />
1620 1630 1640 1650 1660<br />
�
исследовать влияние массы основного иона на удержание <strong>плазмы</strong> при<br />
неизменных прочих параметрах эксперимента.<br />
Возможность контроля содержания изотопов и оперативного изменения<br />
состава <strong>плазмы</strong> важна также для экспериментов по ионному циклотронному<br />
нагреву с малой добавкой.<br />
Заключение<br />
• Обнаружено присутствие в плазме стелларатора Л-2М одновременно двух<br />
изотопов водорода – обычного водорода и дейтерия.<br />
• Спектральное разрешение спектрографа ВМС-1 и цифровой CCD-камеры<br />
достаточно для измерения их относительного содержания.<br />
• Измерения динамики изменения изотопного состава показывают, что<br />
"отстрел" дейтерия в стенках в режиме омического нагрева идет по экспоненте с<br />
показателем ~ 100 выстрелов.<br />
• Это дает возможность оперативной замены рабочего газа в ходе<br />
эксперимента.<br />
• Измерение и контроль изотопного состава рабочего газа важны для<br />
экспериментов по ИЦРН с малой добавкой.<br />
• Сравнение параметров водородной и дейтериевой <strong>плазмы</strong> при одинаковых<br />
прочих условиях может быть полезным для измерения скэйлингов времени<br />
удержания <strong>плазмы</strong>.<br />
Литература:<br />
1. IPB98(Y,2) // Nuclear Fusion 39 (1999) 2175<br />
2. A.Weller at al // IAEA FEC 2008 EX/P5-9<br />
3. Г.С. Воронов, Е.В. Воронова // Тезисы докладов на XII Всероссийской<br />
конференции по "Диагностике высокотемпературной <strong>плазмы</strong>" (Звенигород,<br />
2007), С.147-149.<br />
35
ПОЯС РОГОВСКОГО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ДИАМАГНИТНОГО<br />
ТОКА В МУЛЬТИПОЛЬНОЙ МАГНИТНОЙ ЛОВУШКЕ–<br />
ГАЛАТЕЕ ТРИМИКС -3М<br />
А.М. Бишаев, А.И. Бугрова, И.С. Гордеев, А.И. Денисюк, М.В.Козинцева,<br />
А.С.Липатов, А.С. Сигов, И.А.Тарелкин, В.А.Терехов,<br />
Московский государственный институт радиотехники, электроники и<br />
автоматики (технический университет). МИРЭА<br />
Измерение диамагнитного эффекта является обязательной частью<br />
измерений на всех магнитных ловушках по удержанию <strong>плазмы</strong>. Диамагнитный<br />
эффект позволяет оценить величину времени удержания энергии в плазме. В<br />
ловушке типа токамак поясом Роговского (ПР) измеряется индуцированный<br />
внешним магнитным полем ток. В проведенных исследованиях измеряется<br />
полный диамагнитный ток в плазме, и его величина связывается с величиной<br />
энергии в плазменном объеме. Это позволяет, как и в установках токамак, по<br />
магнитным и электротехническим измерениям определить температуру <strong>плазмы</strong>.<br />
Исследование проводилось на ловушке Тримикс-3М, установленной на<br />
Рис.1.Конфигурация<br />
магнитных силовых линий (1) и<br />
сечения плазменного объема<br />
(�) в ловушке Тримикс-3М,<br />
расположение пояса<br />
Роговского 2 , магнитных<br />
катушек 4,5 и антенн<br />
интерферометра 3.<br />
36<br />
стенде Галатея-3 �1�.<br />
Мультипольные магнитные ловушки-<br />
Галатеи �2� представляют систему<br />
магнитных катушек, часть из<br />
которых погружена в плазму. Такие<br />
катушки А.И. Морозов предложил<br />
называть миксинами. Конфигурация<br />
магнитного поля ловушки Тримикс-<br />
3М приведена на Рис.1. Магнитные<br />
поверхности сложного поперечного<br />
сечения образуют тор, в центре<br />
которого существует область с<br />
магнитным полем, равным нулю.<br />
Внешние замкнутые магнитные<br />
силовые линии образуют внешнюю магнитную корку (стенку) ловушки.<br />
Питание магнитных катушек ловушки, а также всех других силовых систем
стенда – импульсное. Характерное магнитное поле в корке ловушки (барьерное<br />
поле Вб) может изменяться от 0,025Тл до ~ 0.1Тл. Наполнение плазмой ловушки<br />
тоже осуществлялось импульсно. Плазма создавалась в виде плазменных<br />
сгустков плазменной пушкой. Сгустки, сформированные пушкой, направлялись<br />
в плазмовод. Длина плазмовода 1.35м. Во всех измерениях в каждом выстреле<br />
пушки магнитные поля указанных источников можно считать постоянными.<br />
Параметры поступающего в ловушку сгустка на стенде измерялись и<br />
рассчитывались по следующей методике. Энергия направленного движения<br />
ионов изменялась в каждом выстреле с помощью двух магнитных зондов,<br />
расположенных в плазмоводе на фиксированном расстоянии друг от друга. По<br />
временному сдвигу между сигналами на зондах определялась скорость сгустка<br />
V, и по известной формуле є = mpV 2 / 2e рассчитывалась энергия<br />
направленного движения ионов водорода. В этой формуле mp – масса протона, e<br />
– заряд электрона. Для выбранного режима работы пушки и плазмовода с<br />
помощью калориметров определялось среднее значение полной энергии Е<br />
сгустка, захваченного в ловушку. Деление Е на є дает полное число частиц,<br />
захваченных в ловушку, а, зная величину объема <strong>плазмы</strong> в ловушке, можно<br />
оценить начальную концентрацию. Величина плазменного объема была<br />
определена в �1� и составляет ~ 0,09 м 3 . Во всех оценках, приведенных ниже,<br />
используется это значение. Как правило, оценка концентрации, сделанная этим<br />
способом, близка, к величине концентрации, измеренной с помощью СВЧ-<br />
интерферометра. Место расположения антенн интерферометра указано на Рис.1.<br />
Приводившиеся ранее исследования показали, что после процесса заполнения<br />
плазмой ловушки распределение концентрации по азимуту ловушки можно<br />
считать равномерным �1,3�. Параметры захваченного в ловушку сгустка,<br />
приведенные в �4�, показаны в таблице 1.<br />
Энергия<br />
захваченного<br />
сгустка, Дж<br />
Температура<br />
<strong>плазмы</strong>, эВ<br />
37<br />
Время<br />
заполнения<br />
ловушки, мкс<br />
50 - 100 10 – 5 25 – 50<br />
Таблица 1
Рис.2. Фотография пояса<br />
Роговского.<br />
Для измерения диамагнитного тока в<br />
ловушке «Тримикс-3М» был изготовлен ПР со<br />
следующими параметрами: общее число<br />
витков ПР было равно Np = 4354; длина ПР<br />
составила l = 2,638 м; площадь поперечного<br />
сечения каждого витка катушки пояса<br />
равнялась S = 2×10 -5 м 2 ; омическое<br />
сопротивление ПР r = 6,4 Ом; сопротивление<br />
нагрузки R = 50 Ом. ПР был намотан медным<br />
проводом, диаметром 0,5 мм. Его индуктивность равна 180 мкГн. Фотография<br />
ПР представлена на Рис. 2. ПР был прокалиброван . Его чувствительность<br />
составила (4,0 � 0,3) 10 -8 В �с/ А. Для измерения сигнала с пояса<br />
использовалась стандартная схема, приведенная на Рис.3.<br />
38<br />
При длительности<br />
сигнала с пояса 1 мс<br />
индуктивное<br />
сопротивление равно ωL =<br />
1,13 Ом. Таким образом,<br />
выполняется соотношение<br />
ωL
давлению Р. Для расчета давления Рд использовались следующие соображения.<br />
Диамагнитный ток, протекающий в плазме вдоль тороидальной поверхности �,<br />
сечение которой показано на Рис. 1, направлен в ту же сторону, что и токи в<br />
миксинах ловушки, расположенных внутри контура γ, то есть перпендикулярно<br />
плоскости рисунка. Контур сечения плазменного объема γ совпадает с<br />
конфигурацией одной из силовых линий магнитного поля, создаваемого<br />
миксинами. В этом случае сила ампера будет направлена перпендикулярно<br />
силовым линиям магнитного поля внутрь ловушки. Еѐ можно оценить по<br />
формуле:<br />
Рис.4. Фотография пояса<br />
Роговского. 1 – пояс, 2 –<br />
катушки ловушки.<br />
L<br />
I Д<br />
� � B(<br />
l)<br />
2�r(<br />
l)<br />
dl � 2�I<br />
�Br�<br />
L<br />
F Д<br />
0<br />
где Iд – диамагнитный ток, L – длина линии �, - средняя величина<br />
произведения индукции магнитного поля на линии � на текущий радиус. При<br />
этом предполагается, что погонная плотность тока IД/L постоянна на линии �.<br />
Давление, обусловленное силой Ампера, будет равно:<br />
P<br />
Д<br />
�<br />
F<br />
S<br />
�<br />
I<br />
Д<br />
�Br�<br />
L<br />
�r�<br />
. Из равенства РД=Р следует, что:<br />
39<br />
3I<br />
Д �Br�<br />
� �<br />
2n<br />
� L�r�<br />
Зная диамагнитный ток, среднее значение индукции барьерного магнитного<br />
поля ловушки, концентрацию <strong>плазмы</strong>, длину<br />
контура γ, можно определить среднюю<br />
энергию <strong>плазмы</strong>, запасенную в ловушке.<br />
Величина диамагнитного тока намного<br />
меньше тока, протекающего в магнитных<br />
катушках ловушки. Для того, чтобы избежать<br />
влияния токов в «миксинах» на сигнал с<br />
пояса Роговского, он обвивал катушки<br />
ловушки специальным образом (см. Рис.1).<br />
Фотография пояса Роговского,<br />
обвивающего катушки ловушки «Тримикс-3М», изображена на Рис. 4.
ID,А<br />
В работе выполнено измерение зависимостей IД(t) для различных<br />
значений барьерного магнитного поля в ловушке Тримикс – 3М. На Рис. 5<br />
приведены результаты таких измерений. Зависимости получены усреднением<br />
осциллограмм сигналов с ПР<br />
140,00<br />
120,00<br />
100,00<br />
80,00<br />
60,00<br />
40,00<br />
20,00<br />
0,00<br />
0,00E+00 2,00E-04 4,00E-04 6,00E-04 8,00E-04<br />
,Па<br />
Рис.6. Зависимость р от<br />
величины барьерного магнитного<br />
поля ловушки Тримикс-3М<br />
6<br />
5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
1<br />
0<br />
t,с<br />
0 0.02 0.04 0.06 0.08 0.1 0.12<br />
B,Тл<br />
77 мкс<br />
202 мкс<br />
40<br />
0.025 Тл<br />
0.0375 Тл<br />
0.05 Тл<br />
0.0625 Тл<br />
0.075 Тл<br />
0.0875 Тл<br />
0.1 Тл<br />
Рис. 5.<br />
Усредненные<br />
зависимости<br />
диамагнитного<br />
тока от времени<br />
для различной<br />
величины<br />
барьерного<br />
магнитного поля<br />
ловушки Тримикс-<br />
3М.<br />
по 5 – 10 выстрелам пушки при одном и<br />
том же магнитном поле. Вид<br />
полученных зависимостей показывает:<br />
рост тока IД начинается через 35 мкс<br />
после подачи напряжения на<br />
плазменную пушку. В течение<br />
следующих 35 – 40 мкс IД возрастает.<br />
Затем IД начинает<br />
уменьшаться. Такое поведение IД<br />
указывает, что процесс наполнения ловушки плазмой заканчивается на 70 – 80<br />
мкс. После 300–ой мкс Iд становится незначительным и его измерение в этой<br />
области становится затруднительным. По данным Рис. 5 и формуле для РД была<br />
рассчитана зависимость давления <strong>плазмы</strong> в ловушке от величины магнитного<br />
поля для 77-й мкс и 202-й мкс. Эта зависимость приведена на Рис.6. Видно,<br />
что сразу после заполнения плазмой ловушки (77-я мкс) давление примерно<br />
одинаковое для всех значений магнитного поля. Это указывает на то, что<br />
параметры сгустка, инжектируемого в ловушку, не зависят от магнитного поля.<br />
Зависимость р(В) при 202 мкс демонстрирует улучшение удержания энергии<br />
при увеличении величины магнитного поля. Оценка температуры <strong>плазмы</strong> из
одновременных измерений диамагнитного тока и концентрации (с помощью<br />
СВЧ интерферометра) позволили оценить температуру <strong>плазмы</strong> в 12 эВ.<br />
В заключение можно отметить следующее. В мультипольных магнитных<br />
ловушках – Галатеях с помощью пояса Роговского можно измерить полный<br />
диамагнитный ток, протекающий в плазме. Оценки температуры и времени<br />
заполнения ловушки плазмой совпадают с результатами, полученными с<br />
помощью калориметрических и зондовых измерений, приведенных в таблице 1.<br />
В данной работе предложена модель, связывающая величину диамагнитного<br />
тока со средним давлением <strong>плазмы</strong> в ловушке. Однако возможности такого<br />
рассмотрения требуют дальнейшего уточнения. Так, при наступлении<br />
равновесия по теории Грэда – Шафранова на магнитной поверхности остается<br />
постоянным не плотность тока, а давление.<br />
Работа была выполнена в рамках реализации федеральной целевой<br />
программы «Научные и научно-педагогические кадры инновационной России»<br />
на 2009-2013 годы по госконтракту П957 от 20 августа 2009 г.<br />
Литература:<br />
1. Инжекция <strong>плазмы</strong> в Галатею «Тримикс» / А.И. Морозов, А.И. Бугрова,<br />
А.М. Бишаев и др. // Физика <strong>плазмы</strong>. – 2006. –Том 32. - № 3. - С. 195-202.<br />
2. А.И Морозов. B.B. Савельев. О Галатеях-ловушках с погруженными в<br />
плазму проводниками // УФН,- 1998г. -Том168. - № П.- С. 1153-1194<br />
3. Параметры <strong>плазмы</strong> в модернизированной ловушке Галатее «Тримикс-М» /<br />
А.И.Морозов, А.И. Бугрова, A.M. Бишаев и др.// Журнал технической<br />
физики. -2007. -Том 77. -Вып. 12. -С. 15-20<br />
4. «Исследование времени удержания <strong>плазмы</strong> в мультипольной магнитной<br />
ловушке-галатее ―Тримикс-М‖»/ Бишаев А.М., Бугрова А.И., Козинцева<br />
М.В., Липатов А.С., Сигов А.С., Харчевников В.К. // «Письма в ЖТФ».-<br />
2010 г.- том 36, вып.10.- С.91-94.<br />
41
СОВРЕМЕННЫЙ СТАТУС РАБОТ ПО ПРОБЛЕМЕ ПЕРВОГО<br />
ЗЕРКАЛА ДЛЯ ДИАГНОСТИК H-ALPHA И CXRS<br />
И.И. Орловский, К.Ю.Вуколов, С.Н.Тугаринов, Д.К.Вуколов<br />
Российский Научный Центр «Курчатовский Институт»<br />
Оптические системы всех диагностик установки ИТЭР включают в свой<br />
состав зеркала для передачи излучения от <strong>плазмы</strong> к детекторам за биозащитой.<br />
При этом первое зеркало, смотрящее на плазму, будет эксплуатироваться в<br />
чрезвычайно суровых условиях, будучи подвержено значительным нейтронным<br />
потокам, тепловым нагрузкам, а главное, потокам высокоэнергичных нейтралов<br />
перезарядки и переосаждению загрязнений с элементов конструкции вакуумной<br />
камеры и диагностических каналов. В результате при проектировании узла<br />
первого зеркала необходимо решить задачи выбора подходящего материала и<br />
технологии изготовления самого зеркала, проработать системы защиты зеркала<br />
от неблагоприятных воздействий среды, а также сделать оценку времени жизни<br />
зеркала в условиях ИТЭР для разработки регламента эксплуатации диагностики.<br />
Кроме того, само понятие «условия ИТЭР» во-первых, специфично для каждой<br />
диагностики, а во-вторых, до конца не определено, и определение этих условий<br />
также представляет собой одну из задач, входящих в проблему первого зеркала.<br />
В данном докладе описан современный статус работ по проблеме<br />
первого зеркала для диагностик спектроскопии водородных линий (H-alpha) и<br />
активной спектроскопии (CXRS), проводимых в РНЦ «Курчатовский<br />
Институт», перечислены проблемы, характерные для конкретной диагностики и<br />
возможные способы их решения.<br />
42
ИССЛЕДОВАНИЕ РАЗРЯДА С ЭЛЕКТРОЛИТНЫМ<br />
ЭЛЕКТРОДОМ ПРИ ТОКЕ ПОРЯДКА ДЕСЯТКОВ АМПЕР<br />
(ГАТЧИНСКИЙ РАЗРЯД)<br />
А.М. Астафьев<br />
. Санкт-Петербургский государственный университет<br />
Разнообразные процессы, происходящие в разрядах с электролитными<br />
электродами, весьма сложны и пока недостаточно изучены [1, 2]. В работах<br />
авторов [3] описывается эксперимент, который используется для моделирования<br />
шаровой молнии и представляет собой электрический разряд между<br />
поверхностью слабо проводящего раствора и центральным металлическим или<br />
угольным катодом, изолированным от воды. Нами было обнаружено, что<br />
отличительной особенностью такого разряда после его установления является<br />
низкая плотность тока (~ 10 -1 A/cm 2 ), привязка которого к поверхности<br />
электролитного анода распределена равномерно при токах порядка десятков<br />
ампер [4]. При уменьшении тока в процессе разряда емкостного накопителя до<br />
~10 A наблюдается обрыв однородно распределенной привязки,<br />
сопровождающийся формированием нескольких локальных разрядов,<br />
плотность тока которых (~10 2 A/cm 2 ) соответствует тлеющему разряду<br />
атмосферного давления. В настоящей работе приводятся результаты<br />
исследования режимов этого разряда.<br />
Рис. 1. Схема разрядного устройства.<br />
В экспериментах использовалась установка (рис.1) более подробно<br />
описанная в [4]. В качестве центрального электрода использовался угольный<br />
или стальной стержень, а в сосуд наливалась водопроводная или<br />
43
дистиллированная вода с добавлением поваренной соли, пищевой соды или<br />
азотной кислоты. Используя различия химического состава выбираемых<br />
комбинаций плазмообразующих компонентов по данным видео записей<br />
изображений разряда, его спектрограмм и спектральных изображений изучали<br />
динамику растворенного вещества и различных фаз разряда при прямой и<br />
обратной полярностях. Характеристики распределения привязки разряда к<br />
электролиту исследовались с помощью двух электрических зондов,<br />
расположенных на разном удалении от центрального катода и погруженных в<br />
воду на глубину около 3mm.<br />
Для прояснения влияния пылевой компоненты и легко ионизируемых<br />
атомов на разряд и послесвечение был проведен эксперимент, в котором такие<br />
компоненты, вносимые материалом твердого электрода и растворенного<br />
вещества были устранены. Для этого были выбраны электроды в виде двух<br />
стоящих рядом стеклянных банок с раствором азотной кислоты. Было<br />
обнаружено, что длительность послесвечения приблизительно та же, что и при<br />
других растворенных веществах. Вклад в общий объем <strong>плазмы</strong>, поступающей с<br />
положительного и отрицательного электродов примерно одинаков. Однако<br />
излучение в видимом диапазоне многократно ослаблено, а послесвечение имеет<br />
вид облака неправильной формы. Взаимодействие разряда с соприкасающимися<br />
краями банок могло порождать эрозионную струю, влетавшую в объем водяной<br />
<strong>плазмы</strong>. Это приводило к возникновению в вихревой зоне темной полости с<br />
резкими границами желтого цвета.<br />
При использовании раствора пищевой соды и стального электрода на<br />
стадии распределенного разряда с низкой плотностью тока в области привязки<br />
образуется плазма с примесью железа, натрий же отсутствует. После перехода к<br />
неоднородной привязке возникает сильное излучение натрия эрозионных струй<br />
с поверхности воды, и их плазма проникает в ранее образованный объем <strong>плазмы</strong><br />
и растворяется в нем, после чего и формируется шароподобный объект (рис. 2).<br />
Принудительный обрыв тока разряда непосредственно перед переходом к<br />
неоднородной привязке приводит к исчезновению стадии сильного излучения<br />
(рис. 3).<br />
44
Рис. 2. Видеограмма (200 ms) разряда с электролитным анодом на основе<br />
раствора пищевой соды.<br />
Рис. 3. Осциллограмма относительной интенсивности излучения разряда в<br />
видимом диапазоне (S) и тока разряда (I) – слева; то же в случае<br />
принудительного обрыва тока перед переходом к неоднородной привязке<br />
разряда к поверхности электролита на 80-ой миллисекунде - справа.<br />
По данным видеосъемки наблюдались существенные различия в<br />
поведении разряда при разной полярности. В случае обратной полярности при<br />
растворе на основе солей натрия разряд сразу приобретает характерный ему<br />
желтый цвет, а привязка объемного разряда к раствору-катоду имеет вид<br />
множества пятен (рис.4).<br />
45
Рис. 4. Привязка разряда к поверхности электролитных анода (слева) и катода<br />
(справа).<br />
Наблюдается также существенные различия и в осциллограммах<br />
сигналов электрических зондов (рис. 5). При однородном распределении и пока<br />
оба зонда находятся под разрядом (от 20ms до 50 ms) разностный сигнал имеет<br />
малую величину (~ 100V) в октавном диапазоне токов (35-19А) с минимумом<br />
при токе 23 А на 40 ms, что, по-видимому, соответствует близости<br />
проводимостей <strong>плазмы</strong> и раствора. В случае неоднородной привязки заметная<br />
доля потенциала падает в воде около пятна, нагревая воду, температура и<br />
проводимость <strong>плазмы</strong> около катодного пятна значительно выше, чему<br />
соответствует меньшая масса гидратированных зарядов.<br />
Рис. 5 Сигналы двух зондов, расположенных на разном удалении от<br />
центрального катода (слева) и разностные сигналы с этих зондов при разной<br />
полярности (справа).<br />
46
При использовании электролита на основе азотной кислоты однородная<br />
привязка к аноду и формирование послесвечения сохраняются при больших<br />
токах разряда. В этом случае при обратной полярности в разряде с угольным<br />
электродом наблюдается яркая вспышка, а послесвечение не формируется (рис.<br />
6). Это указывает на интенсивное объемное взаимодействие эрозионных<br />
пылевых частиц с водяной химически активной плазмой [5].<br />
Рис. 6. Видеограмма (120 ms) при электролитном катоде и напряжении<br />
накопителя 5 kV (HNO3).<br />
Однако эти и другие результаты исследования лишь несколько<br />
проясняют физику Гатчинского разряда, скорее указывают на сложность<br />
изучения наблюдаемого обширного комплекса явлений.<br />
Литература:<br />
1. Стройкова И.К. // Химическая активация водных растворов электролитов<br />
тлеющим и диафрагменным газовыми разрядами: Дис. Канд. Хим. Наук.<br />
Иваново. 2001. 183 с.<br />
2. Пискарев И.М. Условия инициирования активными частицами из газовой<br />
фазы реакции в жидкости // Журнал физической химии. 1998. Т.33. №5. С.332.<br />
3. Егоров А.И., Степанов С.И. //ЖТФ. 2002. Т. 72. С. 102-104.<br />
4. Emelin S.E., Astafiev A.M., Pirozerski A.L. Investigation of space-time structure<br />
of the discharge with an electrolytic anode and face-type, air half-space directed<br />
cathode (Gatchina’s discharge). Proceedings of ISBL-08, 16-19 July 7, 2008.<br />
Kaliningrad, Russia. P. 42.<br />
5. Emelin S.E., Astafiev A.M., Pirozerski A.L. Effect of Polarity on the Discharge<br />
with an Electrolytic Anode and Face-Type, Air Half-Space Directed Cathode<br />
(Gatchina’s Discharge) and its afterglow. Proceedings of ISBL-10,<br />
47
ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕМПЕРАТУРЫ ПЛАЗМЫ<br />
ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ЕМКОСТНОГО РАЗРЯДА НА ЕГО<br />
ЭЛЕКТРОДИНАМИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ<br />
Ю.Ю. Луценко, В.А. Власов, Е.П. Зеленецкая<br />
Национальный исследовательский Томский политехнический университет<br />
Высокочастотный емкостной разряд, горящий при атмосферном<br />
давлении, представляет собой ярко святящейся плазменный шнур, окружѐнный<br />
диффузионной оболочкой. Горение емкостного разряда осуществляется за счѐт<br />
диссипации энергии электромагнитной волны, распространяющейся вдоль его<br />
канала. Затухание электромагнитной волны, распространяющейся вдоль канала<br />
высокочастотного емкостного разряда, должно увеличиваться при уменьшении<br />
величины удельной электропроводности <strong>плазмы</strong> разряда. Величина удельной<br />
электропроводности <strong>плазмы</strong> разряда будет определяться в значительной<br />
степени величиной концентрации электронов. В свою очередь концентрация<br />
электронов в плазме разряда может быть определена из измерений электронной<br />
температуры.<br />
В настоящей работе нами были проведены измерения осевого<br />
распределения первых пяти гармоник радиальной компоненты электрического<br />
поля высокочастотного емкостного разряда, горящего в аргоне и смеси аргон –<br />
воздух. Одновременно с измерениями электродинамических характеристик<br />
проводились измерения электронной температуры <strong>плазмы</strong> разряда. По<br />
измеренной электронной температуре на основе уравнения Саха проводилась<br />
оценка концентрации электронов <strong>плазмы</strong> разряда.<br />
Схема экспериментальной установки приведена на рис.1.<br />
Высокочастотный емкостной разряд возбуждался в кварцевой трубке с<br />
внутренним диаметром 28 и длиной 500 мм. Для возбуждения разряда<br />
использовался один кольцевой электрод, диаметром 70 мм, на который<br />
подавался высокочастотный потенциал. Второй – заземлѐнный электрод не<br />
использовался. Мощность разряда ориентировочно находилась в пределах от 0,5<br />
до 1,0 кВт. Частота горения разряда составляла 37,5 МГц.<br />
48
Измерения радиальной компоненты электрического поля проводились<br />
посредством емкостного зонда, сигнал с которого по линии с двойной<br />
экранировкой подавался на вход спектроанализатора GSP - 827. Емкостной зонд<br />
представлял собой медный штырь длиной 5 и диаметром 1 мм. Расстояние от<br />
оси разряда составляло 60 мм. Проводились измерения первых пяти гармоник<br />
электрического поля. Гармоники более высокого порядка имели амплитуду<br />
менее 10 дБмВ, поэтому в нашем случае они не рассматривались.<br />
Измерения электронной температуры разряда проводились на основе<br />
частотной зависимости интенсивности излучения континуума атомов аргона в<br />
диапазоне длин волн 3300…4000Ǻ. Согласно работе [1] интенсивность<br />
континуума � � атомов аргона в диапазоне длин волн 3300…4000Å может быть<br />
описана следующей зависимостью:<br />
� h�<br />
�<br />
��<br />
� const �exp ��� � kTe<br />
�<br />
Здесь: h − постоянная Планка; � − частота; T e − электронная температура.<br />
Измерения интенсивности континуума проводились спектрографом Shamrock –<br />
303i.<br />
7<br />
6<br />
1 2<br />
≈<br />
Рис.1. Схема экспериментальной установки. 1 – высокочастотный генератор;<br />
2 – высоковольтный электрод; 3 – разряд; 4 – разрядная камера; 5 – емкостной<br />
зонд; 6 – линзы; 7 – спектрограф Shamrock – 303i.<br />
Результаты измерений осевого распределения амплитуд гармоник<br />
радиальной компоненты электрического поля высокочастотного емкостного<br />
49<br />
3<br />
4<br />
5
Er,<br />
дБмВ<br />
60<br />
0<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
Er,<br />
дБмВ<br />
60<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
0<br />
разряда, горящего в аргоне и смеси аргон-воздух, представлены на рис.2. На<br />
этом рисунке по оси абсцисс отложено осевое расстояние от верхней кромки<br />
высоковольтного электрода до точки измерения. По оси ординат − амплитуда<br />
сигнала в логарифмическом масштабе.<br />
90 170 250 330<br />
Z, мм<br />
а<br />
1<br />
4<br />
2<br />
3<br />
5<br />
90 170 250 330<br />
Z, мм<br />
в<br />
1<br />
4<br />
2<br />
3<br />
5<br />
Рис.2. Осевое распределение амплитуд гармоник электрического поля<br />
емкостного разряда, горящего в смеси аргон – воздух: 1, 2, 3, 4, 5 – номера<br />
гармоник; а).чистый аргон Te= 8300K, ne = 4,5∙10 20 м -3 ; б) А:В = 90:10, Te=<br />
6950K, ne = 9,9∙10 18 м -3 ; в) А:В = 80:20, Te= 6500K, ne = 2,0∙10 18 м -3 ; г) А:В =<br />
70:30, Te= 6200K, ne = 5,1∙10 18 м -3 .<br />
Здесь же приведены результаты измерений электронной температуры<br />
канала разряда и результаты расчѐтов концентрации электронов. Расчѐт<br />
50<br />
Er,<br />
дБмВ<br />
60<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
0<br />
Er,<br />
дБмВ<br />
60<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
0<br />
90 170 250 330<br />
Z, мм<br />
б<br />
90 170 250<br />
Z, мм<br />
г<br />
1<br />
4<br />
2<br />
3<br />
5<br />
1<br />
4<br />
2<br />
3<br />
5<br />
330
концентрации электронов проводился по формуле Саха для двухтемпературной<br />
[2] <strong>плазмы</strong>. При этом учитывалось, что отношение электронной температуры [1]<br />
к газовой составляет 3,5…4.<br />
Из рис.2. видно, что при добавления воздуха в аргон происходит<br />
увеличение затухания всех гармоник электромагнитного поля, за исключением<br />
третьей. При разбавлении аргона воздухом электронная температура и<br />
концентрация электронов уменьшаются. Соответственно уменьшается удельная<br />
электропроводность <strong>плазмы</strong> разряда и увеличивается величина затухания<br />
электромагнитного поля. Аномальный же рост третьей гармоники может быть<br />
объяснѐн следующим образом. При разбавлении аргона воздухом концентрация<br />
электронов, и соответствующая ей плазменная частота уменьшаются до<br />
величин, обеспечивающих параметрический резонанс третьей гармоники поля.<br />
Вследствие этого наблюдается рост третьей гармоники вдоль оси разряда. При<br />
дальнейшем увеличении количества воздуха в плазмообразующем газе,<br />
концентрация электронов в плазме уменьшается в ещѐ большей степени, что<br />
вызывает рассогласование частоты третьей гармоники поля с резонансной<br />
частотой.<br />
Таким образом, аномальный рост третьей гармоники электромагнитного<br />
поля при уменьшении удельной электропроводности <strong>плазмы</strong> разряда может<br />
быть объяснѐн на основе предположения параметрического резонанса внешнего<br />
электромагнитного поля с собственными колебаниями <strong>плазмы</strong>.<br />
Литература:<br />
1. Janča J. Spectral diagnostics of a unipolar high-frequency discharge excited in<br />
nitrogen and argon at pressures from 1 to 12 atm // Czech. J. Phys., 1967, Vol.B17, №<br />
9, P.761 – 772.<br />
2. Kannapan D., Bose T.K. Transport properties of a two-temperature argon plasma //<br />
The Physics of Fluids, 1977, vol.20, №10, P.1668 – 1673.<br />
51
ДВУХЧАСТОТНАЯ СВЧ-ФЛУКТУАЦИОННАЯ<br />
РЕФЛЕКТОМЕТРИЯ МНОГОКОМПОНЕНТНОЙ<br />
ГАЗОМЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛАЗМЫ<br />
Ю.В. Ковтун, А.И. Скибенко, Е.И. Скибенко, Ю.В. Ларин, В.Б. Юферов<br />
Национальный научный центр «Харьковский физико-технический институт»,<br />
НАНУ.<br />
скрещенных<br />
Одной из особенностей <strong>плазмы</strong>, создаваемой и находящейся в<br />
�<br />
�<br />
E� B полях, является ее дрейфовое вращение. При определенных<br />
условиях во вращающейся плазме возможно развитие различных<br />
неустойчивостей, приводящих, например, к нагреву ионной компоненты <strong>плазмы</strong><br />
[1,2]. Вращение плазменного столба приводит, в случае многокомпонентной<br />
<strong>плазмы</strong>, к пространственному разделению ионной компоненты [3].<br />
Эффективность радиального разделения ионов напрямую зависит от скорости<br />
вращения. В связи с вышесказанным определение скорости вращения<br />
многокомпонентной <strong>плазмы</strong> представляет вполне определенный интерес.<br />
Особенностью и целью данной работы является использование<br />
двухчастотной СВЧ флуктуационной рефлектометрии для определения<br />
скорости вращения плазменных слоев с np = ncr 1,2 в отражательном разряде. СВЧ<br />
флуктуационная рефлектометрия основана на определении авто- и взаимно-<br />
корреляционных функций двух полоидально разнесенных СВЧ сигналов,<br />
отраженных от слоя <strong>плазмы</strong> одной плотности. Авто - и взаимно -<br />
корреляционные функции могут быть вычислены по формулам:<br />
1<br />
cxx ( � k ) � x(<br />
t)<br />
x(<br />
t ��<br />
k ) , (1)<br />
N<br />
52<br />
� � N 1<br />
t�0<br />
1<br />
cxy ( � k ) � x(<br />
t)<br />
y(<br />
t ��<br />
k ) , (2)<br />
N<br />
, где cxx(τk) и cxy(τk) – авто- и взаимно-корреляционная функция между сигналами<br />
x(t) и y(t), N – число точек в реализации сигналов x(t) и y(t), τk – время задержки<br />
между двумя сигналами. Частота зондирования <strong>плазмы</strong> выбиралась таким<br />
образом, чтобы, во-первых, в образованной плазме существовал слой равный np<br />
� � N 1<br />
t �0
= n 1,2 cr, во-вторых, плазменные слои с различными n 1,2 cr должны находится на<br />
некотором расстоянии друг от друга, чтобы, были выбраны две зондирующие<br />
частоты f 1,2 = 37,13 и 72,88 ГГц, соответственно, ncr 1 =1,7 10 13 см -3 и ncr 2 = 6,5<br />
10 13 см -3 . Локация <strong>плазмы</strong> производилась обыкновенной волной (O) поперек<br />
плазменного столба в одном сечении для обоих частот. В отличие от измерений<br />
по Допплеровскому смещению частоты, при котором зондирование наклонное и<br />
точки отражения не совпадают со слоем с np = ncr, корреляционный метод<br />
основан на нормальном зондировании и поэтому возможно одновременное<br />
определение пространственного положения слоя и его скорости вращения.<br />
Схема размещения СВЧ антенн представлена на рис. 1. Использование двух<br />
приемно-передающих антенн, разнесенных полоидально на угол 60 ○ , дает<br />
возможность использовать авто- и взаимно-корреляционные функции в<br />
зависимости от схемы подключения антенн, т.е. каждую из антенн использовать<br />
только для одной зондирующей частоты, либо на обе антенны одновременно<br />
подавать СВЧ сигналы на различных частотах. Одновременно с<br />
рефлектометрическими измерениями проводилось измерение максимальной np<br />
= n 1,2 cr и средней плотности с помощью СВЧ-интерферометра, что позволяло<br />
определять временной интервал существования слоя с критической плотностью.<br />
Регистрация сигналов проводилась с помощью АЦП с частотой 20 МГц.<br />
Газометаллическая плазма образовывалась в результате разряда в среде<br />
рабочего вещества, состоящего из H2, Ar или газовой смеси 88,9%Kr-7%Xe-<br />
4%N2-0,1%O2 и распыленного материала катодов. Катоды были выполнены из<br />
монометаллического Ti или композитного материала, а именно Cu, с<br />
напыленным вакуумно-дуговым способом Ti. Использование двух типов<br />
катодов, в обоих случаях, приводит к поступлению материала катодов (Ti) в<br />
плазму, что подтверждается спектрометрическими измерениями [4-6].<br />
Максимальная плотность <strong>плазмы</strong> составляла np ≥ 6,5 10 13 см -3 . Разрядное<br />
напряжение Udis. ≤ 4 кВ. Длительность и максимальное значение силы<br />
разрядного тока составляли, соответственно, tdis. ~ 1 мс, Idis. ~ 1,8 кА.<br />
Импульсное магнитное поле пробочной конфигурации (пробочное отношение<br />
1,25) длительностью 18 мс создавалось соленоидом состоящим из шести<br />
катушек, максимальная индукция магнитного поля B0 ≤ 0,65 T.<br />
53
Изменение радиуса отражающего слоя с np � 1,7 10 13 см -3 (слой Α) и np �<br />
6,5 10 13 см -3 (слой Β), определенное по изменению фазы отраженной от <strong>плазмы</strong><br />
СВЧ волны, во времени представлено на рис.2. Зависимости скорости и частоты<br />
вращения плазменных слоев Α и Β от времени для смеси Ar+Ti представлены на<br />
рис.3 а,б (эксперименты проведены с монометаллическим катодом).<br />
Рис. 1. Схема расположения антенн<br />
при проведении корреляционных и<br />
интерферометрических измерений. 1<br />
– приемная антенна<br />
интерферометра, 2 – вакуумная<br />
камера, 3, 4 – приемно-передающие<br />
антенны рефлектометра, A, B –<br />
плазменные слои с np = n 1,2 cr.<br />
54<br />
r, см<br />
5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
1<br />
0<br />
2,2 2,4 2,6 2,8 3,0 3,2 3,4<br />
t, мс<br />
Рис. 2. Зависимость радиуса<br />
отражающего слоя с np = n 1,2 cr во<br />
времени,<br />
□ – Α, ncr 1 =1,7 10 13 см -3 , ○ – Β, ncr 2 =<br />
= 6,5 10 13 см -3 .<br />
Значение скорости вращения газометаллической <strong>плазмы</strong> в максимуме<br />
для слоя Α составило vφ A = 8,7 10 5 см/с, слоя Β, соответственно, vφ B = 7,9 10 5<br />
см/с. В случае вращения <strong>плазмы</strong> как единого целого угловая частота вращения<br />
ωφ, различных по радиусу слоев, должна быть одинаковая для всех слоев, а<br />
скорость вращения должна линейно расти с увеличением радиуса. В данном<br />
случае частоты вращения слоев Α и Β не совпадает друг с другом, т.е. ωφ A ≠ ωφ B ,<br />
см. рис.3б. Частота вращения слоя Β ωφ B >ωφ A т.е. слой Β с меньшим радиусом<br />
имеет более высокую частоту вращения, чем слой Α с большим радиусом.<br />
Таким образом, плазма вращается не как единое целое. Скорость вращения<br />
электронной компоненты <strong>плазмы</strong>, соответственно, частота вращения,<br />
определяется как vφ=-cEr/B, отсюда можно оценить напряженность<br />
электрического поля, которая для случая Ar+Ti <strong>плазмы</strong> равна 13,3 В/см (слой Α)
и 12,2 В/см (слой Β). Аналогичные результаты были получены и для других<br />
газометаллических смесей.<br />
v � , 10 5 см/с<br />
10<br />
8<br />
6<br />
4<br />
2<br />
0<br />
а<br />
2,4 2,6 2,8 3,0 3,2 3,4<br />
t, мс<br />
55<br />
� � �, 10 5 рад/с<br />
4<br />
3<br />
2<br />
1<br />
0<br />
б<br />
2,4 2,6 2,8 3,0 3,2 3,4<br />
t, мс<br />
Рис.3. Временные зависимости скорости и частоты вращения плазменных<br />
слоев для смеси Ar+Ti (p =6 10 -3 Torr, Udis. = 3,8 kV, монометаллические<br />
катоды). □ – Α, ncr 1 =1,7 10 13 см -3 , ○ – Β, ncr 2 = 6,5 10 13 см -3 , а – скорость; б –<br />
частота.<br />
Таким образом, в работе впервые представлены результаты<br />
экспериментов по одновременному определению скорости и частоты вращения<br />
плазменных слоев различной плотности с помощью двухчастотной СВЧ<br />
флуктуационной рефлектометрии.<br />
Литература:<br />
1. Михайловский А.Б., Ломинадзе Дж. Г., Чуриков А.П., Пустовитов В.Д.<br />
Прогресс в теории неустойчивостей вращающейся <strong>плазмы</strong> // Физика <strong>плазмы</strong>,<br />
2009, т.35, №4, с.307-350.<br />
2. Долгополов В.В., Сизоненко В.Л., Степанов К.Н. Ионная циклотронная<br />
неустойчивость вращающейся <strong>плазмы</strong> // УФЖ, 1973, т.18, №1, с.18-28.<br />
3. Жданов В.М. Явления переноса в многокомпонентной плазме. М.<br />
Энергоиздат, 1982, 176 с.<br />
4. Ковтун Ю.В., Ларин Ю.В., Скибенко А.И. и др. Спектральные<br />
характеристики плотной газометаллической <strong>плазмы</strong> отражательного разряда //<br />
ЖТФ, 2010, т. 80, №5, с. 143-145.<br />
5. Ковтун Ю.В., Скибенко А.И., Скибенко Е.И. и др. Влияние параметров<br />
импульсного отражательного разряда на его плазменные характеристики //<br />
ВАНТ Серия: Плазменная электроника и новые методы ускорения (7), 2010,<br />
№4, с. 214-218.<br />
6. Ковтун Ю.В. и др. Исследование параметров водородно-титановой <strong>плазмы</strong> в<br />
импульсном отражательном разряде // Физика <strong>плазмы</strong>, 2010, т. 35, № 11, с. 1–7.
ВЛИЯНИЕ ДОПОЛНИТЕЛЬНОГО ПОТЕНЦИАЛА НА<br />
ТЕМПЕРАТУРУ ОБРАЗЦА В ПОТОКЕ<br />
ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЫ ПОНИЖЕННОГО<br />
ДАВЛЕНИЯ<br />
И.Ш. Абдуллин , М.Ф. Шаехов , А.А. Хубатхузин , Р.Ф. Шарафеев<br />
Казанский государственный технологический университет<br />
Низкотемпературная плазма широко применяется для проведения различных<br />
видов обработки материалов. Одним из наиболее перспективных видов<br />
<strong>низкотемпературной</strong> <strong>плазмы</strong> является плазма высокочастотного (ВЧ) струйного<br />
разряда пониженного давления (p = 13,3-133 Па). В отличие от других видов<br />
электрофизической обработки, воздействие потока ионов, создаваемого в плазме ВЧ<br />
разряда пониженного давления с продувом газа, позволяет осуществлять упрочнение<br />
поверхностного слоя и получить принципиально новые устройства и материалы с<br />
характеристиками, значительно превосходящими их современный уровень, что весьма<br />
важно для интенсивного развития многих областей техники.<br />
В процессе плазменного воздействия образцы материалов нагреваются,<br />
что в ряде случаев может оказаться нежелательным. В связи с этим проведены<br />
исследования термического воздействия потока ВЧ <strong>плазмы</strong> пониженного<br />
давления на поверхность образцов материалов.<br />
Эксперименты проводились на ВЧ плазменной установке индукционного<br />
разряда (частота генератора 1,76 МГц). Установка позволяет регулировать:<br />
потребляемую мощность в диапазоне от 0,5 до 5 кВт, рабочее давление от 13,3<br />
до 133 Па, расход плазмообразующего газа до 0,12 г/с, в качестве<br />
плазмообразующего газа использовался технический аргон. Подробное<br />
описание установки представлено в [1].<br />
При указанных параметрах установки плазма обладает следующими<br />
характеристиками: концентрация электронов ne= 10 16 -10 18 м -3 , электронная<br />
температура Тe= 1-2 эВ, температура тяжелых частиц в плазменной струе может<br />
достигать 1000°C. При этом поверхность материалов, помещенных в<br />
56
плазменную струю подвергается воздействию потока ионов, обладающих<br />
энергией до 10-40 эВ при плотности ионного тока на поверхность 15-25 А·м -2 .<br />
Образец изготавливался из стали 40Х в виде пластины с размерами<br />
50х50 мм и толщиной 5 мм. Пластину устанавливали перпендикулярно потоку<br />
<strong>плазмы</strong> на различных высотах от среза плазмотрона: 30, 60, 90 и 120 мм.<br />
Для контроля температуры в центре образца на глубине 2,5 мм с<br />
обратной стороны от плазменного потока зачеканивалась хромель-алюмелевая<br />
термопара. С целью устранения влияния ВЧ наводки на показания прибора,<br />
фиксирующего ЭДС термопары, измерения температуры проводили сразу после<br />
гашением разряда. Одновременно с этим прекращали подачу<br />
плазмообразующего газа, таким образом, пластина при минимальном<br />
теплообмене в условиях вакуума в начальный момент времени сохраняла свою<br />
температуру. Время установления температуры пластины в зависимости от<br />
расстояния от среза плазмотрона и режима плазменного воздействия составляла<br />
15 мин при этом максимальная скорость нагрева в начальный момент<br />
составляла 2°С/с.<br />
� Исследование влияния подачи потенциала на образец при<br />
плазменной обработке проводилось с помощью кольцевого<br />
электрода диаметром 40 мм, расположенного на выходе из сопла<br />
плазмотрона так, чтобы видимая часть плазменной струи,<br />
проходящей через него, не соприкасалась с кромками отверстия.<br />
Электрод, держатель и сам образец изолировались друг от друга<br />
керамическими пластинками. Приложенный отрицательный<br />
потенциал к изделию ограничивался величиной 90 В из-за<br />
возникновения электрического пробоя межэлектродного<br />
промежутка через плазму.<br />
Опыты показали, что при введении образца в плазменную струю<br />
температура выравнивается по радиусу струи, и отклонение от осевого значения<br />
составляет 20-25%. Таким образом, при воздействии на образец плазменной<br />
струи пониженного давления его поверхность находится практически в<br />
одинаковых условиях. Струя в рассматриваемом диапазоне параметров<br />
позволяет нагревать образец до 1000°С.<br />
В исследуемом диапазоне режимов плазменного воздействия с ростом<br />
мощности температура образца увеличивается по линейному закону.<br />
57
При увеличении расстояния от среза плазмотрона до образца<br />
приобретаемая им температура довольно сильно изменяется на расстояниях до<br />
60 мм. При больших расстояниях температуры образца изменяется<br />
незначительно до 10%.<br />
При подаче дополнительного отрицательного потенциала на образец и<br />
одинаковых параметрах работы генератора температура образца возрастает.<br />
Увеличение значения дополнительного потенциала позволяет поднять<br />
температуру образца на 10-30% в зависимости от мощности вкладываемой в<br />
разряд (рис. 1).<br />
750<br />
700<br />
650<br />
600<br />
550<br />
500<br />
450<br />
400<br />
t обр , о C<br />
1 1,1 1,2 1,3 1,4 1,5 1,6<br />
U = 0 B U = 30 B U = 70 B<br />
P р , кВт<br />
Рис. 1 Зависимость температуры образца от мощности вкладываемой в<br />
разряд Pр и дополнительного отрицательного потенциала на образец U<br />
(G = 0,08 г/с, p = 90Па).<br />
Объяснить подобный характер взаимодействия плазменной струи и<br />
образца можно, проанализировав элементарные процессы, происходящие в<br />
окрестности обрабатываемого тела. Проведенными ранее оценками [1]<br />
установлено, что наибольший вклад в модификацию поверхности твердых тел<br />
вносят рекомбинация ионов с электронами на поверхности твердых тел,<br />
передача кинетической энергии ионов и термическое воздействие.<br />
В плазме при изменении мощности разряда от 0,5 кВт до 5,0 кВт энергия<br />
ионов возрастает, растет концентрация электронов в плазменной струе и<br />
температура частиц. Подача дополнительного отрицательного потенциала на<br />
58
образец позволяет повысить кинетическую энергию ионов и таким образом<br />
увеличить плотность теплового потока на поверхность образца, что приводит к<br />
росту его температуры.<br />
Установленные зависимости между входными параметрами установки и<br />
параметрами разряда показывают на возможность эффективной и достаточно<br />
простой регулировки характеристик струи разряда. Режим обработки можно<br />
регулировать не только, изменяя расход, мощность разряда, перемещением<br />
обрабатываемого тела вдоль струи, но и подачей дополнительного потенциала.<br />
Литература:<br />
1. Абдуллин И.Ш. Модификация нанослоев в высокочастотной плазме<br />
пониженного давления / И.Ш. Абдуллин, В.С. Желтухин, И.Р. Сагбиев,<br />
М.Ф.Шаехов. – Казань: Изд-во Казан. технол. ун-та, 2007. – 356 с.<br />
59
СПЕКТРАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ<br />
ИНДУКЦИОННЫХ РАЗРЯДОВ<br />
Абдуллин И.Ш. 1 , Быканов А.Н. 1 , Гафаров И.Г. 1 , Ибрагимов О.Е. 2<br />
1 Казанский государственный химико-технологический университет<br />
2 Инновационный технопарк «Идея»<br />
Обработка в высокочастотном разряде пониженного давления (при<br />
давлении от 1.33 до 266 Па) является эффективным способом модификации<br />
поверхности материалов органической и неорганической природы и позволяет<br />
проводить очистку, полировку поверхности, нанесение тонкопленочных<br />
покрытий, упрочнение поверхностного слоя, повышение усталостной<br />
прочности, износостойкости и срока службы конструкционных материалов.<br />
ВЧИ разряды атмосферного давления, применяются при плазмохимическом<br />
производстве сверхчистых соединений, гранул тугоплавких веществ, ультра - и<br />
нанодисперсных порошков. Во всех пречисленных процессах температура газа<br />
является одним из основных параметров, определяющих процесс<br />
взаимодействия <strong>плазмы</strong> с материалом. В настоящей работе проведены<br />
исследования по разработке методики измерения газовой температуры ВЧ<br />
разрядов в присутствии твердого для разрядов как пониженного, так и<br />
атмосферного давления.<br />
Спектры снимались оптоволоконным спектрометром USB4000 компании<br />
Ocean Optics. Спектрометр и световод оптимизированы на диапазон длин волн<br />
от 190 до 410 нм. Фотоприемная матрица спектрометра (CCD) имеет 3648<br />
элементов на весь спектральный диапазон. Перед проведением измерений<br />
выполнялась калибровка спектрометров по длине волны и измерялась<br />
корректирующая характеристика чувствительности спектрометра во всем<br />
диапазоне длин волн. Корректировка длины волны производилась по ртутной<br />
лампе, а корректировка чувствительности по фотометрическому<br />
калиброванному источнику DH2000 (дейтериевая лампа).<br />
Изображение разряда при помощи линзы, изготовленной из плавленого<br />
кварца, проецировалось на плоскость размещения торца световода. Таким<br />
60
образом производился контроль зоны, излучение которой снималось<br />
спектрометром. При сканировании торца световода в плоскости изображения и<br />
применении абелевых преобразований возможно измерение пространственных<br />
спектральных характеристик.<br />
ВЧИ разряд пониженного давления (30 - 65 Па) создавался на частоте<br />
1.76 МГц при уровне мощности 1 - 2 кВт. Спектр снимался на осевой линии в<br />
20 мм от верхнего витка индуктора. ВЧИ разряд атмосферного давления<br />
создавался в водоохлаждаемом плазмотроне на частоте 1.76 МГц в диапазоне<br />
мощностей 7 - 12 кВт. Спектр снимался на оси разряда при разных уровнях<br />
мощности, вкладываемой в реактор. Плазмообразующим газом во всех<br />
экспериментах был аргон с примесью воздуха или воздух.<br />
При снятии спектров определялась изолированная колебательная полоса<br />
электронного перехода, которая может использоваться для измерения газовой<br />
температуре по неразрешенной вращательной структуре. На рисунке 1<br />
представлен спектр ВЧИ разряда пониженного давления.<br />
Интенсивность, отн. ед<br />
4.0<br />
3.5<br />
3.0<br />
2.5<br />
2.0<br />
1.5<br />
1.0<br />
0.5<br />
0.5A<br />
0.8A<br />
1.0A<br />
0.0<br />
200 250 300 350 400<br />
Длина волны, нм<br />
Рисунок 1 Спектры в УФ диапазоне для ВЧИ разряда пониженного давления<br />
Полоса 0-0 2+ системы азота (красный кант на 337.1 нм), пригодная для<br />
диагностики, не является изолированной, на нее накладываются другие полосы<br />
61
(в частности, 1-я отрицательная система N2+). В то же время полоса 0�2 2+<br />
системы азота (красный кант на 380.5 нм) является достаточно изолированной и<br />
позволяет осуществить корректное вычитание фоновой интенсивности,<br />
создаваемой соседними линиями.<br />
Рисунок 2 показывает полные спектры ВЧИ разряда атмосферного<br />
давления, снятые в УФ диапазоне для трех значений мощности разряда.<br />
Спектры являются многокомпонентными и, в отличие от спектров<br />
неравновесных разрядов пониженного давления, выделить изолированную<br />
полосу 2+ системы N2 не удается. Поэтому применена более сложная модель,<br />
позволяющая рассчитывать спектры воздушной <strong>плазмы</strong>, задаваясь ее составом,<br />
четырьмя температурами (поступательной, вращательной, колебательной и<br />
электронной) и относительными интенсивностями спектральных полос.<br />
Интенсивность, отн. ед.<br />
4.0<br />
3.5<br />
3.0<br />
2.5<br />
2.0<br />
1.5<br />
1.0<br />
0.5<br />
7.8 kW<br />
10.2 kW<br />
12.0 kW<br />
0.0<br />
200 250 300 350 400<br />
Длина волны, нм<br />
Рисунок 2. Спектры ВЧИ разряда атмосферного давления<br />
Из моделирования молекулярных спектров, в частности, 2+ системы<br />
азота, в соответствии с [1], интенсивность изолированной колебательной<br />
полосы при неразрешенной вращательной структуре перехода меняется<br />
экспоненциально с длиной волны, причем показатель экспоненты однозначно<br />
связан с вращательной температурой, которая в наших разрядах с хорошей<br />
62
точностью равна температуре газа. Таким образом, выделив изолированную<br />
полосу, вычтя «подставку» интенсивности от соседних переходах (что<br />
довольно просто на изолированных полосах) и построив спектр в<br />
полулогарифмическом масштабе, мы можем обнаружить участок линейной<br />
зависимости логарифма интенсивности от длины волны. Обычно, в присутствии<br />
соседних линий, диапазон линейности составляет около 2 нм. Промоделировав<br />
этот участок спектра, можно однозначно связать тангенс угла наклона прямой<br />
(параметр Gamma) с температурой, что было сделано для наблюдаемых<br />
изолированных переходов.<br />
Таким образом, исследованы спектры ВЧИ разрядов пониженного и<br />
атмосферного давления, существенно отличающихся способом создания <strong>плазмы</strong><br />
и плазменными параметрами, в частности, температурой газа и степенью<br />
неравновесности. Снятые в УФ диапазоне спектры исследованных разрядов<br />
позволили найти участки диапазона, пригодные для диагностики <strong>плазмы</strong>, в<br />
частности, измерения газовой температуры. Спектральные измерения находятся<br />
в хорошем соответствии с результатами исследований энергетического баланса<br />
установок. Разработанные методики позволяют проводить оптимизацию<br />
плазменных параметров при разработке новых технологических процессов и<br />
при функционировании действующего оборудования.<br />
Литература<br />
1. G. Hertzberg// Moleculaar spectra and molecular structure Vol. 1. Spectra of<br />
Diatomic Molecules. Second Edition.– D.Van Nostard Company, Inc. Princeton, New<br />
Jersey.<br />
63
ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ<br />
ИМПУЛЬСНОГО НАНОСЕКУНДНОГО РАЗРЯДА В<br />
ВОЗДУХЕ АТМОСФЕРНОГО ДАВЛЕНИЯ<br />
Е.А. Елистратов, А.П. Кузнецов, С.П. Масленников, А.А. Протасов,<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
В настоящее время проводятся активные исследования в области физики<br />
импульсных газовых разрядов с объемной пространственной структурой. Это<br />
связано с перспективами их использования для различных практических<br />
применений, в частности для обеззараживания загрязненной среды и обработки<br />
поверхностей. Данная работа посвящена исследованиям подобного разряда в<br />
воздушной среде атмосферного давления, проводимым в течение ряда<br />
последних лет в НИЯУ МИФИ.<br />
на рис.1.<br />
1<br />
Схема установки и расположения измерительных датчиков представлена<br />
3 4<br />
Рис.1. Упрощенная электрическая схема установки и расположение<br />
измерительных устройств. 1 – импульсный генератор; 2 – разрядная камера; 3<br />
– высоковольтный делитель напряжения; 4 – токовый шунт; 5 –<br />
фотоэлектронный умножитель; 6 – спектрометр.<br />
Электропитание разряда осуществляется высоковольтным генератором<br />
импульсов напряжения (1) амплитудой от 20 до 50 кВ и длительностью (на<br />
полувысоте) 50 нс (частота повторения до 1 кГц) [1]. Генератор разработан на<br />
основе автотрансформатора, в качестве коммутатора емкостного накопителя<br />
выходного каскада используется водородонаполненный тиратрон. В разрядной<br />
камере (2) располагаются электродные системы различного конструктивного<br />
64<br />
2<br />
5 6<br />
TDS 3054 PC
исполнения, характерные длины межэлектродных промежутков составляют<br />
0,5-3 см. Контроль электрических параметров осуществляется при помощи<br />
высоковольтного делителя напряжения Tektronix P6015A (3) и резистивного<br />
токового шунта сопротивлением 2 Ом (4).<br />
На рис.2 представлены импульсы напряжения, тока и динамика вложения<br />
энергии диффузного разряда. В данной работе использовалась электродная<br />
система «лезвие-плоскость» длина лезвия составляла 6 см, Измерения<br />
проводились при межэлектродном зазоре dМЭП=2,5 см. Длительность импульса<br />
напряжения на полувысоте не превышает 100 нс при этом время интегральной<br />
светимости <strong>плазмы</strong> в видимом диапазоне спектра, регистрируемое при помощи<br />
ФЭУ (5), составляло 25 нс (по уровню 0,5).<br />
U<br />
Рис. 2 Импульсы напряжения (U), тока (I), динамика вложения энергии (W) и<br />
свечение диффузного разряда (L) (dМЭП=2,5 см; f=50 Гц)<br />
Импульс тока имеет сложную форму, что обусловлено изменением во<br />
времени параметров плазменной нагрузки. На переднем фронте импульса<br />
напряжения формируется короткий пик емкостного тока, протекающего через<br />
емкость межэлектродного промежутка. В дальнейшем в разряде преобладает<br />
активная составляющая тока.<br />
Для исследования пространственной структуры разряда и развития<br />
разряда во времени проводилось высокоскоростное фотографирование при<br />
помощи электронно-оптической камеры Bifo К008. Результаты<br />
фотографирования разряда, развивающегося в электродной конфигурации<br />
лезвие-плоскость (dМЭП=2,5см) представлены на рис.3. Видно, что разряд имеет<br />
стримерную форму и его развитие происходит с кромки катода в виде большого<br />
количества каналов.<br />
W<br />
65<br />
L<br />
I
Рис.3. Фотографирование развития разряда во времени<br />
Для анализа компонентного состава <strong>плазмы</strong> и оценки вращательной и<br />
колебательной температур в плазме были проведены спектральные<br />
исследования разряда. Спектры получены при помощи спектрометра ASP-<br />
150TF (Avesta Project) со спектральным разрешением 0,9 и диапазоном 180 -<br />
1100 нм. Характерный вид спектра представлен на рис.4(а). Все спектральные<br />
линии разряда сосредоточены в области 250-410 нм и представляют собой<br />
линии молекулярного азота. Также на данном графике обозначены линии,<br />
соответствующие колебательным переходам (2 + )-системы азота с указанием<br />
номеров колебательных уровней, между которыми происходят<br />
соответствующие оптические переходы.<br />
Определение вращательной температуры в разряде осуществлялись по<br />
неразрешенной вращательной структуре излучения 0-0-полосы (2 + )-системы<br />
азота [2]. Зависимости температуры от частоты подаваемых импульсов<br />
представлены на рис.4(б).<br />
Как видно, температура разряда меняется в широких пределах в<br />
зависимости от условий горения разряда: наблюдается рост температуры с<br />
увеличением частоты, а также прослеживается влияние диэлектрического<br />
барьера, устанавливаемого на заземленном электроде: максимальные<br />
температуры достигаются при отсутствии барьера, увеличение толщины<br />
барьера ведет к снижению температур.<br />
66
0→0<br />
1→0<br />
Рис.4. а - Характерный вид спектра разряда; б - зависимость вращательной<br />
температуры от частоты 1 – без диэлектрического барьера, 2 – оргстекло<br />
толщиной 1 мм, 3 – ПВХ пленка толщиной 200 мкм<br />
Измерения колебательной температуры проводилось по относительной<br />
интенсивности электронно-колебательных полос (2 + )-системы азота. При этом<br />
во всех исследуемых режимах колебательная температура лежала в диапазоне<br />
от 3 до 6тысяч градусов Кельвина. Такие различия вращательных и<br />
колебательных температур свидетельствуют о неравновесности <strong>плазмы</strong>.<br />
Проведены измерения концентрации электронов в плазме разряда.<br />
Измерения проводились с использованием лазерного интерферометра,<br />
собранного по схеме Майкельсона с квадратурной регистрацией сигналов [3]. В<br />
качестве излучателя использовался одночастотный малошумящий<br />
твердотельный лазер ДТЛ-317 мощностью до 50 мВт с генерацией на частоте<br />
532 нм. Квадратурные каналы регистрации получаются методом<br />
позиционирования фотоприемников на интерференционной полосе. В<br />
результате обработки полученных сигналов получены значения электронной<br />
плотности 3*10 15 см -3 .<br />
Литература:<br />
1→2<br />
2→3<br />
0→1<br />
2→4<br />
0→2<br />
1→3<br />
3→5<br />
1. Крастелев Е.Г., Масленников С.П., Школьников Э.Я. Генератор<br />
высоковольтных наносекундных импульсов для возбуждения диффузных<br />
газовых разрядов при атмосферном давлении. // ПТЭ, №5, 2009, с.98-101.<br />
2. Ельяшевич М.А. Атомная и молекулярная спектроскопия. – М.: Физматгиз,<br />
1962.<br />
3. Вовченко Е.Д., Кузнецов А.П., Савѐлов А.С. Лазерные методы диагностики<br />
<strong>плазмы</strong>. – М.: МИФИ, 2008<br />
67<br />
1<br />
3<br />
2
ИССЛЕДОВАНИЕ ИЗЛУЧАТЕЛЬНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК<br />
СИЛЬНОТОЧНОГО ИМПУЛЬСНОГО МАГНЕТРОННОГО<br />
РАЗРЯДА<br />
Д.В. Мозгрин 1 , Т.В. Степанова 1 , В.И. Тройнов 2 , Г.В. Ходаченко 1 ,<br />
А.В. Шумов 2 , И.А. Щелканов 1<br />
1. Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
2. Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана<br />
Сильноточный магнетронный разряда (СМР) низкого давления<br />
характеризуется широким диапазоном токов 0,2 – 120 А при плотности тока до<br />
25 А/см 2 с растущей c некоторого критического напряжения вольтамперной<br />
характеристикой (ВАХ). Разряд этого вида обладает высоким (до 1,2 кВ)<br />
напряжением горения и реализуется в диапазоне давлений 10 -3 � 10 -1 Тор и<br />
магнитных полей 0,4 � 1,0 кГс. Особенностью СМР является интенсивное<br />
распыление материала катода, связанное с высокой энергией и плотностью<br />
ионного потока. Оценки для типичных режимов, характерных для<br />
технологических приложений, показали, что концентрация <strong>плазмы</strong> СМР может<br />
достигать 5�10 13 см -3 [1].<br />
В качестве исследуемого разрядного устройства в работе использовался<br />
планарный магнетрон с титановым катодом диаметром 120 мм. Сначала в нем<br />
инициировался стационарный магнетронный разряд постоянного тока, а для<br />
формирования СМР разрядный промежуток подключался к ступени высокого<br />
напряжения от искусственной длинной линии с сосредоточенными<br />
параметрами, состоящей из 19 LC – секций с общим энергозапасом 6,3 кДж.<br />
Для регистрации спектра излучения <strong>плазмы</strong> магнетронного разряда<br />
применялся 4-х канальный спектрометр AvaSpec-2048 с дифракционными<br />
решетками, перекрывающими видимый диапазон длин волн (355 - 810 нм).<br />
Оптическое разрешение составляло от 0,05 до 0,2 нм и зависело от диапазона<br />
регистрируемых длин волн. Излучение из разрядного промежутка выводилось<br />
через кварцевое окно вакуумной камеры, проходило фокусирующую<br />
68
коллимационную линзу, оптоволоконный кабель и попадало на вход<br />
спектрометра.<br />
Далее развернутый в спектр световой поток регистрировался ПЗС-<br />
линейкой, проходил предварительную обработку с помощью встроенного в<br />
спектрометр микропроцессора и по USB-интерфейсу передавался на<br />
персональный компьютер. Здесь с использованием программного обеспечения<br />
AvaSoft и специально разработанного для этих целей программного комплекса<br />
SpectrAN [2] производилась цифровая обработка полученного сигнала,<br />
позволяющая проводить анализ спектра с целью получения компонентного<br />
состава и количественных характеристик <strong>плазмы</strong>.<br />
Эксперименты по исследованию излучательных характеристик <strong>плазмы</strong><br />
СМР производились при следующих условиях: рабочий газ – аргон, давление<br />
рабочего газа в камере – 8 . 10 -3 Торр, напряжение стационарного магнетронного<br />
разряда – 300 -340 В. Ток стационарного разряда составлял 100 – 120 мА,<br />
напряжение импульсного разряда – 500 – 900 В, ток импульсного разряда 3,0 –<br />
86 А, длительность импульса варьировалась в пределах 5,0 – 25 мс.<br />
Для анализа процессов возбуждения плазмообразующего газа СМР<br />
производилась регистрация спектра излучения как стационарного, так и<br />
импульсного магнетронного разряда. На рис. 1 приведен типичный<br />
интегральный спектр излучения <strong>плазмы</strong> СМР.<br />
Для идентификации спектральных линий использовалась база данных<br />
Национального института стандартов и технологии США [3]. В спектре<br />
излучения СМР были обнаружены линии Ti, Ti + , Ti 2+ , Ar, Ar + , Ar 2+ ,<br />
отсутствующие в спектре стационарного разряда, что указывает на различия в<br />
механизмах возбуждения в данных типах разряда.<br />
Качественный анализ спектра позволил сделать вывод о наличии в<br />
плазме СМР большого количества ионов Ti + и Тi 2+ . Это свидетельствует о том,<br />
что плазма СМР обладает более высокой степенью ионизации по сравнению со<br />
стационарным разрядом. При увеличении мощности отмечено появление ряда<br />
новых линий, соответствующих компонентам Ar, Ar + , Ti + , Ti 2+ , и увеличение<br />
доли материала катода в плазме разряда. Наличие сильно ионизованной <strong>плазмы</strong><br />
и поддержание высокого напряжения горения разряда приводили к<br />
интенсивному распылению катодной мишени.<br />
69
Рис. 1. Интегральный спектр излучения <strong>плазмы</strong> СМР: напряжение разряда<br />
900 В, ток импульсного разряда 74 А, длительность импульса 20 мс,<br />
время интегрирования 400 мс<br />
Для проведения количественного анализа параметров <strong>плазмы</strong><br />
использовалась методика, описанная в [2]. По полученным относительным<br />
интенсивностям идентифицированных спектральных линий определялась<br />
заселенность верхних уровней Nk = Ik→i / [Ak→i (Ek-Ei)]. Далее формировался<br />
массив значений<br />
y<br />
x� Ek(абсцисса).<br />
���N � � N ���<br />
(ордината) от энергии верхних уровней<br />
�������� k<br />
0<br />
� ln ������ gkg0 Из рис. 2, отражающего указанную зависимость, видно, что<br />
экспериментальные точки группируются вдоль различных прямых<br />
���N � � k N ��<br />
0 � Ek<br />
ln �������� , соответствующих закону Больцмана. С помощью<br />
���gk��g0��� kT Á<br />
метода наименьших квадратов каждая группа точек аппроксимировалась<br />
70
прямой, тангенс угла наклона которой позволял получить температуру<br />
распределения для атома или иона каждого химического элемента.<br />
а) б)<br />
Рис. 2. Распределения заселенностей уровней атомов и ионов компонентов<br />
(а):в стационарном разряде (напряжение 320 В, ток 110 мА);<br />
(б): в сильноточном разряде (напряжение 900 В, ток 35 А)<br />
Анализ полученных распределений позволяет сделать вывод, что разброс<br />
экспериментальных точек относительно прямых, построенных по методу<br />
наименьших квадратов, уменьшается при переходе разряда в сильноточную<br />
форму. Таким образом, СМР является более равновесным, т.к. распределение<br />
заселенностей групп уровней лучшей подчиняется закону Больцмана.<br />
Литература:<br />
1. Фетисов И.К. Газовый разряд низкого давления в магнитном поле. М: НИЯУ<br />
«МИФИ», 1999.<br />
2. Автоматизированный спектрометрический комплекс для диагностики <strong>плазмы</strong><br />
магнетронного разряда / В.М. Градов, А.М. Зимин, С.Е. Кривицкий, А.В.<br />
Шумов // Вопросы атомной науки и техники. Сер. Термоядерный синтез. 2009.<br />
Вып. 1. С. 64-71.<br />
3. Atomic Spectra Database Lines Form // National Institute of Standards and<br />
Technology (NIST). URL: http://physics.nist.gov/ (дата обращения: 10.09.2010).<br />
71
СОВРЕМЕННЫЕ МЕТОДЫ ДИАГНОСТИКИ<br />
ПЛАЗМЕННОГО АЭРОЗОЛЯ<br />
Л.А.Луценко, А.В.Ильницкая, А.М.Егорова, И.В.Березняк<br />
ФГУН ФНЦГ им. Ф.Ф.Эрисмана Роспотребнадзора МЗ и СР<br />
В современном производстве существуют источники непреднамеренного<br />
антропогенного загрязнения производственной и окружающей среды<br />
наночастицами, которые могут присутствовать в различных аэрозолях не<br />
свободно, изолированно, а в виде комплексов с более крупными частицами или<br />
с газами. Среди непреднамеренных источников поступления частиц в воздух<br />
рабочей зоны можно назвать, например, плазменные технологии.<br />
Тепловое взаимодействие <strong>плазмы</strong> и обрабатываемого материала может<br />
приводить к образованию субмикронных и наночастиц высокой степени<br />
чистоты в узком диапазоне гранулометрического состава со сферической<br />
формой частиц.<br />
В таблице 1 представлены данные о концентрациях и размерах<br />
аэрозольных наночастиц при разных видах деятельности человека.<br />
Таблица 1.Концентрации и размеры аэрозольных наночастиц<br />
[цит. по В.Н.Лысцову, Н.В.Мурзину, 2007]<br />
Вид деятельности Концентрация<br />
НЧ, х10 4 см -3<br />
72<br />
Размер, нм<br />
Шлифовка, обработка металлов 1 – 20 17 – 170<br />
Бытовая пайка и сварка 1- 40 40 – 70<br />
Промышленная сварка 5 – 350 30 – 130<br />
Строительная сварка 10 – 5000 30 – 600<br />
Плазменная резка 5 – 50 120 – 180<br />
В силу того, что распределение температур в плазменной струе<br />
характеризуется неоднородностью при некоторых видах технологий, например<br />
при напылении, наплавке, плазменно-механической обработке не происходит<br />
достаточного проплавления вещества и, поэтому, образуются оплавленные
сферические частицы разных размеров с небольшим числом пор и с невысокой<br />
сорбционной способностью.<br />
При плазменной резке, когда обрабатываемый материал нагревался до<br />
испарения или при плазменно-химической технологии, вследствие конденсации<br />
паров и последующей коагуляции частиц в воздух рабочей зоны поступает<br />
высокодисперсный аэрозоль с высокой сорбционной способностью.<br />
Проявлением вредного действия высокотоксичной пыли на организм<br />
может быть развитие острых и хронических интоксикаций (отравлений),<br />
включая пневмокониозы от аэрозолей токсико-аллергического действия,<br />
токсико-пылевые бронхиты. Аэрозоли некоторых металлов способны вызывать<br />
отдаленные эффекты, в том числе – канцерогенный, могут наблюдаться<br />
аллергические реакции, генотоксический эффект и др.<br />
Плазменно-струйные процессы при их технологическом применении<br />
являются источниками ряда физических и химических факторов, которые в<br />
свете выявленных закономерностей сочетанного и комбинированного действия<br />
вредных веществ в виде высокодисперсных аэрозолей и физических факторов<br />
обуславливают достаточно раннее развитие неспецифических патологических<br />
изменений в различных органах и системах организма человека.<br />
Результаты медицинского обследования работающих, обслуживающих<br />
различные типы плазменных установок в динамике 10 лет показали наличие<br />
функциональных расстройств в состоянии центральной и вегетативной нервной<br />
систем, сердечно-сосудистой системы, анализаторов. В легочной ткани<br />
отмечена выраженная клеточная реакция, преимущественно лимфоидной<br />
ткани, множество макрофагов (эпителиоидного типа) компактно<br />
расположенных в альвеолах и перегородках; признаки периваскулярного отека,<br />
набухание и разволокнение стенок сосудов.<br />
Приведенные данные свидетельствуют о необходимости<br />
совершенствования методов идентификации плазменных наночастиц в воздухе<br />
рабочей зоны и окружающей среды.<br />
В России основными гигиеническими критериями вредности<br />
промышленных аэрозолей являются: масса действующей пыли; еѐ<br />
вещественный состав; время действия, которые были положены в основу<br />
нормирования пылевого фактора, гигиенического контроля и системы медико-<br />
профилактического обслуживания работников предприятий. Эти критерии<br />
73
обоснованы результатами фундаментальных работ отечественных гигиенистов;<br />
анализом мирового опыта.<br />
За рубежом, принята концепция, где ведущую роль отводят<br />
респирабельной фракции. В частности, за рубежом устанавливаются<br />
дифференцированные стандарты для общей (вдыхаемой) пыли и<br />
респирабельной (дыхательной) фракции. Соответственно для пылевого<br />
контроля, как правило, применяют приборы двухступенчатой гравиметрии.<br />
В то же время в России утвержден национальный стандарт Российской<br />
Федерации: ГОСТ Р ИСО 7708-2006 (дата последнего изменения - 23.06.2009):<br />
«Качество воздуха. Определение гранулометрического состава частиц при<br />
санитарно-гигиеническом контроле». Стандарт подготовлен на основе<br />
аутентичного перевода международного стандарта ИСО 7708:1995 «Air quality –<br />
Particle size fraction definition for health-related sampling». Качество воздуха.<br />
Определение гранулометрического состава частиц при санитарно-<br />
гигиеническом контроле".<br />
Существует также ГОСТ Р ИСО 14644-3-2007 «Чистые помещения и<br />
связанные с ними контролируемые среды. Часть 3. Методы испытаний». В<br />
стандарте приведены методы и приборы для определения аэрозольных макро и<br />
микрочастиц.<br />
Согласно ГОСТ Р ИСО 7708-2006, доля взвешенных в воздухе частиц,<br />
вдыхаемых человеком, зависит от свойств частиц, скорости и направления<br />
движения воздуха вблизи человека, интенсивности вдыхания, типа вдыхания:<br />
через нос или рот. Вдыхаемые частицы могут оседать в какой-либо области<br />
дыхательных путей или могут быть выдохнуты. Стандарт устанавливает<br />
нормативы по отбору проб при определении гранулометрического состава<br />
взвешенных частиц, содержащихся в воздухе рабочей зоны и окружающей<br />
атмосфере, с целью оценки влияния на здоровье человека.<br />
В стандарте приведены нормативы (условные характеристики) устройств<br />
для отбора проб вдыхаемой, торакальной и респирабельной фракции, а также<br />
расчет нормативов по экстраторакальной и трахеобронхиальной фракциям<br />
(вдыхаемую фракцию иногда называют инспирируемой - термины<br />
эквивалентны). Выбор нормативов зависит от области дыхательных путей, в<br />
которой исследуемый компонент взвешенных частиц воздействует на здоровье<br />
человека. Выбирают норматив по вдыхаемой фракции, если вещество может<br />
74
привести к болезни независимо от области оседания; по торакальной фракции -<br />
если областью оседания были проводящие пути легких (бронхи); по<br />
респирабельной фракции - если областью оседания был участок газообмена от<br />
дыхательных бронхиол до альвеол.<br />
Методы оценки и идентификации наночастиц предложены в<br />
международных стандартах: TECHNICAL REPORT ISO/TR 27628 First edition<br />
2007-02-01 «Workplace atmospheres — Ultrafine, nanoparticle and nano-structured<br />
aerosols — Inhalation exposure characterization and assessment», ISO/TR<br />
12885:2008(E) First edition 2008-10-01 Nanotechnologies — Health and safety<br />
practices in occupational settings relevant to nanotechnologies.<br />
В данных документах указано, что ингаляционный путь считается одним<br />
из основных при воздействии наноматериалов, наряду с другими путями<br />
проникновения наночастиц: через желудочно-кишечный тракт и через кожу.<br />
Имеются доказательства того, что не только массовая концентрация,<br />
определяет риск здоровью при действии некоторых аэрозолей. Как указывают<br />
многие токсикологи, некоторые очень маленькие респирабельные<br />
нерастворимые частицы могут быть более токсичными, чем большие<br />
респирабельные частицы с подобным составом (по массе к массовому<br />
основанию). Становится очевидным, что риск здоровью после ингаляции<br />
некоторых профессиональных аэрозолей связан не только с массовой<br />
концентрацией.<br />
Т.о, гравиметрический метод не всегда применим для частиц менее 100<br />
нм, ввиду особенностей наночастиц: относительно маленькая масса, большая<br />
поверхностная площадь, быстрое рассеивание, образование агломератов.<br />
Необходимы дальнейшие исследования взаимосвязи показателей состава<br />
и свойств наноаэрозолей и их вредных эффектов; опережающая разработка<br />
гигиенических мер защиты работников; разработка приборов контроля, методов<br />
идентификации воздействия наночастиц.<br />
Литература:<br />
1. Лысцов В.Н., Мазурин Н.В.Проблемы безопасности нанотехнологий. –<br />
М., МИФИ, 2007. – 70 с.<br />
75
ТОМОГРФИЧЕСКИЙ ПОДХОД В ЗАДАЧЕ 3D<br />
РЕКОНСТРУКЦИИ ПЛАЗМЕННО-ПЫЛЕВЫХ СТРУКТУР<br />
А.В. Бульба<br />
Петрозаводский государственный университет<br />
При определенных условиях в плазме, в частности, в тлеющем разряде<br />
постоянного тока в газах из введенных в плазму частиц размером от нескольких<br />
до сотен микрометров возникают самоупорядоченные плазменно-пылевые<br />
структуры [1]. В случае высокой степени упорядоченности структура<br />
называется ―плазменным кристаллом‖.<br />
Получить информацию о пространственном распределении частиц<br />
―кристалла‖ возможно путѐм регистрации нескольких двумерных изображений<br />
области с частицами под различными углами наблюдения с последующей<br />
математической обработкой методом томографии.<br />
Для реализации предложенного подхода на основе метода обратного<br />
проецирования [2, 3] разработан алгоритм, позволяющий итеративно находить<br />
оптимальное решение для случая неоткалиброванных камер, учитывая<br />
ограничения, накладываемые используемой аппаратурой и условиями<br />
проведения эксперимента.<br />
Создано соответствующее программное обеспечение и успешно<br />
проведены эксперименты по восстановлению структур, состоящих из<br />
нескольких десятков частиц.<br />
Экспериментальная установка представляет собой вертикально<br />
установленную газоразрядную трубку с внутренним диаметром 2.6 см (рис. 1).<br />
Промежуток между электродами 45 см. Частицы 2 3 O AL (полидисперсионный<br />
порошок с диаметром частиц от нескольких единиц до нескольких десятков<br />
микрон) инжектируются из контейнера, расположенного в верхней части<br />
трубки. Исследования проводились в постоянном токе тлеющего разряда.<br />
В установке использовались три идентичные фотокамеры ―Canon EOS<br />
10D‖ с объективами ―Canon EF 100 F2.8 Macro‖ и удлинительными кольцами.<br />
76
Синхронизация фотокамер осуществлялась, благодаря возможности<br />
одновременного электронного управления несколькими затворами.<br />
Пылевая структура освещалась расширенным лучом (диаметр луча 5 мм)<br />
полупроводникового лазера с длиной волны 532 нм. При этом луч направлялся<br />
не перпендикулярно трубке, а, используя зеркала, под углом ≈ 45º, чтобы<br />
избежать бликов.<br />
Рис. 1 Вид экспериментальной установки.<br />
Проекции (фотографии) одной из пылевых структур представлены на<br />
рис. 2а, б, в. Серые размытые пятна (рис. 2а, б, в) – частицы плазменно-пылевой<br />
структуры; белые одинаковые кружки (рис. 2а, б, в) – проекции, вычисленные с<br />
восстановленной структуры и наложенные поверх изображений частиц<br />
―кристалла‖ для проверки точности восстановления. Результат обработки<br />
можно сразу оценить визуально, т.к. восстановленная структура выводится в 3-х<br />
мерном виде (рис. 2г).<br />
77
Рис. 2 Три проекции (фотографии) пылевой структуры (a, б, в) при углах<br />
наблюдения 1.05 0 , 31.63 0 и 158.53 0 ; масштаб 105 pix на 250 мкм, время<br />
экспозиции 1/500 с., диафрагма 4; газ Ar, P=29 Па, I=0.31 мА; восстановленная<br />
структура из 40 частиц (г).<br />
На рис. 3 представлена парная корреляционная функция<br />
восстановленной трѐхмерной структуры с rgmax=364 мкм.<br />
0,012<br />
0,01<br />
0,008<br />
0,006<br />
0,004<br />
0,002<br />
g(r)<br />
Парная корреляционная функция<br />
0<br />
0 0,2 0,4 0,6 0,8 1 1,2 1,4<br />
78<br />
r, мм<br />
Рис. 3 Парная корреляционная функция восстановленной структуры.<br />
Предложенным методом исследованы зависимости параметров<br />
трехмерной пылевой структуры (средние расстояния между частицами rср,<br />
горизонтальные составляющие rxy и вертикальные rz) из полидисперсного<br />
порошка Al2O3 с диаметром частиц от нескольких единиц до нескольких
десятков микрон от токов (в диапазоне 0.1-1.2 мА, с шагом 0.1 мА) и давлений<br />
(27 - 80 Па, с шагом 13 Па) в тлеющем разряде постоянного тока в Ar.<br />
Литература:<br />
1. Fortov V. [et al.]. Emission properties and structural ordering of strongly coupled<br />
dust particles in a thermal plasma // Phys. Lett. A., 1996, V. 219, P. 89-94.<br />
2. Пикалов В.В., Преображенский Н.Г. Вычислительная томография и<br />
физический эксперимент // УФН, 1983, т. 141, № 3, с. 469 - 498.<br />
3. Терновой К.С., Синков М.В. Введение в современную томографию. Киев:<br />
Наукова думка, 1983, с. 232.<br />
79
ЛАЗЕРНАЯ ДИАГНОСТИКА ДИСПЕРСНОГО УГЛЕРОДА<br />
В.А. Власов, В.Ф. Мышкин, Д.Л.Гамов, И.А.Ушаков, А.В.Еремин, В.А.Борисов<br />
Национальный исследовательский Томский политехнический университет<br />
Нами разрабатывается метод сепарации изотопов углерода в плазменных<br />
процессах. При этом изотопы углерода с магнитными и немагнитными ядрами,<br />
в зависимости от соотношения скоростей протекания различных процессов,<br />
концентрируются в газовой или конденсированной фазах. Для сохранения<br />
изотопного состава фаз необходимо их разделять с момента формирования<br />
дисперсной фазы. Задача исследования – определение зависимости места<br />
интенсивного образования и гранулометрического состава дисперсной фазы от<br />
количества кислорода в плазмообразующей смеси.<br />
Для решения поставленной задачи дуговой плазмотрон является<br />
технологичным и простым в изготовлении. Низкотемпературная плазма<br />
содержит ионы, электроны, радикалы. Конденсированная фаза, используемая<br />
для сепарации по изотопам продуктов плазменных процессов, также может<br />
оказывать существенное влияние на протекающие в плазменных системах<br />
физико-химические процессы, например, на распределение зарядов по объему и<br />
концентрацию молекул в необходимых, для протекания целевого процесса,<br />
возбужденных состояниях.<br />
Для экспериментального определения участка плазменной струи, на<br />
котором начинает формироваться конденсированная фаза, возбуждали дуговой<br />
разряд в цилиндрической обойме диаметром 30 мм. Плазмообразующий газ<br />
(смесь аргона и кислорода) подавали тангенциально на расстоянии 20 мм от оси<br />
электрической дуги. В обойму радиально, через тефлоновые изоляторы, были<br />
вставлены два графитовых электрода диаметром 6 мм. При расстоянии между<br />
электродами 2-3 мм ток дуги выдерживали в диапазоне 10-15 А.<br />
Плазмотрон снабжен системой автоматической подачи электродов. При<br />
этом в качестве контролируемого параметра использовали ток дуги.<br />
Установлено, что при скорости подачи плазмообразующего газа 0,06 л/с<br />
скорость испарения графита не превышала 0,1 г/мин.<br />
Для диагностики наличия дисперсной фазы плазменный поток облучали<br />
по оси (со стороны электрической дуги) излучением второй гармоники<br />
80
неодимового лазера. Появление дисперсного углерода сопровождается резким<br />
увеличением рассеянного лазерного излучения. Поток лазерного излучения,<br />
рассеянного на дисперсных частицах, регистрировали по направлению вбок.<br />
Система выделения потока рассеянного излучения содержала объектив,<br />
диафрагму, фотоэлектронный умножитель. Сигнал ФЭУ наблюдали с помощью<br />
цифрового осциллографа. Были определены точки на оси плазменного потока, в<br />
которых начинается формирование дисперсной фазы при различном<br />
содержании кислорода в плазмообразующей смеси.<br />
Все способы воздействия на химическую активность целевого изотопа<br />
плазменной системы необходимо осуществлять до точки начала интенсивного<br />
образования дисперсных частиц.<br />
Лазерная <strong>диагностика</strong> относится к одному из наиболее эффективных<br />
безотборных методов диагностики гранулометрического состава гетерогенных<br />
систем. Обратная задача светорассеяния, например, для метода спектральной<br />
прозрачности сводится к решению интегрального уравнения<br />
R<br />
� 2<br />
R<br />
2<br />
� , ��<br />
f �r� � r dr � ��� � r � ,<br />
1<br />
где R1 - R2 - диапазон размеров, � � , ��<br />
�r� r - фактор эффективности ослабления,<br />
f - функция распределения по размерам, � ��� - коэффициент прозрачности.<br />
Для количественной диагностики гранулометрического состава<br />
ультрадисперсных систем необходимы широкополосные источники излучения.<br />
На этапе разработки алгоритмов решения интегрального уравнения в<br />
распоряжении экспериментаторов имелась аппаратура для выполнения<br />
экспериментальных исследований, позволявшая регистрировать ограниченный<br />
объем информации. Современная аппаратура позволяет получать практически<br />
неограниченный объем экспериментальных данных. Такой объем информации<br />
является избыточным при решении интегрального уравнения с известными и<br />
проверенными неоднократно регуляризующими алгоритмами.<br />
В связи с этим нами впервые предложен новый подход обработки<br />
экспериментальных спектров пропускания, по которому из всего набора<br />
экспериментальных данных составляется несколько выборок. Эти выборки<br />
обрабатываются независимо друг от друга с помощью известных алгоритмов.<br />
Из полученных гистограмм в результате обработки нескольких выборок из<br />
экспериментальных спектров пропускания достоверными можно считать те,<br />
которые имеют максимальное совпадение между собой, а невязка между<br />
81
экспериментальным и расчетным спектрами пропускания для каждой выборки -<br />
наименьшее значение. Нами показано, что предлагаемый алгоритм обработки<br />
данных лазерного зондирования аэрозолей позволяет увеличивать<br />
достоверность определения дисперсности гетерогенных систем [1].<br />
При экспериментальном изучении закономерностей формирования в<br />
плазме сажи из недогоревшего графита использовали галогенную лампу.<br />
Изображение нити лампы с увеличением в 2 раза строили в счетном объеме.<br />
Прошедший через плазму зондирующий пучок с помощью второго объектива<br />
формировали в изображение спирали на входной щели малогабаритного<br />
спектрографа (второй объектив переносит изображение счетного объема на<br />
плоскость щели спектрографа). Оптическая схема регистрации спектрального<br />
хода коэффициентов пропускания приведена на рисунке.<br />
1 1,5F 2 3F 3 2F 2 2F 4<br />
1 – лампа накаливания, 2 – объектив, 3 – поток <strong>плазмы</strong>, 4 – световод<br />
спектрографа<br />
Для учета потока свечения <strong>плазмы</strong> последовательно регистрировали<br />
л<br />
п<br />
спектр излучения лампы (без <strong>плазмы</strong>) I ��� , спектра <strong>плазмы</strong> ��� 82<br />
I ,<br />
л п<br />
суммарный спектр из свечения <strong>плазмы</strong> и зондирующего пучка I ��� �<br />
Спектральный ход коэффициентов пропускания определяли по формуле<br />
л�п<br />
п<br />
I<br />
� �<br />
��� � I ��� � � � л<br />
I ��� Выборки по 10 значений �� �<br />
i<br />
.<br />
� (при i � 1024) группировали в областях<br />
экстремума функции в разных областях спектра [1]. Были определены функции<br />
распределения по размерам f �r� дисперсного углерода в различных сечениях<br />
плазменного потока во внешнем магнитном поле 1,4 Тл для разных<br />
плазмообразующих смесей. Установлена зависимость f �r� от магнитного поля.<br />
Литература:<br />
1. Мышкин В.Ф., Власов В.А., Хан В.А. и др. О повышении достоверности<br />
решения интегрального уравнения при безотборной диагностике наночастиц //<br />
Научный журнал КубГАУ, №31(7), 2007. - http://ej.kubagro.ru/2007/07/pdf/13.pdf.<br />
.
МАШИННОЕ ЗРЕНИЕ ДЛЯ ДИАГНОСТИКИ ПОВЕДЕНИЯ<br />
МАКРОЧАСТИЦ В УПОРЯДОЧЕННЫХ СТРУКТУРАХ<br />
КОМПЛЕКСНОЙ ПЛАЗМЫ<br />
А.А. Пискунов, С.Ф. Подрядчиков, А.Д. Хахаев<br />
Петрозаводский государственный университет, Научно-образовательный<br />
центр по фундаментальным проблемам приложений физики<br />
<strong>низкотемпературной</strong> <strong>плазмы</strong><br />
Комплексная (пылевая) плазма, содержащая частицы конденсированного<br />
вещества (КДФ или макрочастицы), широко распространена в природе и<br />
технологических процессах. Присутствие макрочастиц существенным образом<br />
влияет на коллективные процессы в плазме и модифицирует свойства<br />
плазменной среды, что имеет большое значение в энергетических установках<br />
(токамаки, лазеры, ракетные двигатели и др.), в плазменных технологиях<br />
получения новых материалов, астрофизике, для физического моделирования<br />
конденсированного состояния вещества, объектов микромира и космических<br />
объектов, недоступных для эксперимента. Большой заряд макрочастиц сильно<br />
искажает электрическое поле в пространстве около неѐ, вследствие чего<br />
формируются сложные структуры заряда, поля, массы, потоков частиц.<br />
Благодаря большому размеру макрочастиц (1-100 мкм) и относительно<br />
большому расстоянию между ними (100-500 мкм) существует замечательная<br />
возможность исследовать такие многочастичные системы на кинетическом<br />
уровне в рассеянном на макрочастицах свете.<br />
Наблюдаемые структуры макрочастиц и их кинетика отражают<br />
внутренние процессы, происходящие в комплексной плазме. Исследование<br />
поведения частиц КДФ в плазме представляет не только фундаментальный<br />
интерес, но также и прикладной. Макрочастицы можно использовать как<br />
зондовые частицы для диагностики плазменной среды.<br />
В данной работе освещаются методика и результаты исследования<br />
кинетики макрочастиц в комплексной плазме. Наблюдать макрочастицы в<br />
плазме можно в рассеянном свете, для этого их подсвечивают расширенным в<br />
83
одном направлении лазерным пучком (т.н. лазерный нож), благодаря чему<br />
можно выделить одно из сечений структуры.<br />
Используя технологию IMAQ Vision, было создано программно-<br />
аппаратное средство для распознавания макрочастиц в плазме и слежения за их<br />
движением в течение заданного промежутка времени. Данные о структуре<br />
макрочастиц поступают в виде, формируемого с помощью видеокамеры,<br />
видеосигнала на плату видеозахвата ПК, где сигнал преобразуется в цифровые<br />
изображения структуры (рис.1).<br />
Рисунок 1 Исходное изображение структуры состоящей из макрочастиц (слева) и<br />
отображение результата захвата объектов на изображении (справа).<br />
Далее эти изображения обрабатываются с помощью программы,<br />
реализованной в среде LabVIEW. Критерием обнаружения макрочастицы на<br />
изображении является яркость и размер объекта. Каждое следующее положение<br />
макрочастицы определяется в предполагаемой области, размер которой задается<br />
в виде параметра. В случае если в данной области появляются две или более<br />
макрочастиц, то каждая из них считается потерянной, т.к. не существует<br />
возможности отличить их друг от друга. Макрочастица считается также<br />
потерянной, если выходит за пределы поля зрения. Процесс, начинающийся<br />
захватом сигнала от макрочастиц и заканчивающийся формированием файла<br />
данных о координатах макрочастиц в последовательные моменты времени,<br />
происходит в режиме реального времени. Имея такой файл, можно довольно<br />
легко восстановить движение любой из обнаруженных в структуре макрочастиц<br />
(рис.2). Траектория движения отдельной макрочастицы за время наблюдения<br />
представляет собой ломаную линию, локализованную в пространстве и не<br />
имеющую пересечений с траекториями других макрочастиц. Из полученных<br />
данных можно извлечь информацию о необходимых величинах значимых для<br />
84
диагностирования. Алгоритмы обработки данных реализованы в отдельной<br />
программе и выполняются после проведения эксперимента по захвату данных,<br />
т.к. для этого требуется дополнительное программное время.<br />
Рисунок 2 Восстановленные траектории движения центра масс макрочастиц в<br />
сечении упорядоченной структуры.<br />
Технические характеристики комплекса: видеокамера (25 кадров/с),<br />
BNC-кабель, соединяющий видеокамеру и плату видеозахвата, плата<br />
видеозахвата PCI-1411, персональный компьютер (Intel Celeron 500 МГц, ОЗУ<br />
256 Мб, емкость ж/д Гб, ОС Windows 98, 32-разрядная PCI-шина (100 Мбит/с)).<br />
Статистическая обработка полученных данных позволяет получать<br />
достоверную информацию о кинетике макрочастиц в структурах. В последнее<br />
время [1] с использованием данного инструмента проводятся исследования по<br />
выяснению влияния компонентного состава упорядоченных плазменно-<br />
пылевых структур (УППС), получаемых в стратах тлеющего разряда<br />
постоянного тока, на их кинетические свойства. Отыскание зависимости<br />
изучаемой величины от параметра задающего то или иное условие, значимое<br />
для существования и формирования УППС, позволяет проводить<br />
сравнительные исследования. Для УППС в тлеющем разряде такими<br />
параметрами являются температура и концентрация нейтральных частиц газа,<br />
концентрация и температура заряженных частиц. В эксперименте с плазмой<br />
газового разряда удобнее оперировать физическими величинами,<br />
характеризующими сам разряд (давление газа, плотность тока, температура<br />
стенок разрядной трубки, радиус трубки), задавая которые, можно<br />
контролировать характеристики <strong>плазмы</strong>.<br />
Данные, отраженные на рис.4, показывают зависимость средней скорости<br />
движения макрочастиц (Al2O3, Zn) в УППС различного состава от давления p<br />
плазмообразующего газа (Ar, Ne).<br />
85
Рисунок 3 Зависимость скорости движения макрочастиц в УППС от давления<br />
плазмообразующего газа при комнатной температуре (радиус газоразрядной трубки<br />
30 мм).<br />
За время наблюдения 4 секунды для каждой видимой в сечении<br />
структуры макрочастицы фиксируется 100 перемещений, каждое из которых<br />
происходит с какой-то скоростью vi. Вычисляя vi для всех перемещений, можно<br />
оценить среднюю скорость за все время наблюдения. Т.о. для каждой частицы<br />
получается величина скорости и дисперсии этого значения. Учитывая<br />
дисперсию, далее можно рассчитать среднюю скорость v по ансамблю<br />
макрочастиц [2]. Погрешность измерений в каждой точке оценивалась по<br />
результатам 3-х независимых экспериментов.<br />
Аналогичным образом были получены зависимости скорости<br />
перемещения макрочастиц от плотности разрядного тока [3].<br />
Литература:<br />
1. Жариков Н.Н., Пискунов А.А., Подрядчиков С.Ф., Семенов А.В., Хахаев А.Д.,<br />
Щербина А.И. Модификация свойств плазменно-пылевых структур и<br />
микрочастиц в комплексной плазме//Ученые записки ПетрГУ, 2010, №6 (111),<br />
c.99-108.<br />
3. Гнеденко Б.В. Курс теории вероятностей. М.: Наука, 1965, 400 с.<br />
2. Пискунов А.А., Хахаев А.Д. Управление свойствами упорядоченных<br />
плазменно-пылевых структур//Краткие сообщения по физике, 2010, №1, c.35-38.<br />
86
DUSTY PLASMA LIQUID AS A STRONGLY COUPLED<br />
COULOMB SYSTEM: DIAGNOSTICS AND RESULTS<br />
Oleg F.Petrov 1,2 , Vladimir E.Fortov 1,2<br />
1. Institution of the Russian Academy of Sciences Joint Institute for High<br />
Temperatures RAS, Moscow, Russia<br />
2. Moscow Institute of Physics and Technology, Dolgoprudny, Russia<br />
Dusty plasma is a unique laboratory tool for the investigation of the physics of<br />
systems with strong Coulomb interaction. This is due to the fact that the interaction of<br />
micron-sized dust particles (0.1-10 �m in diameter) with charges up to 102-105<br />
elementary charges may form the ordered structures of liquid (dust liquid) and crystal<br />
(dust crystal) types accessible to observe them at kinetic level, i.e. at level of behavior<br />
of separate particles of medium.<br />
In present work the results of experimental and theoretical investigations of<br />
structural and dynamic properties of dusty plasma in dc glow discharge at the<br />
temperatures of 4.2-300 K were presented. The dependence of dust particle’s density<br />
on discharge temperature in dust structures was obtained. The kinetic processes of<br />
interaction of dust particles with the plasma component at cryogenic temperatures<br />
were analyzed with consideration for the ion-atom collisions. This analysis made<br />
possible to determine main mechanism responsible for the observed increase in the<br />
dusty plasma density..<br />
For confinement and investigation of strongly coupled systems of charged dust<br />
particles, we propose to use a trap based on the known possibility of the levitation of<br />
diamagnetic bodies in a nonuniform steady-state magnetic field. An experimental<br />
setup is described, which is capable of forming and confining clusters of charge<br />
graphite particles sized 100 to 300 μm in magnetic field B�1 T and |�B|�10 T/cm.<br />
The dust charging under effect of electron beam was studied. The experiments<br />
were carried out with particles of different materials and sizes (10-200 �m) in the<br />
atmosphere of air and helium at pressures 0.2 - 2 torr. The electron beam current was<br />
varied from 1 to 10 mA; energy of electrons was about 25 keV. Under action of<br />
electron beam dust particles became charged. Due to strong Coulomb interaction the<br />
87
particles were accelerayed and were moved in different directions. The average<br />
velocities of dust particles were obtained and their charge was estimated. For Al2O3<br />
particles the charge was about 107 e (2-3 order more than dust charge in rf or dc<br />
discharges).<br />
Measurements in dusty plasmas were carried out to find the region of validity<br />
of approximate relation in statistical theory of liquid states. The integral equations<br />
with the Percus-Yewick and the hypernetted-chain closures as well as the<br />
superposition approximation were chosen as the objects for investigation. The range<br />
of validity of these approaches was obtained by the use of experimental methods for<br />
analysis of spatial correlation of dust particles in plasma.<br />
A new technique for analyzing the pair interaction forces between dust<br />
particles is presented. The technique is based on a solution of the inverse problem<br />
describing the movement of dust particles by a system of Langevin equations. The<br />
first approbations of the proposed technique for analysis of intergrain interactions in a<br />
plasma of rf discharge are presented.<br />
This work was supported by the Research Program of the Presidium of the<br />
Russian Academy of Sciences ―Fundamentals of Basic Studies of Nanotechnologies<br />
and Nanomaterials‖ and by the Russian Foundation for Basic Research, Project No.<br />
10-02-90056 and Project No. 10-02-01428.<br />
88
ВОЗМУЩЕНИЕ ЕМКОСТНОГО ВЧ-РАЗРЯДА<br />
ВЫСОКОВОЛЬТНЫМ НАНОСЕКУНДНЫМ ИМПУЛЬСОМ<br />
М.Ю. Пустыльник 1 , Л. Ху 1 , А.В. Ивлев 1 , Х.М. Томас 1 , Г.Е. Морфилл 1<br />
Л.М. Василяк 2 , В.Е. Фортов 2<br />
1 Институт внеземной физики общества Макса Планка<br />
2 Объединенный институт высоких температур РАН<br />
Высоковольтные наносекундные импульсы являются в настоящие дни<br />
широко применяемым в физике <strong>низкотемпературной</strong> <strong>плазмы</strong> инструментом.<br />
Они используются, к примеру, для генерации так называемых<br />
высокоскоростных ионизационных волн [1], для инициирования химических<br />
реакций в реагирующих смесях [2], для создания пространственно однородного<br />
барьерного разряда в медицинских приложениях [3], для стабилизации разряда<br />
в CO2 лазерах [4].<br />
Были попытки применять короткие высоковольтные импульсы и для<br />
Рис. 1. Схема экспериментальной<br />
установки по исследованию<br />
комбинированного ВЧ- импульсного<br />
разряда.<br />
89<br />
манипуляции левитирующими в<br />
стационарной плазме пылевыми<br />
частицами. В отличие от обычно<br />
применяемых низкочастотных<br />
синусоидальных электрических полей,<br />
воздействие наносекундного импульса<br />
на фоновую плазму и опосредованно на<br />
пылевые частицы существенно<br />
нестационарно. Было<br />
продемонстрировано, что<br />
наносекундные импульсы оказывают<br />
существенное влияние на динамику<br />
пылевых частиц, левитирующих в<br />
плазме [5,6]. Однако, механизмы столь<br />
сильного воздействия остались<br />
невыясненными.
В настоящей работе исследуется возмущение, создаваемое<br />
наносекундным высоковольтным импульсом в плазме стационарного<br />
высокочастотного емкостного разряда. Экспериментальная установка сделана<br />
на основе стандартной вакуумной камеры GEC (Рис.1). Металлические<br />
электроды диаметром 150 мм находятся на расстоянии 54 мм. Высоковольтный<br />
электрод соединен через нагрузочный 50-омный резистор с землей. На ВЧ-<br />
электрод через блокирующий конденсатор подается синусосуидальное<br />
напряжение с частотой 13.56 МГц и амплитудой 30-40 В. Параметры<br />
высоковольтного импульса: длительность 20 нс, амплитуда 2-17 кВ, частота<br />
повторения до 1 кГц. Разряд создается в аргоне при давлениях 0.1-4 Па.<br />
Glow intensity [a.u.]<br />
4 ,5<br />
4 ,0<br />
3 ,5<br />
3 ,0<br />
2 ,5<br />
2 ,0<br />
1 ,5<br />
1 ,0<br />
0 ,5<br />
0 ,0<br />
-1 x1 0 -4<br />
-0 ,5<br />
0 1 x10 -4<br />
time [s]<br />
2x1 0 -4<br />
a m plitu d e 7.1 kV<br />
90<br />
pre ssu re<br />
0 .0 7 Pa<br />
0 .3 8 Pa<br />
1 .2 5 Pa<br />
3 x1 0 -4<br />
4 x10 -4<br />
Рис. 2. Эволюция свечения <strong>плазмы</strong> при разных давлениях газа.<br />
С помощью<br />
ФЭУ-модуля с<br />
полосой усиления в<br />
200 кГц измерялся<br />
временной ход<br />
интенсивности<br />
разряда (Рис. 2). Было<br />
обнаружено, что<br />
непосредственно<br />
после подачи<br />
высоковольтного<br />
импульса<br />
интенсивность излучения <strong>плазмы</strong> резко возрастает, однако затем она падает до<br />
значений много меньше интенсивности излучения стационарного ВЧ-разряда.<br />
Эта темная фаза продолжается несколько сотен мкс, после чего интенсивность<br />
возвращается на стационарный уровень. Продолжительность и глубина темной<br />
фазы растет с увеличением давления и амплитуды импульса.<br />
Одним из предполагаемых механизмов появления темной фазы было<br />
перераспределение ВЧ-напряжения между плазмой и внешней цепью<br />
вследствие избыточной ионизации и падения ВЧ-импеданса <strong>плазмы</strong> после<br />
импульса (по аналогии с [7]). Наблюдаемое падение ВЧ-напряжения составляет<br />
в данной схеме 20% и имеет длительность по порядку величины схожую с<br />
длительностью темной фазы. Однако, при увеличении импеданса внешней цепи,<br />
когда падение напряжения достигло 50%, эволюция свечения не претерпела
существенных изменений. Следовательно, внешняя цепь не оказывает<br />
существенного влияния на формирование темной фазы, и перераспределение<br />
ВЧ-полей (экранировка) происходит по всей видимости в самой плазме.<br />
Проводилось моделирование рассматриваемого воздействия методом<br />
крупных частиц в одномерном приближении, которое показало следующую<br />
картину происходящих в плазме процессов. При подаче импульса за несколько<br />
нс из разряда вытягиваются практически все электроны. Сильное электрическое<br />
поле ионного остова способствует повышенной ионизации. Даже если после<br />
импульса в разрядном промежутке не осталось ни одного электрона,<br />
затравочные электроны появляются вследствие вторичной ион-электронной<br />
эмиссии с электродов. За несколько мкс плотность <strong>плазмы</strong> увеличивается до<br />
значений, превышающих стационарное значение до 20 раз. Скачок<br />
концентрации <strong>плазмы</strong> увеличивается с увеличением давления и с уменьшением<br />
амплитуды импульса. Среда между электродами вновь становится<br />
квазинейтральной и релаксирует к равновесному состоянию за счет<br />
амбиполярной диффузии. Темная фаза наблюдается при давлениях 4 Па и выше.<br />
t=0<br />
t=5 ns<br />
t=10 ns<br />
t=15 ns<br />
Рис. 3. Изображения разряда после подачи<br />
высоковольтного импульса. Амплитуда импульса 7 кВ,<br />
давление 1,2 Па. Высоковольтный электрод находится<br />
внизу изображения.<br />
3) с разрешением в 2 нс показали отсутствие филаментации.<br />
91<br />
Для сравнения с<br />
результатами<br />
моделирования были<br />
проведены эксперименты, в<br />
которых для регистрации<br />
свечения использовалась<br />
ПЗС-камера с усилителем<br />
яркости. Было показано,<br />
что скачок интенсивности<br />
свечения растет с<br />
увеличением как давления,<br />
так и амплитуды импульса,<br />
что идет в разрез с<br />
результатами<br />
моделирования.<br />
Изображения разряда (Рис.
В качестве возможных причин расхождения модели и эксперимента на<br />
данный момент выдвигаются следующие: автоэмиссия электронов с острых<br />
краев электродов, двумерные транспортные эффекты (напр. перенос электронов<br />
с периферийных областей разряда), электромагнитные эффекты (напр.<br />
образование стоячей поверхностной волны за время импульса [8]).<br />
Литература:<br />
1. Василяк Л.М., Костюченко С.В., Кудрявцев Н.Н., Филюгин И.В.,<br />
Высокоскоростные волны ионизации при электрическом пробое// УФН, 1994,<br />
т.164, с.263-286<br />
2. S. M . Starikovskaia, Plasma assisted ignition and combustion//J. Phys. D 2006,<br />
V.39, R265-R299<br />
3. H. Ayan, G. Fridman, A. F. Gustol, V. N. Vasilets, A. Fridman, and G. Friedman,<br />
Nanosecond-Pulsed Uniform Dielectric-Barrier Discharge// IEEE Trans. Plasma Sci.,<br />
2008, V. 36, 504<br />
4. Василяк Л.М., Ветчинин С.П., Кадиева П.Г., Поляков Д.Н., Хотина А.В.,<br />
Влияние наносекундной ионизации на характеристики быстропроточного CO2<br />
лазера с самоподдерживающимся разрядом// Письма в ЖТФ, 2002, т.28, с.48-53<br />
5. Василяк Л.М., Ветчинин С.П., Поляков Д.Н., Фортов В.Е., Кооперативное<br />
формирование пылевых структур в плазме// ЖЭТФ, 2001, т.121, с.521-524<br />
6. M.Y. Pustylnik, A.V. Ivlev, H.M. Thomas, G.E. Morfill, L.M. Vasilyak, S.P.<br />
Vetchinin, D.N. Polyakov, V.E. Fortov, Effect of high-voltage nanosecond pulses on<br />
complex plasmas// Phys. Plasmas, 2009, V.16, 113705<br />
7. Дятко Н.А., Латышев Ф.Е., Мельников А.С., Напартович А.П., Исследование<br />
темной фазы в начальной стадии формирования положительного столба<br />
тлеющего разряда в неоне// Физика Плазмы, 2006, т.132, с.180-192<br />
8. P. Chabert, Electromagnetic effects in high-frequency capacitive discharges used<br />
for plasma processing// J. Phys. D, 2007, V.40, p. R63-R7<br />
92
ДИАГНОСТИКА ИОНОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ НАД<br />
СПРАЙТАМИ НА СДВ-ТРАССАХ<br />
Институт физики Земли РАН<br />
С.Л. Шалимов<br />
Спрайты были открыты случайно 20 лет назад, когда молодой научный<br />
сотрудник Роберт Франс обрабатывал измерения, полученные с помощью<br />
оптической камеры, направленной в ночное небо штата Миннесота поверх<br />
дальних гроз. Неожиданно он обнаружил, что камера зарегистрировала две<br />
гигантские световые вспышки, осветившие на 30 мсек небо над грозами.<br />
Позднее эти высотные атмосферные разряды красноватого цвета,<br />
появляющиеся между грозовыми облаками и ионосферой, назовут «спрайтами»<br />
(red sprites). Ряд специально организованных экспериментальных исследований<br />
с помощью высокочувствительных телекамер позволил, в дополнение к<br />
спрайтам, открыть целое семейство оптических явлений, также ранее никому не<br />
известных, также связанных с грозами и возникающих между грозовыми<br />
облаками и ионосферой: гигантские струи, голубые струи (blue jets) и стартеры,<br />
красноватые эльвы (от elves, Emissions of Light and VLF perturbations due to<br />
Electromagnetic pulse Sources) и гало (halo) и др. Все они теперь объединены<br />
общим названием – кратковременные световые вспышки (Transient Luminous<br />
Events, TLE). Термин «кратковременные» подчеркивает, что электромагнитная<br />
жизнь этих явлений длится лишь мгновенье – всего сотые или тысячные доли<br />
секунды, и глаз человека не способен их увидеть. Однако TLE - это не просто<br />
красивые, подобно радуге, природные явления. Электромагнитное излучение<br />
молний и спрайтов способно производить дополнительную ионизацию верхней<br />
атмосферы и нижней ионосферы как непосредственно, так и опосредованно.<br />
Удобным методом дистанционного изучения воздействия грозовой<br />
активности на ионосферу служит регистрация амплитудно-фазовых<br />
характеристик сигналов ДВ и СДВ-радиостанций. Частоты этих сигналов (3-30<br />
кГц) таковы, что они способны распространяться на тысячи км (от передатчика<br />
до приемника) со слабым затуханием (~2 db на 1000 км) в естественном<br />
волноводе земля-ионосфера (отражение от верхней стенки волновода –<br />
93
ионосферы, происходит на высотах около 60 км днем и около 85 км ночью).<br />
Амплитуда и фаза сигналов является чувствительным индикатором состояния<br />
ионосферы.<br />
Пример опосредованного влияния молний на ионосферу,<br />
регистрируемый указанным методом - индуцированные молниевыми разрядами<br />
высыпания магнитосферных электронов в ионосферу (lightning-induced electron<br />
precipitation, LEP) – Тримпи-эффект. Механизм этого явления таков:<br />
электромагнитный импульс молнии распространяется в волноводе Земля-<br />
ионосфера, но часть этого излучения проникает в ионосферу и далее в<br />
магнитосферу, где распространяется на моде вистлеров. В экваториальной<br />
области магнитосферы вистлеры на частотах 1-10 кГц взаимодействуют<br />
посредством циклотронного резонанса с энергичными электронами (~100-300<br />
кэВ) радиационного пояса, приводя к их рассеянию по питч-углам и энергиям.<br />
Эти электроны попадают в конус потерь, и при своем баунс-движении<br />
начинают высыпаться в ионосферу (60-120 км), где при столкновениях с<br />
молекулами приводят к увеличению концентрации электронов. Такая<br />
модификация верхней стенки волновода Земля-ионосфера регистрируется как<br />
возмущение амплитудно-фазовых характеристик СДВ сигналов.<br />
Для Тримпи-эффекта характерна задержка начала возмущения (по<br />
амплитуде и фазе) СДВ сигнала приблизительно в 1 с относительно возвратного<br />
удара молнии (рис.1а). Задержка складывается из времени, которое необходимо<br />
для распространения вистлера до экваториальной области радиационного пояса<br />
и времени прохождения энергичного электрона (после его взаимодействия с<br />
вистлером) из экваториальной области до нижней ионосферы.<br />
Однако Армстронг в 1983 г., используя данные с высоким временным<br />
разрешением, обнаружил новый тип возмущений СДВ сигналов. Новое явление<br />
имело аналогичное с обычным Тримпи-эффектом время релаксации (~10-100 с),<br />
но характеризовалось очень малой (< 100 мс, предел разрешения аппаратуры в<br />
тех экспериментах) задержкой между возвратным ударом молнии и<br />
возникновением возмущения. Такая задержка свидетельствовала о прямом (а не<br />
опосредованном) воздействии молнии на ионосферу. Новое явление получило<br />
название «ранний» или «ранний/быстрый» Тримпи-эффект (early/fast, E/F VLF<br />
event, рис.1б). Здесь термин «быстрый» отмечает обычно быстрое (
университета) после открытия спрайтов. Несмотря на попытки предложить<br />
механизм этого явления, оно не понято до сих пор.<br />
Между тем, начиная с 2000 г., специальные кампании по исследованию<br />
TLE стали проводить и в Европе. Было сделано много открытий. Одно из них<br />
непосредственно связано с рассматриваемой темой корреляции возмущений на<br />
СДВ-трассах и спрайтами [1]. Кроме регистрации обычных явлений E/F VLF<br />
было замечено, что достаточно часто после спрайтов начало возмущения<br />
амплитуды и фазы, после малой (
Литература<br />
Рис.1<br />
Рис.2<br />
1. Haldoupis C., Steiner R.J., Mika A., Shalimov S., Marshall B., Inan U., Bosinger<br />
T., Neubert T. // J. Geophys. Res. 2006. V.11. NA11. CiteID A11321.<br />
2. Haldoupis, С., Mika, A., Shalimov, S. // J. Geophys. Res. 2009. V.114. A00E04,<br />
doi:10.1029/2009JA014313.<br />
96
О ПРИРОДЕ ТЕМПЕРАТУРНОЙ АНОМАЛИИ ПЛАЗМЫ<br />
ДИНАМО СЛОЯ АВРОРАЛЬНОЙ ИОНОСФЕРЫ<br />
Е.Е. Тимофеев 1 , С.Л. Шалимов 2,4 , М.К. Валлинкоски 3 , Й. Кангас 3<br />
1. Государственная морская академия им. адм. С.О. Макарова, С.-Петербург<br />
2. Институт физики земли им. О.Ю. Шмидта, РАН, Москва<br />
3. Отдел космофизики университета г. Оулу, Финляндия<br />
4 Институт космических исследований, РАН, Москва<br />
Введение. В работе [Timofeev et al., 2003] наряду с перегревом<br />
электронов, известным и ранее при величинах электрического поля,<br />
превышающих порог плазменной неустойчивости Фарлея-Бунемана (ФБ), был<br />
обнаружен эффект аномального охлаждения электронов при малых<br />
(допороговых) полях. Методом наложения эпох аномалия была выявлена по<br />
данным измерений, выполненных в 20-ти отдельных событиях, в течение<br />
весенних сезонов 1988 и 1989 гг. Поэтому осталось неясным возможно ли<br />
наблюдение такой аномалии в одном из реальных событий. Остались не<br />
исследованными и проявления аномалии на временных масштабах временного<br />
разрешением радаров (30-90 c). Заполнение указанных пробелов составляет<br />
цель настоящей работы. Еѐ материал составляют около 300 измерений<br />
электрического поля, а также температур ионов и электронов, выполненных с<br />
разрешением в 45 секунд радарами на высотах динамо слоя (ДС), в ходе<br />
авроральной суббури 23 марта 1988г.<br />
Результаты анализа. Как оказалось на масштабе временного<br />
разрешения радара рост одной из температур (Тэ или Ти) в подавляющем числе<br />
измерений сопровождался уменьшением другой. Высотный ход процента таких<br />
противофазных вариаций (ППВ) показан для события 23.03.1988 в Таблице 1.<br />
Высота (км) 101.6 106 110.4 114.8 119.2<br />
ППВ (%) 0 75 74 62 52<br />
Из-за огромной частоты столкновений на высоте 101.6 км любые вариации<br />
температур отсутствуют. По данным других событий отличными от нуля они<br />
становятся выше 102.2 км. Как видно процент максимален на высоте 106 км и<br />
97
�Te, K<br />
монотонно убывает с высотой. На рисунке 1 показаны диаграммы рассеяния<br />
временных вариаций Тэ и Ти на высотах (106±2.2) км в том же событии.<br />
200<br />
100<br />
0<br />
-100<br />
R= - 0.65<br />
18.58-19.16 UT<br />
-200<br />
-200 -100 0<br />
�Ti, K<br />
100 200<br />
a )<br />
dTe, K<br />
98<br />
200<br />
100<br />
0<br />
-100<br />
R= - 0.91<br />
19.35-19.53 UT<br />
-200<br />
-200 -100 0<br />
dTi, K<br />
100 200<br />
Рис. 1 а) и б)<br />
Диаграммы рассеяния временных вариаций температур ионов и электронов.<br />
Приведены прямые линейной регрессии, а также коэффициенты корреляции (в<br />
рамках). Методом скользящего среднего на материале ещѐ 15-ти подобных<br />
интервалов было предпринято изучение зависимости коэффициента корреляции<br />
от величины ионосферного электрического поля. При этом величина поля<br />
усреднялась за время интервала, а начало каждого последующего сдвигалось на<br />
5 длительностей импульса радара (~3,5 минуты). Результаты такого анализа,<br />
перекрывающие примерно часовой интервал представлены на рисунке 2.<br />
Коэффициент корреляции �Tи , �Tе<br />
1<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0<br />
23 Марта 1988; Высота 106 км<br />
19:10:01 19:18:21 19:26:41 19:35:01 19:43:21 19:51:41 20:00:01<br />
Мировое время<br />
Рис.2<br />
Зависимость напряженности электрического поля (пунктирная линия) и<br />
коэффициента корреляции Тэ и Ти (сплошная линия) от мирового времени середины<br />
каждого из 17-ти интервалов, подобных данным на Рис.1<br />
30<br />
25<br />
20<br />
15<br />
10<br />
5<br />
Ионосферное электрическое поле, мВ/м<br />
б)
Как видно, при малых полях временной ход величины поля подобен<br />
поведению коэффициента корреляции (КК) температур. Однако, как только<br />
величина поля достигает, а затем и превышает порог ФБ-неустойчивости (около<br />
18 мВ/м), эти кривые становятся противофазными. Пороговый уровень поля<br />
отмечен на рисунке штрихпунктирной прямой. При величинах поля около 30<br />
мВ/м коэффициент корреляции температур практически равен нулю.<br />
Обсуждение результатов. По данным визуальных наблюдений [2] в<br />
рассматриваемом событии (23.03.88) отмечен весьма заметный уровень<br />
метеорных потоков. Этим фактом продиктована целесообразность включения<br />
пылевых макрочастиц в качестве третьей компоненты ионосферной <strong>плазмы</strong><br />
обсуждаемых ниже интерпретационных моделей. Микроскопические токи<br />
электронов и ионов и их рекомбинация на поверхности этих макрочастиц<br />
приводят к зарядке последних. В условиях ночной ионосферы и вследствие<br />
более высокой подвижности электронов частицы пыли заряжаются<br />
отрицательно. По нашим оценкам на высотах динамо слоя (ДС) выполняются<br />
условия зондового приближения [Фортов и др., 2010], что позволяет для<br />
типичных параметров ДС получить оценку характерного заряда макрочастицы<br />
Z d порядка десяти электронных зарядов. Отрицательный потенциал<br />
� � Z e / a , приобретаемый в результате зарядки макрочастицей с характерным<br />
s d<br />
размером а, приводит к тому, что для электронов с энергией � �� e�s<br />
заряженная микрочастица представляет потенциальный барьер. Поэтому<br />
присутствие пылевых частиц может привести к «изъятию» энергичных<br />
электронов, что должно приводить к охлаждению электронного газа. Очевидно,<br />
что охлаждение будет тем более заметным, чем больше концентрация пылевой<br />
компоненты <strong>плазмы</strong>, поскольку увеличение плотности пыли приводит к<br />
обеднению <strong>плазмы</strong> электронами, и, как следствие, к уменьшению высоты<br />
потенциального барьера. При этом концентрация пыли должна быть не менее<br />
10 3 см -3 , чтобы существенно влиять на электронную компоненту <strong>плазмы</strong><br />
ночного динамо слоя. Для создания столь значительных концентраций<br />
заряженной пыли нужны специальные условия. В качестве одного из них мы<br />
рассматриваем процесс сгонки ионов металлов в Es-слои, описываемый теорией<br />
вертикального ветрового сдвига [Axford, 1963]. Оценки в рамках этой модели,<br />
свидетельствуют, что требуемая для охлаждения электронной компоненты<br />
99
концентрация заряженной пыли в слое вполне достижима. Более тонкие<br />
температурные эффекты, связанные с образованием слоев Еs, рассмотрены в<br />
публикации [Тимофеев и др., 2010]. Реальность существования эффекта<br />
охлаждения электронов подтверждается результатами экспериментов в<br />
запылѐнной лабораторной плазме [Олеванов и др., 2003]<br />
На высоких широтах поперечная к геомагнитному компонента<br />
электрического поля играет в образовании спорадических слоев Е роль вполне<br />
сопоставимую с ветровым сдвигом [Nygren et al., 1984].<br />
Поэтому рост усредненной величины квазистационарного электрического поля<br />
может способствовать уплотнению слоев, дальнейшему охлаждению<br />
электронов и, следовательно, росту коэффициента антикорреляции (рис. 2).<br />
Литература:<br />
1. Timofeev E. et al., Материалы IV Российского семинара «Современные<br />
средства диагностики <strong>плазмы</strong> и их применение для контроля веществ и<br />
окружающей среды», М.: «МИФИ», 2003, с.64-65.<br />
2. Данные визуальных наблюдений метеорных потоков на сайте<br />
ИМО:http://www.imo.net/data/visual.<br />
3. Фортов В. Е., Храпак Ф.Г., Якубов И.Т. Физика неидеальной <strong>плазмы</strong>. М.<br />
Физматлит. 2010<br />
4. Axford W.I. // J. Geophys. Res. 1963. V.68. P.769.<br />
5. Тимофеев и др. Материалы VII Всероссийской конференции «Современные<br />
средства диагностики <strong>плазмы</strong> и их применение для контроля веществ и<br />
окружающей среды», М.: НИЯУ МИФИ, 2010, (этот сборник).<br />
6. Олеванов М.А., Манкелевич Ю.А., Рахимова Т.В. // ЖЭТФ, 2003, т.123, с.503-<br />
517.<br />
7. Nygren et al. // JATP. 1984. V.46. P.373.<br />
100
ТЕПЛОВЫЕ СТРУКТУРЫ ПЛАЗМЫ ПОЛЯРНОЙ<br />
ИОНОСФЕРЫ КАК ПРОЯВЛЕНИЕ НЕУСТОЙЧИВОСТИ<br />
ЭКМАНОВСКОГО ТИПА<br />
Е.Е. Тимофеев 1 , С.Л. Шалимов 2,5 , О.Г. Чхетиани 3,5 , М.К. Валлинкоски 4 ,<br />
Й. Кангас 4<br />
1. Государственная морская академия им. адм. С.О. Макарова,С.-Петербург<br />
2. Институт физики земли им. О.Ю. Шмидта, РАН, Москва<br />
3. Институт физики атмосферы им. А.М. Обухова, РАН, Москва<br />
4. Отдел космофизики университета г. Оулу, Финляндия<br />
5 Институт космических исследований, РАН, Москва<br />
Введение. В суточном ходе аномалии охлаждения электронов динамо<br />
слоя (ДС) ионосферы в работе [Timofeev et al., 2006] была выявлена<br />
полусуточная приливная гармоника. Как оказалось, такое совпадение не<br />
случайно. Дальнейшие исследования аномалии [Тимофеев и др., 2010] привели<br />
к обнаружению систематической антикорреляции во временных вариациях<br />
температур электронов и ионов (с амплитудами порядка средних температур) и<br />
было показано, что антикорреляция может быть обусловлена присутствием<br />
пылевой компоненты <strong>плазмы</strong> на указанных высотах при еѐ одновременной<br />
аккумуляции в так называемые спорадические слои Е. В той же работе по<br />
данным около 300 радарных измерений параметров ДС, выполненных для<br />
события 23 марта 1988 г., были выявлены гармоники с временными масштабами<br />
от 2-х часов (21 - 23 MLT) до получаса (19.27-57; 21.27-57 UT), а также от 4.5<br />
мин вплоть до масштаба временного разрешения радара (45 с). С учѐтом<br />
средней скорости горизонтальных ионосферных ветров на нижнем пределе это<br />
даѐт пространственные масштабы 9 и даже 1.5 км. Подобная иерархия структур,<br />
с которой связываются вариации температур <strong>плазмы</strong>, может быть обусловлена<br />
неустойчивостью экмановского типа для профиля ветра с точкой перегиба<br />
[Чхетиани и Шалимов, 2010], который как раз имеет место на высоте ДС во<br />
время формирования спорадических слоев Е.<br />
Результаты анализа. Очевидно, что в условиях огромного разброса<br />
температур ионов (Ти) и электронов (Тэ) динамо слоя (ДС) целесообразно<br />
101
работать со средними величинами температур, а также их стандартными<br />
отклонениями. Для серии измерений с 18.45 до 23.45 UT в событии 23.03.1988<br />
высотный ход разности (Ти – Тэ), усреднѐнной по 4-ѐм интервалам величины<br />
электрического поля иллюстрируется данными Таблицы 1.<br />
Высота\Эл.поле 0 - 10 10 - 15 15 - 25 25 - 45<br />
101.6 � 2.5 0 0 0 0<br />
106 � 2.5 53 61 46 33<br />
110.4 � 2.5 33 24 30 15<br />
Высоты даны в километрах, интервалы изменения поля в мВ/м. Меньшая<br />
величина 2-го из них выбрана с целью выравнивания статистической<br />
значимости результатов во всех интервалах. Как видно величина аномального<br />
охлаждения электронов (Ти –Тэ) достигает максимума (61 К) во 2-ом интервале<br />
на высоте 106 км. При этом величины стандартного отклонения для Ти и Тэ<br />
составили 30 и 51 К соответственно. Поэтому дальнейшее изучение<br />
особенностей аномалии целесообразно ограничить высотами 106�2.5 км.<br />
Поведение средних Тэ и Ти дано в 4-ѐх интервалах изменения поля в Таблице 2.<br />
Электрич. поле 0 - 10 10 - 15 15 - 25 25 - 45<br />
Ти 207 210 201 204<br />
Тэ 153 149 155 170<br />
Как видно из Таблицы 2 при переходе от 1-го ко 2-му интервалу средний<br />
уровень Ти растѐт, а Тэ - падает. Такое противофазное поведение температур<br />
здесь проявляется на масштабе в три четверти часа. На рисунке 1 подобный<br />
пример показан уже на масштабе времени разрешения радара (45 c).<br />
Рисунок 1<br />
Вариации Тэ и Ти в серии 17-ти последовательных импульсах радара.<br />
102
Более крупный 4.5 минутный масштаб был выделен по поведению двух<br />
кластеров из 6-ти импульсов, (со 2-го по 6-ой) и (с 8-го по 13-ый). Оказалось,<br />
что по истечении каждого из них обе величины Тэ и Ти возвращались к<br />
значениям температур средних для всего 20-ти минутного интервала. Отметим,<br />
что вся эта серия принадлежит к интервалу максимально жесткой<br />
антикорреляции (см. рис. 1б работы [Тимофеев и др., 2010]).<br />
Обсуждение. Для объяснения эффекта антикорреляции температур на<br />
разных масштабах рассмотрим условия формирования спорадических слоев Е<br />
(Еs) на высотах 100-110 км. Как известно, процесс формирования слоев<br />
описывается в рамках теории ветрового сдвига [Axford, 1963], согласно которой<br />
ионы в ДС (особенно долгоживущие ионы металлов) могут собираться в тонкие<br />
слои под действием ветрового сдвига (шира скорости) и силы Ампера. Этот<br />
процесс происходит периодически в основном с периодом полусуточного<br />
прилива [Haldoupis et al., 2006]. Однако современные наблюдения<br />
(использующие когерентные радары и лидары) показывают, что в нижней<br />
ионосфере (на высотах от 90 до 120 км) часто присутствуют (как в нейтральной,<br />
так и в плазменной компоненте) упорядоченные (квазипериодические) и<br />
вихревые структуры (типа роллов) с горизонтальной осью ориентированной под<br />
углом к зональному направлению [Hysell et al., 2004; Larsen et al., 2004]. Эти<br />
структурные образования имеют пространственные масштабы по вертикали<br />
порядка 5-6 км, горизонтальные – порядка 10 км и временные масштабы (время<br />
жизни) 1-3 часа. По своим масштабам и ориентации указанные структуры<br />
имеют сходство с образованиями, которые формируют квазипериодические<br />
радиоотражения от дрейфующих со скоростью ветра слоев Еs [Hysell et al.,<br />
2004]. Иными словами, слои Еs на самом деле не являются сплошными, а<br />
представляют собой чередующиеся области фоновой и более плотной (внутри<br />
роллов, действующих подобно ветровому сдвигу), чем фоновая, <strong>плазмы</strong>.<br />
В работе [Чхетиани и Шалимов, 2010] было показано, что на высотах ДС<br />
возможно развитие так называемых неустойчивостей экмановского типа,<br />
которые и приводят к образования наблюдаемых структур типа роллов. Для нас<br />
важно, что заряженная пыль, присутствующая на этих высотах, подвержена<br />
действию тех же сил, что и ионы металлов. Поэтому внутри роллов образуется<br />
повышенная концентрация заряженной пылевой компоненты и, как следствие еѐ<br />
влияния на плазму, внутри роллов температура электронов будет ниже фоновой<br />
103
[Тимофеев и др. 2010]. Таким образом, дрейфующие мимо луча радара<br />
пространственные структуры указанных масштабов будут иметь разные<br />
температурные характеристики. Обнаруженная по температурным измерениям<br />
иерархия масштабов устанавливается вследствие нелинейной эволюции<br />
неустойчивости экмановского типа.<br />
Литература:<br />
1. Timofeev E. et al., Материалы V Российского семинара «Современные<br />
средства диагностики <strong>плазмы</strong> и их применение для контроля веществ и<br />
окружающей среды», М.: НИЯУ «МИФИ», 2006, с.96-97.<br />
2. Тимофеев Е.Е. и др. Материалы VII Российской конференции «Современные<br />
средства диагностики <strong>плазмы</strong> и их применение для контроля веществ и<br />
окружающей среды», М.: НИЯУ МИФИ, 2010, (этот сборник).<br />
3. Чхетиани О., Шалимов С.// ДАН, 2010. Т.431. С.113.<br />
4. Axford W.I. // J. Geophys. Res. 1963. V.68. P.769.<br />
5. Haldoupis C. et al. // J. Atm. Solar-Terr. Phys. 2006. V.68. P.539.<br />
6. Hysell et al. // Ann. Geophys. 2004. V.22. P.3277.<br />
7. Larsen et al. // J. Geophys. Res. V. 109, D02S04, doi: 10.1029/ 2002JD003067,<br />
2004.<br />
104
СПУТНИКОВЫЙ ЭКСПЕРИМЕНТ «ФОКА» ПО<br />
РЕГИСТРАЦИИ МЯГКОГО РЕНТГЕНОВСКОГО И<br />
ЭКСТРЕМАЛЬНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ<br />
СОЛНЕЧНОЙ ПЛАЗМЫ<br />
Ю.Д. Котов, А.В. Кочемасов, А.С. Гляненко, В.Н. Юров, А.И. Архангельский<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
С февраля по декабрь 2009 года на борту спутника КОРОНАС-ФОТОН<br />
при помощи радиометра ФОКА (рис.1) проводились измерения солнечного<br />
мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового излучения.<br />
Измерения осуществлялись в трех спектральных диапазонах: 0,5-11 нм,<br />
27-37 нм и 116-125 нм (в линии Лайман-альфа водорода121,6 нм). Во время<br />
захода спутника в тень Земли и выхода из нее осуществлялись оккультационные<br />
измерения, т.е. измерения поглощения излучения верхними слоями атмосферы<br />
Земли.<br />
В качестве детекторов в приборе<br />
использовались кремниевые фотодиоды с<br />
напыленными на поверхность фильтрами из Ti и<br />
Pd (для диапазона 0,5-11 нм), Cr и Al (для<br />
27-37 нм) и с внешними интерференционными<br />
фильтрами на основе MgF2 для измерения<br />
Лайман-альфа излучения. Фильтры обеспечивали<br />
формирование необходимых диапазонов<br />
чувствительности каналов прибора, а также<br />
подавление очень яркого видимого излучения Солнца на 7-8 порядков. Перед<br />
запуском детекторы были абсолютно откалиброваны на синхротронных<br />
источниках в рабочих спектральных окнах.<br />
Для оценки стабильности фотодетекторов в полете каждый канал<br />
прибора ФОКА был снабжен дублером, который большую часть времени был<br />
105<br />
Рис. 4 Блок детекторов<br />
прибора ФОКА
закрыт и открывался приблизительно раз в две недели на непродолжительное<br />
время для сравнения с основным.<br />
На протяжении всего времени работы спутника (порядка 10 месяцев)<br />
прибор полностью сохранял работоспособность, однако, было обнаружено<br />
увеличение чувствительности в основном канале Лайман-альфа на ~30%. За<br />
время проведения эксперимента были получены профили солнечного излучения<br />
в условиях очень слабой активности Солнца в минимуме одиннадцатилетнего<br />
цикла, измерены профили в имевших место слабых солнечных вспышках<br />
(нескольких десятков вспышек класса С и ниже), получено несколько тысяч<br />
кривых оккультационного поглощения.<br />
Литература:<br />
1. Котов Ю.Д., Кочемасов А.В., Гляненко А.С., Юров В.Н.,<br />
Архангельский А.И., «Первые результаты эксперимента ФОКА по<br />
регистрации солнечного жесткого ультрафиолетового излучения», рабочее<br />
совещание по проекту «КОРОНАС-ФОТОН» «Первые этапы летных<br />
испытаний и выполнение программы научных исследований», г. Таруса,<br />
Калужская обл., 22-24 апреля, 2009. Опубликовано в трудах рабочего<br />
совещания М., 2010, с 119–127.<br />
106
ИЗМЕРЕНИЕ ОПТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК<br />
ЛАЗЕРНОИНДУЦИРОВАННЫХ ПЛАЗМЕННЫХ ФАКЕЛОВ<br />
МЕТАЛЛОВ С ВЫСОКИМ ВРЕМЕННЫМ РАЗРЕШЕНИЕМ<br />
В.К. Гончаров, К.В. Козадаев, Д.В. Щегрикович<br />
НИУ «Институт прикладных физических проблем им. А.Н. Севченко<br />
Белорусского государственного университета»<br />
Для изучения динамики эрозионных лазерных факелов (ЭЛФ) металлов с<br />
высоким временным разрешением была применена экспериментальная лазерная<br />
установка, принципиальная схема которой приведена на рис.1. Функционально<br />
данную установку можно разделить на несколько блоков: генерации<br />
воздействующих импульсов, генерации зондирующих импульсов, регистрации<br />
компонент зондирующего излучения и синхронизации.<br />
1 - система синхронизации; 2 - вращающаяся призма полного внутреннего<br />
отражения с возможностью генерации синхронизирующего импульса; 3 –<br />
неодимовый лазер; 4 – полупрозрачное зеркало (на 1064 нм);; 5, 7 и 15 –<br />
ответвляющие плоскопараллельные кварцевые пластинки; 6 – подвижная<br />
линза; 8, 10, 21 ,22 – фотодетекторы: 9 – калориметр; 11 - компьютер с<br />
блоком АЦП; 12 - интегрирующая сфера; 13 – мишень; 14 – эрозионный<br />
лазерный факел; 16, 17 – поворотные призмы; 18 - 20 –рубиновый лазер в<br />
конфокальном резонаторе<br />
Рисунок 1. Принципиальная схема экспериментальной установки для изучения<br />
процессов, протекающих в эрозионных лазерных факелах<br />
107
Блок генерации воздействующего излучения представлен стандартной<br />
лазерной установкой ГОС 1001, работающей в режиме модуляции добротности<br />
резонатора вращающейся призмой полного внутреннего отражения.<br />
Длительность воздействующего излучения составляет 100 нс, энергия 2-3 Дж,<br />
что при фокусировке в пятно с диаметром 1 мм позволяет получать плотности<br />
мощности 1-2 ГВт/см 2 . Контроль параметров ЭЛФ осуществлялся с помощью<br />
методики лазерного зондирования. В настоящем эксперименте использовались<br />
мишени из цинка, свинца и серебра. Данные металлы сильно отличаются по<br />
своим теплофизическим параметрам, что позволяет на качественном уровне<br />
понять основные закономерности поведения плазменного факела в целом для<br />
металлов.<br />
Изучение временной формы интегральной светимости ЭЛФ при<br />
воздействии субмикросекундных (100 нс) импульсов с плотностью мощности<br />
10 8 -10 9 Вт/см 2 на различные типы металлических мишеней показывает, что<br />
свечение плазменного образования достигает своего максимума уже на спаде<br />
интенсивности воздействующего импульса отставая от максимума<br />
воздействующего излучения на 70-100 нс в зависимости от типа металла (см.<br />
рис 2).<br />
При этом вся энергия переднего фронта воздействующего импульса<br />
беспрепятственно доходит до поверхности мишени. Следует заметить, что<br />
первоначально высокий коэффициент отражения на длине волны<br />
воздействующего импульса (для металлов 0,8-0,99) при интенсивном<br />
воздействии быстро снижается, при этом интегральная доза поглощенного<br />
излучения может доходить до 50% от энергии, дошедшей до поверхности<br />
мишени.<br />
При исследовании временной формы прозрачности (обратной<br />
экстинкции) ЭЛФ на высоте 1 мм (см. рис. 2) прослеживается схожая<br />
закономерность: через 30-50 нс после максимума интенсивности<br />
воздействующего импульса потери зондирующего излучения достигают своего<br />
наибольшего значения. Это означает, что через ~50нс после начала воздействия<br />
108
а б в<br />
Рисунок 2. Временные формы: 1,2 – прозрачности факела для зондирующего<br />
излучения на высоте 1 и 2 мм соответственно, 3 – интегрального свечения<br />
факела, 4 – воздействующего импульса; для а) цинка, б) свинца и в) серебра.<br />
Плотность мощности воздействующего импульса 2 ГВт/см 2 .<br />
(указанный промежуток времени сопоставим с длительностью фронта<br />
нарастания интенсивности воздействующего излучения) происходит<br />
формирование плазменного образования и его продвижение в направлении,<br />
перпендикулярном поверхности мишени. Измерение прозрачности на высоте 2<br />
мм позволяет по результатам сравнения с данными зондирования на высоте 1<br />
мм оценить скорость распространения ЭЛФ – она составляет 8-20 км/с в<br />
зависимости от типа металлической мишени.<br />
В процессе своей эволюции плазменное образование начинает активно<br />
поглощать излучение на заднем фронте воздействующего импульса, что<br />
приводит к быстрому увеличению параметров <strong>плазмы</strong> и возрастанию ее<br />
непрозрачности, о чем говорит нарастание интегрального свечения факела и<br />
увеличение потерь зондирующего излучения. Это можно объяснить эффектом<br />
обратного тормозного поглощения оптического излучения (как<br />
воздействующего, так и зондирующего) в плазме на свободных носителях<br />
заряда. Как правило, максимум свечения ЭЛФ приходится на 120-150 нс после<br />
начала воздействия. Приблизительно через такой же промежуток времени от<br />
начала воздействия (80-100 нс) достигают своего максимума потери<br />
зондирующего излучения на высоте 1 мм от поверхности мишени.<br />
Как видно из формы интегрального свечения ЭЛФ для разных металлов<br />
(см. рис.2), тенденция уменьшения значения данного параметра несколько<br />
затянута по сравнению со спадом интенсивности лазерного импульса (см. рис.<br />
109
2). Если спустя 500 нс после начала воздействия интенсивность лазерного<br />
излучения находится на уровне ~10% от максимального значения, то подобного<br />
уровня интегральное свечение достигает лишь спустя 2 мкс после начала<br />
воздействия. Это говорит о достаточно медленном остывании ЭЛФ за счет<br />
адиабатического разлета <strong>плазмы</strong>.<br />
Результаты проведенных исследований показывают, что при воздействии<br />
на металлы высокоинтенсивных субмикросекундных лазерных импульсов<br />
образуются плазменные потоки, активно взаимодействующие с падающим<br />
излучением. Поэтому применение для обработки металлов лазерных импульсов<br />
с указанными характеристиками перспективно лишь в случае достаточно малой<br />
их длительности (50–100 нс). В противном случае основная часть энергии<br />
действующего импульса не доходит до поверхности мишени и расходуется на<br />
повышение параметров образующейся <strong>плазмы</strong>.<br />
110
ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПРОСТРАНСТВЕННЫХ, СПЕКТРАЛЬНЫХ<br />
И КОГЕРЕНТНЫХ СВОЙСТВ ПУЧКА МЯГКОГО<br />
РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ЛАЗЕРА НА СВОБОДНЫХ<br />
ЭЛЕКТРОНАХ ЗА ОДНО ИЗМЕРЕНИЕ ДИФФРАКЦИОННОЙ<br />
КАРТИНЫ.<br />
А.Н. Митрофанов 1,2 , А.Я. Фаенов 2 ,А.В. Виноградов 1 , Т.А. Пикуз 2<br />
1.<br />
Учреждение Российской Академии Наук Физический институт им. П.Н.<br />
Лебедева РАН.<br />
2.<br />
Учреждение Российской Академии Наук Объединенный институт высоких<br />
температур РАН.<br />
Если лазерная абляция вещества и разогрев <strong>плазмы</strong> до термоядерных<br />
температур в последние 50 лет интеснивно изучались для лазеров с различными<br />
длительностями импульса и с длинами волн, лежащих в ИК или видимой<br />
области спектра, то исследования особенностей нагрева вещества<br />
рентгеновскими импульсами стали возможными только на протяжении<br />
последних пяти лет в связи с быстрым развитие способов генерации коротких<br />
импульсов лазерного рентгеновского излучения (высоких гармоник импульсов<br />
фемтосекундных лазеров, плазменных рентгеновских лазеров, рентгеновских<br />
лазеров на свободных электронах). Такие рентгеновские лазеры начинают также<br />
применятся и для получения изображений различных нано объектов, в том<br />
числе и биологических с высокой степенью разрешения. Оптимизация<br />
использования рентгеновских лазеров для всех приложений существенно<br />
зависит от качества генерируемого пучка. Поскольку рентгеновские источники<br />
лазерного излучения развиваются хотя и недавно, но достаточно стремительно<br />
необходимо создание высокоэффективных методов и средств диагностики<br />
таких пучков, в частности, позволяющих проводить прецизионные измерения<br />
пространственных, спектральных и когерентных характеристик. В данной<br />
работе описан метод, позволяющий получить распределение этих свойств за<br />
одну вспышку лазерного излучения.<br />
111
В качестве источника мягкого рентгеновского излучения использовался<br />
лазер на свободных электронах (self-amplified spontaneous emission-free electron<br />
laser) разработанный в Японии (SPring-8 Compact SASE Source) [1,2] . Лазерный<br />
пучок с энергией до 11 �Дж, длительностью ~300 фс и длинами волн 51-62 нм<br />
распространялся в вакуумной системе (cм. Рис. 1). На пути пучка на расстоянии<br />
16.3 м от источника ставилась металлическая сетка с периодом 350 мкм и<br />
толщиной проволоки 36 мкм. На расстоянии 26 мм от сетки был расположен<br />
детектор из кристалла LiF, который обладал высоким динамическим<br />
диапазоном регистрации, высокой чувствительностью и позволял<br />
регистрировать мягкое рентгеновское излучение с пространственным<br />
разрешением ~0.6<br />
�м за одну вспышку лазерного излучения [3]. Дифракционная картина,<br />
полученная<br />
Рис. 1 . Схема эксперимента.<br />
детектором в каждой ячейке сетки (Рис. 2), затем, сравнивалась с<br />
дифракционной картиной, полученной с помощью численного моделирования<br />
(Рис. 3). Подбирая параметры моделирования и добиваясь наилучшего<br />
112
совпадения с экспериментом можно восстановить параметры<br />
экспериментального пучка для каждой ячейки сетки.<br />
Рис.2. Дифракционная картина Рис.3. Дифракционная картина<br />
полученная детектором.<br />
полученная с помощью численного<br />
моделирования.<br />
На Рис. 4 изображены экспериментальное распределение интенсивности<br />
(синяя линия) и распределение интенсивности, полученное моделированием<br />
(красная линия) вблизи одной из проволок. Численное моделирование<br />
проводилось при следующих параметрах: толщина проволоки d = 36.5<br />
мкм, расстояние от сетки до детектора z = 26 мм, длина волны λ = 52 нм, длина<br />
пространственной когерентности Lc= 100 мкм. Для сравнения<br />
эксмериментального и расчетного распределений использовалась величина δ,<br />
характеризующая среднее отклонение расчетного распределения от<br />
экспериментального на отрезке x=[-150,0]. При данных параметрах величина δ<br />
= 0.045.<br />
113
Рис. 4. Экспериментальное<br />
распределение интенсивности (синяя<br />
линия) и распределение интенсивности,<br />
полученное моделированием (красная<br />
линия) вблизи одной из проволок (d =<br />
36.5 мкм, z = 26 мм, λ = 52 нм).<br />
114<br />
Рис. 5. Зависимость δ от толщины<br />
проволоки (z = 26 мм, λ = 52 нм).<br />
Моделирование распространения пучка производилось с помощью<br />
параболического волнового уравнения:<br />
2 2<br />
�u<br />
� u � u<br />
2ik � � � 0.<br />
2 2<br />
(1)<br />
�z<br />
�x<br />
�y<br />
Зная распределение поля в плоскости z=0 можно найти распределение<br />
поля во всем пространстве:<br />
�<br />
2<br />
2<br />
k<br />
� �x ��<br />
� � �y ���<br />
�<br />
u( x,<br />
y,<br />
z)<br />
� u0(<br />
�,<br />
�)<br />
exp �ik<br />
�d�d�. 2�iz<br />
�<br />
(2)<br />
� 2z<br />
��<br />
�<br />
Пространственная когерентность моделировалась с помощью разбиения<br />
волнового фронта на отдельные участки, которые коррелировали между собой<br />
согласно функции корреляции. Функция корреляции бралась в виде<br />
распределения Гаусса.<br />
Для определения чувствительности метода к изменению параметров в<br />
модели были изменены по очереди все параметры. Полученное распределение<br />
интенсивности сравнивалось с исходным экспериментальным распределением<br />
(с неизменѐнными параметрами). На Рис. 5 отображена зависимость δ от<br />
толщины проволоки, на Рис. 6 - зависимость δ от расстояния от сетки до<br />
детектора, и на Рис. 7 - зависимость δ от длины волны. Видно, что даже при<br />
незначительном отклонении параметров от оптимальных (менее 10%) величина<br />
δ значительно увеличивается.
Рис. 6. зависимость δ от расстояния<br />
от сетки до детектора (d = 36.5<br />
мкм, λ = 52 нм).<br />
115<br />
Рис.7. зависимость δ от длины волны (d<br />
= 36.5 мкм, z = 26 мм).<br />
Метод также позволяет определить спектральную ширину линии пучка.<br />
В данном случае она составляет � 1 нм, что хорошо совпадает с данными<br />
измерения спектральной ширины лазерной генерации, измеренной с помощью<br />
другого метода.<br />
Таким образом, в настоящей работе экспериментально и теоретически<br />
продемонстрировано, что предложенный метод позволяет с точностью лучшей<br />
чем 10 % измерять распределение по сечению пучка интенсивности,<br />
когерентноси, а также спектральных характеристик пучков рентгеновских<br />
лазеров.<br />
Литература:<br />
1. Inagaki T., Imoue S., Ishi M. et al. A compact free-electron laser for<br />
generating coherent radiation in the extreme ultraviolet region.// Nature<br />
Photonics,2008, т.2, с. 555<br />
2. Faenov A.Ya., Kato Y., Tanaka M., et al., Submicrometer-resolution in situ<br />
imaging of the focus pattern of a soft x-ray laser by color center formation in<br />
LiF crystal// Optics Letters, 2009, т. 34, с.941
ИССЛЕДОВАНИЕ РЕНТГЕНОВСКИХ СПЕКТРОВ<br />
МНОГОЗАРЯДНЫХ ИОНОВ ЛАЗЕРНОЙ ПЛАЗМЫ<br />
В. А. Бураков 1 , М. В. Осипов 2 , В. Н. Пузырев 2 , А.Н.Стародуб 2 , О. Ф. Якушев 2<br />
1. Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
2. Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН<br />
Одной из задач физики <strong>плазмы</strong> является изучение состояния <strong>плазмы</strong><br />
путем измерения ее параметров: температуры, концентрации заряженных и<br />
нейтральных частиц, распределения различных частиц по возбужденным<br />
состояниям, а также нахождение пространственного распределения этих<br />
параметров. Лабораторная лазерная плазма может быть химически однородна, а<br />
ее плотность меняться от сравнимой с плотностью твердого тела до вакуума [1].<br />
В столь широком диапазоне параметров изучаемых объектов<br />
спектроскопические методы исследования являются наиболее универсальными,<br />
а зачастую (в случае астрофизической <strong>плазмы</strong>) и единственно возможными. По<br />
общей структуре спектра уже можно сделать качественные выводы о<br />
присутствии того или иного элемента, а степень ионизации элемента<br />
характеризует по порядку величины температуру исследуемой <strong>плазмы</strong>.<br />
Мягкий рентгеновский диапазон электромагнитного излучения, к<br />
которому условно можно отнести область длин волн от 10 до 300 Å, в<br />
последние десятилетия стал активно осваиваться для различных приложений в<br />
науке и технике. Созданные на основе высоких технологий специальные<br />
рентгенооптические системы позволили расширить и найти новые области<br />
применения рентгеновского излучения. Примером могут являться<br />
рентгеновская микроскопия и литография, астрофизика и материаловедение,<br />
биология и медицина [2]. В МР диапазоне лежит максимум излучательной<br />
способности <strong>плазмы</strong> с температурой от сотен электронвольт до нескольких<br />
килоэлектронвольт. Отсюда ясны значения МР диапазона в работах по<br />
диагностике <strong>плазмы</strong> и важность совершенствования методов регистрации и<br />
анализа энергетического состава мягкого рентгеновского излучения.<br />
116
Таким образом, одним из перспективных методов диагностики лазерной<br />
<strong>плазмы</strong> является регистрация потоков квантов в мягком рентгеновском<br />
диапазоне с пространственным и энергетическим разрешением. В данной работе<br />
основное внимание будет посвящено рассмотрению рентгеновских спектров<br />
многозарядных ионов лазерной <strong>плазмы</strong> в МР диапазоне спектра. Целью<br />
исследований, при этом, является не только идентификация спектральных<br />
линий, но и установление механизмов возбуждения рентгеновского спектра, т.<br />
е. идентификация физических процессов в источнике излучения.<br />
Эксперименты проводились на лазерной установке «Канал–2»,<br />
представляющей собой одноканальный лазер, построенный по принципу<br />
формирования в задающем генераторе импульса с согласованной с<br />
характеристиками мишени пространственной и временной когерентностью и<br />
последующим усилением его в цепи последовательных усилительных каскадов<br />
стержневого типа, созданных на базе промышленных активных элементов из<br />
силикатного стекла [3]. Основные параметры лазерного импульса следующие:<br />
длина волны излучения 1,06 мкм, длительность импульса �и – 2,5 нс, энергия<br />
импульса �L – (50 – 100) Дж, плотность мощности излучения 10 12 -10 14 Вт /см 2 .<br />
В ходе выполнения данного цикла экспериментов был создан<br />
диагностический комплекс для исследования параметров <strong>плазмы</strong> в<br />
рентгеновском диапазоне спектра, состоящий из 3-х диагностических каналов:<br />
� Канал, на основе камеры-обскуры, обеспечивающий регистрацию<br />
изображения <strong>плазмы</strong> с пространственным разрешением ~ 16 мкм в<br />
спектральном диапазоне ≤ 1 Å;<br />
� Канал регистрации изображения <strong>плазмы</strong> с высоким пространственным<br />
разрешением (~ 0.2 мкм) в спектральном диапазоне 180-200 Å на основе<br />
объектива Шварцшильда;<br />
� Канал регистрации рентгеновских спектров <strong>плазмы</strong> на основе<br />
спектрографа скользящего падения.<br />
В данной работе мы подробнее остановимся на работе и результатах,<br />
полученных с помощью третьего канала регистрации.<br />
Спектрограф скользящего падения [4] представляет собой прибор,<br />
предназначенный для проведения спектральных исследований в мягком<br />
рентгеновском и вакуумно-ультрафиолетовом диапазоне спектра излучения<br />
117
<strong>плазмы</strong>. Конструктивно спектрограф состоит из дифракционной решетки<br />
скользящего падения и металлического корпуса. В спектрографе использована<br />
внероуландовская схема регистрации спектров. Излучение, падающее на<br />
дифракционную решетку, разлагается в спектр и регистрируется на фокальной<br />
поверхности, перпендикулярной к дифрагированным лучам. При этом,<br />
идеальная фокусировка осуществляется только для одной длины волны λ0,<br />
соответствующей точке пересечения плоскости регистрации с кругом Роуланда,<br />
однако, благодаря малой угловой апертуре спектрографа, запись спектра<br />
возможна в достаточно широком спектральном диапазоне λ0 ± ∆λ. Величина ∆λ<br />
связана с наблюдаемым спектральным разрешением λ/δλ – чем шире диапазон<br />
∆λ, тем меньше величина λ/δλ, вызванная дефокусировкой. Настройка на разные<br />
длины волн λ0 производится изменением расстояния между плоскостью<br />
регистрации и решеткой. В данном спектрографе используется съемная<br />
дифракционная решетка 600 штр/мм радиусом кривизны 1 м. Вывод данных<br />
осуществляется на компьютер.<br />
Основные параметры спектрографа:<br />
– диапазон длин волн – 20 ÷ 400 Å;<br />
– макс. спектральная разрешающая сила – 300;<br />
– спектральное разрешение λ/δλ – 50 ÷ 300;<br />
– угол скольжения, падающего излучения на решетку – 4º;<br />
– габаритные размеры дифракционных решеток, мм – 10х20х30;<br />
– габаритные размеры спектрографа, мм – 250х50;<br />
Для регистрации интегральных по времени спектров использовалась ПЗС<br />
– матрица TCD1304A с люминофором на базе GdO. Размер гранулы равнялся 3<br />
мкм, размеры ячейки равнялись 8х200 мкм.<br />
Использование внероуландовской схемы регистрации позволило<br />
значительно упростить процедуру установки и юстировки прибора. В<br />
используемой схеме спектрограф был съюстирован таким образом, чтобы<br />
центральная длина волны составляла �0 = 80 Å. Спектральный интервал, в<br />
котором дефокусировка отсутствовала, был не меньше 50 Å.<br />
В представленных экспериментах лазерному воздействию подвергались<br />
мишени различного химического состава и структуры, в частности,<br />
твердотельные, пористые мишени и мишени из нанокластеров металлов.<br />
118
Твердотельные мишени представляли собой металлическую фольгу<br />
толщиной от 100 мкм до 500 мкм из алюминия и гадолиния. Другой тип<br />
мишеней представлял собой пористую структуру с объѐмной плотностью 4<br />
мг/см 3 . Пористая структура достигается хаотическим распределением волокон<br />
(нитей) в пространстве. В качестве материала волокон используется триацетат<br />
целлюлозы. Толщина таких мишеней в наших экспериментах составляла 1000<br />
мкм.<br />
В результате проведенных экспериментов были зарегистрированы<br />
спектры как мишеней из металла, так и пористых мишеней, идентификация<br />
которых осложняется тем фактом, что в составе мишеней присутствует некое<br />
неконтролируемое количество примесей, что вызвало необходимость в<br />
дальнейшем использовать в экспериментах только химически чистые вещества.<br />
Таким образом, создан канал для регистрации рентгеновских спектров<br />
многозарядных ионов лазерной <strong>плазмы</strong> в МР диапазоне спектра (~80 Å),<br />
проведены предварительные эксперименты, получены спектры излучения<br />
металлических и объемно-структурированных мишеней, идентификация<br />
которых производится.<br />
Литература.<br />
1. О.Б. Ананьин, Ю.В. Афанасьев, Ю.А. Быковский, О.Н. Крохин.<br />
Лазерная плазма. Физика и применения: монография. Москва: Наука,<br />
2003;<br />
2. Оптика мягкого рентгеновского излучения: пер. с англ. А. Мишетт.<br />
Москва: Мир, 1989;<br />
3. Рентгеновская оптика и микроскопия: пер. с англ. Под ред. Г. Шмаля и<br />
Д. Рудольфа. Москва: Мир, 1987;<br />
4. S.I. Fedotov, L.P. Feoktistov, M.V. Osipov, and A.N Starodub, Lasers for ICF.<br />
Journal of Russian Laser Research. V. 25. No. 1. 2004. P. 79; Препринт<br />
ФИАН №35, Москва 2002.<br />
5. Шевелько А.П. и др. «ВУФ – спектроскопия <strong>плазмы</strong>, создаваемой в<br />
конечном анод–катодном промежутке сильноточного импульсного<br />
генератора ―Z-Machine‖ (SNL)». ФИАН, 2009.<br />
119
ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ<br />
УСЛОВИЙ ИНИЦИИРОВАНИЯ НА ДИНАМИКУ ПЛАЗМЫ<br />
СИЛЬНОТОЧНОЙ ВАКУУМНОЙ ИСКРЫ НА УСТАНОВКЕ<br />
«ПИОН»<br />
Э.И Додулад, А.П. Кузнецов, С.А. Саранцев<br />
Национальный исследовательский ядерный университет МИФИ<br />
К настоящему времени отсутствует полная картина динамики <strong>плазмы</strong><br />
микропинчевого разряда (МПР): относительно малоизученными являются<br />
физические процессы, протекающие на поверхности электродов, начальная фаза<br />
развития такого типа разрядов и процессы в периферийной, относительно оси<br />
разрядного промежутка, области. Для получения наиболее полной информации<br />
о процессах в МПР необходимо создание комплекса диагностических средств.<br />
На кафедре физики <strong>плазмы</strong> в НИЯУ МИФИ была разработана и создана<br />
установка «Пион» [1] для исследования плотной импульсной<br />
высокотемпературной <strong>плазмы</strong> с разрядом типа НВИ в «чистых» вакуумных<br />
условиях. Этому способствовал богатый экспериментальный опыт,<br />
накопленный в экспериментах на микропинчевых установках кафедры «Зона-2»<br />
[2] и «ПФМ-72» [3].<br />
На динамику <strong>плазмы</strong> МПР может оказывать существенное влияние<br />
условия инициирования основного разряда: длительность инициирующего<br />
импульса и его амплитуда, плазмообразующий диэлектрик триггерного<br />
поджига, а также геометрия системы инициирования. Физический пуск<br />
установки «Пион» показал отсутствие стабильности динамики <strong>плазмы</strong> МПР с<br />
первоначальной системой инициирования, особенностью которой было<br />
расположение плазмообразующего диэлектрика в «тени» катода [1]. Это<br />
свидетельствовало о недостаточном количестве фор<strong>плазмы</strong>, поступающей в<br />
межэлектродный промежуток основного разряда. В связи с этим, геометрия<br />
системы инициирования была видоизменена, для того, чтобы вынести<br />
плазмообразующую поверхность диэлектрика ближе к анод-катодному<br />
промежутку МПР и тем самым увеличить количество фор<strong>плазмы</strong>, поступающей<br />
в межэлектродный промежуток.<br />
120
Предварительные исследования были проведены с использованием ГИТ<br />
на основе тиратрона ТГИ1-1000/25 и конденсатора К75-48 емкостью 0.22 мкФ.<br />
Применялись два варианта схемы ГИТ с повышающим импульсным<br />
высоковольтным трансформатором и без него. В качестве плазмообразующих<br />
диэлектриков использовались керамика и фторопласт. Исследования<br />
проводились для двух полярностей на центральном триггерном электроде.<br />
Напряжение на основной конденсаторной батарее составляло 10÷15 кВ.<br />
Напряжение на центральном триггерном электроде составляло 7÷18 кВ (как<br />
выяснилось в ходе экспериментов наилучшие результаты наблюдались для U =<br />
12 кВ, поэтому все результаты приводятся для этого напряжения).<br />
Первые исследования показали, что<br />
лучшая стабильность МПР наблюдается для<br />
схемы с применением импульсного<br />
трансформатора о чем свидетельствовали<br />
характерные для всех разрядов типа Z-пинч<br />
провалы на осциллограмме тока, а также<br />
соответствующие этому моменту времени<br />
сигналы рентгеновского излучения из области<br />
МПР, регистрируемые с помощью pin-диода. В<br />
случае использования фторопласта при отрицательной полярности на<br />
центральном триггерном электроде, наблюдалось довольно устойчивое<br />
появление микропинча, но при этом присутствовал довольно большой разброс<br />
по времени появления микропинча ~ 500 нс. Для керамики при той же<br />
полярности на центральном триггерном электроде также наблюдались<br />
устойчивые пики рентгеновского, но при этом временной разброс составлял ~<br />
100 нс.<br />
Рис. 1. Электродная<br />
система установки «Пион»<br />
Рис. 2. Два последовательных разряда<br />
при использовании фторопласта.<br />
При увеличении расстояния между катодом и анодом с 4 до 7 мм<br />
(триггерный диэлектрик – керамика) импульсы рентгеновского излучения<br />
возросли по амплитуде, при этом в некоторых разрядах наблюдалось несколько<br />
пиков (от 2 до 4). Стабильность появления пиков рентгена от разряда к разряду<br />
также увеличилась. Для получения более полной картины о процессах<br />
121<br />
Рис. 3 Два последовательных разряда<br />
при использовании керамики
протекающих в межэлектродном промежутке требуется дальнейшее<br />
исследование с применением рентгеновской камеры – обскуры.<br />
Рис. 3. Четыре последовательных разряда при использовании керамики и<br />
увеличенном расстоянии катод-анод.<br />
Доклад подготовлен при проведении научно-исследовательской работы в<br />
рамках реализации ФЦП «Научные и научно-педагогические кадры<br />
инновационной России» на 2009 – 2013 годы.<br />
Литература<br />
1. Башутин О.А., Бялковский О.А., Вовченко Е.Д., Додулад Э.И., Кузнецов<br />
А.П., Савѐлов А.С., Саранцев С.А. // тезисы докладов 3 Всероссийская<br />
молодежная школы-семинара с международным участием «Инновационные<br />
аспекты фундаментальных исследований по актуальным проблемам физики»<br />
2009 г. ФИАН, Москва – Технопарк ФИАН, г.Троицк, Московская обл.<br />
2. А.П. Кузнецов, О.А. Башутин, О.А. Бялковский и др. // Физика <strong>плазмы</strong>, 2008,<br />
т.34, № 3, С.219-225.<br />
3. O.A.Bashutin, E.D.Vovchenko, A.S.Savjolov, V.A.Kadetov, Lee Zh.H. Optical<br />
diagnostics of the plasma dynamics in �vacuum spark" // Proc. ICCP, Prague,<br />
Czech Republic (1998), 22C, p.1021-1022.<br />
122
ДВУХВОЛНОВЫЙ КВАДРАТУРНЫЙ ИНТЕРФЕРОМЕТР<br />
ДЛЯ ДИАГНОСТИКИ ПЛАЗМЕННОЙ МИШЕНИ В<br />
ЭКСПЕРИМЕНТАХ ПО ТОРМОЖЕНИЮ ТЯЖЕЛЫХ ИОНОВ<br />
В ИОНИЗОВАННОМ ВЕЩЕСТВЕ<br />
О.А. Бялковский 1 , Р.О. Гаврилин 1 , А.А. Голубев 2 , К.Л. Губский 1 ,<br />
А.П. Кузнецов 1 , В.И. Туртиков 2 , А.В. Худомясов 2 ,А.Д. Фертман 2 ,<br />
1. Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ» г. Москва<br />
2. ФГУП ГНЦ РФ Институт теоретической и экспериментальной физики<br />
г. Москва<br />
В настоящее время широкий круг явлений и прикладных задач,<br />
связанных с взаимодействием ионизирующего излучения с веществом,<br />
стимулирует интерес к экспериментальным исследованиям эффективности<br />
торможения быстрых ионов в плазме. При торможении ионного пучка в плазме,<br />
за счет столкновений со свободными электронами наблюдается увеличение<br />
энергетических потерь по сравнению с веществом в нормальном состоянии. С<br />
уменьшением энергии частиц разница в тормозной способности холодного и<br />
ионизованного вещества для тяжелых ионов возрастает [1,2]. Для изучения<br />
процессов, происходящих при торможении ионов в ионизованном веществе,<br />
широко используются плазменные мишени, созданные внешними источниками<br />
энергии, - разряд в газе, капиллярный разряд, лазерная плазма, плазма<br />
взрывного генератора и т.д. – включенные в линию транспортировки пучка<br />
ионов от ускорителей. При этом важнейшим аспектом данного класса<br />
экспериментов является сопоставление потерь энергии ионами с параметрами<br />
ионизованного вещества – плотностью, температурой и степенью ионизации<br />
плазменной мишени [3].<br />
В работе представлены результаты исследования линейной электронной<br />
плотности <strong>плазмы</strong> в плазменной мишени, разработанной в ИТЭФ (рис. 1).<br />
Плазма в мишени создается при электрическом разряде в канале � 6 мм,<br />
заполненном водородом при начальном давлении 50—200 Па [4].<br />
Конденсаторная батарея емкостью 3 мкФ, разряжается при напряжениях 2 - 4<br />
кВ, инициировала ток в мишени до 3 кА.<br />
123
Рис. 1. Принципиальная схема плазменной мишени<br />
Для измерения линейной электронной плотности и степени ионизации<br />
<strong>плазмы</strong> в мишени был разработан интерферометр на основе двухволнового<br />
лазера YVO4:Nd на длинах волн 0.532 мкм (Pmax=50 мВт) и 1.064 мкм<br />
(Pmax=10мВт), позволяющий разделять вклады в фазовый сдвиг зондирующей<br />
электромагнитной волны, вносимые свободными электронами и нейтральной<br />
компонентой в частично ионизованной плазме в условиях возможных вибраций<br />
оптических элементов установки. Схема интерферометра показана на рис. 2.<br />
Осциллограф<br />
Д1<br />
Д2<br />
Блок<br />
регистрации<br />
Рис.2. Схема двухволнового лазерного квадратурного интерферометра.<br />
Фазовый сдвиг в зондирующей электромагнитной волне в плазме<br />
определяется выражением:<br />
� � �4.<br />
49 �10<br />
�14<br />
Д3<br />
PC<br />
2��<br />
Д4<br />
М2<br />
�<br />
3<br />
2�<br />
d�<br />
� Са�<br />
N d�<br />
�<br />
Ne а<br />
Оптический блок<br />
Двухволновый лазер<br />
где Cа – рефракция нейтральных частиц в расчете на одну частицу, Nа – число<br />
нейтральных частиц в единице объема [5]. Из (1) видно, что при использовании<br />
4<br />
124<br />
М1<br />
Плазма<br />
1<br />
2<br />
(1)
одной длины волны невозможно выделить вклад в фазовый сдвиг, вызванный<br />
нейтральными частицами и электронами. В тоже время переход к двухволновой<br />
схеме позволяет разделить эти вклады. Так линейная электронная плотность при<br />
двухволновой интерферометрии определяется следующим выражением:<br />
� Ne d�<br />
�1�1<br />
��<br />
2�2<br />
,<br />
14 2 2<br />
4.<br />
49�10<br />
( � � � )<br />
� �<br />
1<br />
2<br />
где � 1,<br />
� 2 - фазовый сдвиг, вносимый плазмой в излучение длины волны � 1 и � 2<br />
соответственно.<br />
В работе использован квадратурный метод формирования<br />
информативных сигналов, позволяющий проводить измерения от долей до<br />
единиц и более интерференционных полос с высокой однородной<br />
дифференциальной чувствительностью.<br />
В блоке фотоэлектрической регистрации (рис.2) зондирующие излучения<br />
на дихроичном зеркале М2 разделяются по длинам волн. После<br />
фотоэлектрического преобразования на фотодетекторах Д1 – Д4 информативные<br />
сигналы по всем четырем каналам регистрируются цифровым осциллографом и<br />
0 5 10 15 20<br />
а) I, кА<br />
б)<br />
2,0<br />
1,5<br />
1,0<br />
0,5<br />
0,0<br />
0 5 10 15 20<br />
Рис.3. Сигналы с квадратурного интерферометра на длине волны 0.532<br />
мкм (а, б), временная зависимость разрядного тока (в) и динамика линейной<br />
электронной плотности <strong>плазмы</strong> водородной мишени (г).<br />
125<br />
Ne � x 10 17 , cм -2<br />
Время, мкс Время, мкс<br />
в<br />
)<br />
г<br />
)
передаются в компьютер для последующей обработки. Преобразование (2)<br />
позволяет однозначно измерить сдвиг фаз только в области главных значений<br />
функции arctg, в пределах одного фазового цикла -�/2
ИССЛЕДОВАНИЕ ЭРОЗИОННОГО КАПИЛЛЯРНОГО<br />
РАЗРЯДА В ВОЗДУХЕ АМОСФЕРНОГО ДАВЛЕНИЯ<br />
МЕТОДАМИ ТЕНЕВОГО ФОТОГРАФИРОВАНИЯ<br />
А.П. Кузнецов, А.С. Савѐлов, О.А. Бялковский, С.А.Саранцев,<br />
И.Ф.Раевский<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
Интерес к импульсным эрозионным разрядам связан с возможностью<br />
получения интенсивных источников излучения УФ- и оптического диапазонов,<br />
использованием плазменных потоков для технологических задач обработки<br />
материалов, применения плазменных струй в плазмохимии. Конструкции таких<br />
установок различны и определяются, в основном, условиями применения.<br />
Понимание физических явлений, протекающих в такого рода разрядах,<br />
позволяет оптимизировать их параметры.<br />
Интересным объектом исследования является эрозионный капиллярный<br />
разряд в воздухе атмосферного давления (рис.1). Электрическая энергия<br />
запасается в конденсаторах С1 и С2 и при зарядном напряжении UЗ=200-300 В<br />
составляет 60-140 Дж. При замыкании ключа К формируется высоковольтный<br />
импульс амплитудой ~10 кВ, приводящий к пробою капилляра 2 диаметром<br />
d=0,5-3 мм по поверхности диэлектрика 1, изготовленного из<br />
полиметилметакрилата (С2H8O3) толщиной 3 мм.<br />
+<br />
U<br />
–<br />
З<br />
R1 П<br />
C1<br />
+<br />
U<br />
–<br />
R2<br />
C3<br />
L1<br />
C2<br />
K<br />
L<br />
3 L<br />
2<br />
6<br />
Триггер<br />
4<br />
а)<br />
2<br />
3<br />
5<br />
1<br />
Время,<br />
Рис. 1. а) Схема импульсного эрозионного капиллярного разряда мс в воздухе: 1 -<br />
диэлектрик; 2 - капилляр; 3 - катод; 4 - анод; 5 - плазменный факел; 6 - пояс<br />
Роговского; б) осциллограммы тока разряда (1) и интенсивности свечения <strong>плазмы</strong><br />
факела (2).<br />
127<br />
б)<br />
200<br />
Ток разряда,<br />
А<br />
150<br />
100<br />
50<br />
1<br />
2<br />
0<br />
0 2 4 6 8 10<br />
Интенсивность света,<br />
отн. ед.<br />
1,<br />
0<br />
0,75<br />
0,<br />
5<br />
0,25
Высоковольтный пробой межэлектродного промежутка инициирует<br />
основной капиллярный разряд. Поток <strong>плазмы</strong> и возбужденных атомов<br />
формирует протяженную светящуюся область- факел 5 длиной 12-15 см и<br />
диаметром керна центральной (плазменной) части факела несколько мм.<br />
Длительность разряда ~ 10 мс. На рис. 1б представлены осциллограмма тока<br />
разряда и изменение во времени интенсивности свечения <strong>плазмы</strong> факела.<br />
Максимальное значение температуры �0.75 эВ достигается в области капилляра<br />
и быстро спадает вдоль оси до 0.15 эВ в головной части факела. Линейная<br />
электронная плотность ne � в максимуме тока, измеренная методами<br />
двухволновой лазерной интерферометрии [1], составляет 5·10 16 см -2 .<br />
В представленной работе для исследования пространственной структуры<br />
и временной динамики газо-плазменной струи был применен метод теневого<br />
фотографирования [2] с использованием в качестве осветителя лазера на парах<br />
меди (рис.2). За счет достаточно короткой длительности импульсов (30 нс) с<br />
помощью Cu-лазера можно регистрировать контрастные изображения быстро<br />
протекающих процессов, а относительно высокая частота повторения (14 кГц)<br />
позволяет проводить многокадровую съемку и получать информацию о<br />
пространственно-временной динамике плазменного образования.<br />
от лазера<br />
1 2 3 4<br />
5<br />
Рис. 2. Оптические схемы теневого фотографирования (пояснения в тексте).<br />
Излучение Сu-лазера коллимировалось линзой 1 в параллельный пучок<br />
диаметром 6 см. В отсутствие оптической неоднородности световой пучок<br />
беспрепятственно проходит через диафрагму с диаметром отверстия 0,4 мм,<br />
расположенной в фокальной плоскости приемного объектива 2. С помощью<br />
второй линзы (визуализирующего объектива) 3 изображение объекта<br />
проецируется на экран 4. Отклонение лучей в исследуемом объекте приводит к<br />
смещению лучей и перераспределению освещенности в изображении объекта на<br />
экране. Освещенность экрана при этом изменяется пропорционально угловому<br />
отклонению луча ε. В то же время угол отклонения ε пропорционален градиенту<br />
128<br />
�
показателя преломления n, проинтегрированному по линии наблюдения (вдоль<br />
оптической оси z). Изменение освещенности экрана описывается выражением<br />
Z<br />
2<br />
�I<br />
�n<br />
�n<br />
�<br />
dz<br />
I � ( � ) .<br />
�x<br />
�y<br />
Z<br />
1<br />
Роль диафрагмы состоит в том, что лучи света идущие под углами к оси,<br />
бóльшими некоторого, определяемого размерами отверстия в фокусе линзы 2,<br />
отсекаются и, соответственно, вклад в изображение будут давать только те<br />
области объекта, в которых поперечные градиенты показателя преломления<br />
превышают некоторую заданную величину.<br />
На рис.3 представлены теневые фотографии факела эрозионного<br />
капиллярного разряда в разные моменты времени. Как видно, развитие <strong>плазмы</strong><br />
сопровождается значительным увеличением турбулентности оптической<br />
плотности из-за того, что изменение показателя преломления в факеле<br />
определяется как изменением электронной компоненты в плазме разряда, так и<br />
сильным изменением показателя преломления в шубе – нагретом воздухе,<br />
окружающем плазменный керн.<br />
0,2 мс 1см<br />
0,3 мс<br />
0,6 мс 1,0 мс<br />
Рис. 3. Теневые фотографии факела эрозионного капиллярного разряда в разные<br />
моменты времени.<br />
129
Интересные результаты были получены при визуализации процессов<br />
взаимодействия «плазменного факела» с плоскими преградами из проводящего<br />
и диэлектрического материалов толщиной в доли мм. В медной фольге<br />
толщиной 80 мкм плазменная струя прожигает отверстие диаметром 2 ÷ 3 мм.<br />
Затем следует рост факела за преградой и восстановление его размеров и<br />
структуры (рис. 10). Размеры отверстия существенно меньше «шубы» и<br />
сопоставимы с диаметром керна. Взаимодействие с диэлектрической пленкой<br />
останавливает его дальнейшее осевое распространение, но наличие в ней<br />
совмещенного с осью капилляра отверстия ~ 1 мм обеспечивает прохождение с<br />
уменьшением поперечных размеров струи <strong>плазмы</strong> через преграду.<br />
Рис. 4. Теневые фотографии плазменного факела в процессе его взаимодействия с<br />
Литература<br />
плоскими преградами (медная фольга толщиной 80 мкм).<br />
1. Кузнецов А.П., Голубев А.А., Савѐлов А.С. и др., // ПТЭ, 2006, №2, С 109.<br />
2. Вовченко Е.Д., Кузнецов А.П., Савелов А.С. Лазерные методы диагностики<br />
<strong>плазмы</strong> // М.: МИФИ, 2008<br />
1см<br />
0,3 мс 0,4<br />
мс<br />
0,45<br />
мс<br />
130<br />
0,6 мс
ОИВТ РАН<br />
СПЕКТРЫ МНОГОЗАРЯДНЫХ ПОЛЫХ ИОНОВ В<br />
РЕНТГЕНОВСКОМ ИЗЛУЧЕНИИ СВЕРХПЛОТНОЙ<br />
ЛАЗЕРНОЙ ПЛАЗМЫ<br />
И.Ю. Скобелев, А.Я. Фаенов, Т.А. Пикуз<br />
Рентгеновские спектры излучения нано- и субнаносекундной лазерной<br />
<strong>плазмы</strong> интенсивно исследовались на протяжении более чем 30 последних лет.<br />
В частности, к настоящему времени очень подробно изучены спектральные<br />
характеристики излучения в окрестности резонансных линий H-подобных и He-<br />
подобных многозарядных ионов. Спектры в этой области имеют типичную<br />
структуру, характеризуемую присутствием сателлитных линий, которая хорошо<br />
описывается радиационно-столкновительными кинетическими моделями.<br />
Эксперименты, проведенные с плазмой, создаваемой пико- и<br />
субпикосекундными лазерами сверхвысокого контраста, а также лазерами с<br />
короткими длинами волн (вплоть до рентгеновских) позволили<br />
зарегистрировать спектры нового типа, не наблюдавшихся ранее в этой<br />
спектральной области [1-7].<br />
Наблюдаемые ―необычные‖ спектры отличаются наличием сложной<br />
спектральной структуры квазинепрерывного характера, в которую погружаются<br />
основные линии. В настоящей работе дан обзор наблюдений такого нового типа<br />
эмиссионных спектров, полученных для различных мишеней (твердотельные Si<br />
и Mg, кластеры N и Ar) и параметров лазерного импульса. Показано, что эти<br />
спектры связаны с радиационными переходами в многозарядных полых ионах<br />
которые являются многозарядными ионами с пустой внутренней K-оболочкой<br />
(KK-полые ионы ) или с вакансиями в K- и L-оболочках (KL- полые ионы).<br />
Эксперименты с аргоновыми кластерами были выполнены с JAEA<br />
(Киото, Япония). Использовался титан-сапфировый лазер, позволяющий<br />
генерировать импульсы длительностью до 20 фс при плотности потока до 10 20<br />
Вт/см 2 [8]. В нашей работе был использован 30-фс импульс с энергией 360 мДж.<br />
Применение одной или двух ячеек Поккельса позволяло получать лазерный<br />
131
импульс с контрастами 5x10 -4 или 4.6x10 -6 . Эксперименты были выполнены с<br />
различными лазерными энергиями (49 - 115 мДж), и в широком диапазоне<br />
длительностей лазерного импульса (от 30 фс до 1 пс), что соответствовало<br />
потокам от 6x10 16 до 2x10 18 Вт/см 2 .<br />
Кластерная мишень создавалась при расширении порции аргона<br />
начального давления 60 атм в вакуум через специальное импульсное 3-х<br />
ступенчатое сопло, позволявшее получать кластеры со средним диаметром<br />
около 1.5 мкм. Столь большие кластеры использовались для того, чтобы<br />
минимизировать их разрушение лазерным предимпульсом [8,9]. Рентгеновские<br />
спектры с пространственным разрешением регистрировались спектрографом со<br />
сферически изогнутым кристаллом [10].<br />
Рис. 1. Сравнение теории (1) и эксперимента (2) для Ar-спектров в области<br />
4.1 – 4.2 Å.<br />
Детальные теоретические расчеты были сделаны с помощью<br />
кинетического кода ATOMIC [11], в котором были учтены конфигурации как<br />
КК-, так и KL- полых ионов. Было найдено [12], что наилучшее согласие с<br />
экспериментом дают расчеты, где электронная температура составляет 50 эВ,<br />
3% электронов <strong>плазмы</strong> являются горячими (энергия порядка 5 КэВ), а атомная<br />
плотность <strong>плазмы</strong> равна 10 22 см -3 (см. рис. 1). Расчеты показывают, что<br />
доминирующими линиями в области 4.17-4.18 Å являются переходы в F-<br />
подобных ионах, в области 4.14-4.16 Å наиболее интенсивными оказываются<br />
линии O-подобного аргона, хотя ряд особенностей обусловлен исключительно<br />
полыми ионами. В частности, расчеты показывают, что роль полых ионов<br />
132
наиболее важна в те моменты времени, когда плазма является сильно<br />
нестационарной. Из проведенных исследований следует, что в кластерной<br />
плазме роль полых ионов проявляется заметнее, когда фемтосекундный<br />
лазерный импульс взаимодействует с плотным холодным веществом, а не с<br />
преплазмой.<br />
В экспериментах [6], проведенных при использовании сравнительно<br />
низкоинтенсивного, но более коротковолнового эксимерного XeCl-лазера<br />
(энергия 2 Дж, длительность 12, поток 4x10 12 Вт/см 2 ), были зарегистрированы<br />
рентгеновские спектры магния в области между резонансными линиями Н- и<br />
Не- подобных ионов. Эти спектры (особенно около поверхности мишени)<br />
имеют квазинепрерывный характер. Мы предположили, что наблюдаемый<br />
квазинепрерывный спектр обусловлен переходами в полых ионах магния [6],<br />
однако проведенное ранее моделирование не позволяло учесть целый ряд<br />
возможных конфигураций в KK- и KL- полых ионах.<br />
Рис. 4. (1) – Спектр Mg-<strong>плазмы</strong>, рассчитанный по программе ATOMIC с<br />
учетом полых ионов, (2) – экспериментальный спектр [6].<br />
В настоящей работе выполнены новые расчеты по программе ATOMIC,<br />
использующие MUTA-приближение (смешанное приближение массивов<br />
неразрешаемых переходов). Это позволило добавить в расчет целый ряд важных<br />
конфигураций, сохранив время счета на разумном уровне. Как видно из<br />
результата, приведенного на рис. 2, новые расчеты подтвердили предположение<br />
о том, что наблюдаемый спектр обусловлен переходами в полых ионах<br />
(подчеркнем, что при пренебрежении учетом полых ионов никаких<br />
спектральных линий в интервале длин волн 8.55 - 9.15 Å не могло бы быть).<br />
133
В докладе обсуждается возможность использования спектров<br />
многозарядных полых ионов:<br />
1) для диагностики сверхплотной лазерной <strong>плазмы</strong>, создаваемой как<br />
лазерами оптического, так и рентгеновского диапазонов;<br />
2) для оценки интенсивности мощных пучков рентгеновских лазеров на<br />
свободных электронах.<br />
Работа поддержана грантами РФФИ 10-07-00227-а, 10-02-91174-ГФЕН_а,<br />
10-02-00345-а.<br />
Литература:<br />
1. McPherson A, Thompson B.D, Borisov A.B. et al. // Nature, 1994, т.370, с.631.<br />
2. Gauthier J.-C, Geindre J.-P, Audebert P. et al. // Phys. Rev. E., 1995, т.52, с.2963.<br />
3. Faenov A.Ya., Abdallah J. Jr., Clark R.E.H. et al. // Proceedings of SPIE-97, 1997,<br />
т.3157, с.10.<br />
4. Urnov A.M., Dubau J., Faenov A.Ya et al. // JETP Letters, 1998, т.67, с.489.<br />
5. Faenov A.Ya., Magunov A.I., Pikuz T.A. et al. // Physica Scripta, 1999, т.T80,<br />
с.536.<br />
6. Abdallah J. Jr., Skobelev I.Yu., Faenov A.Ya. et al // Quantum Electronics, 2000,<br />
т.30, с.694.<br />
7. Rosmej F.B., Faenov A. Ya., Pikuz T.A. et al. // J. Phys. B., 1999, т.32, с.L107.<br />
8. Boldarev A.S., Gasilov V.A., Faenov A.Ya. et al. // Rev. Sci. Instrum., 2006, т.77,<br />
с.083112.<br />
9. Faenov A.Y., Skobelev I.Y., Magunov A.I. et al. // Proc. SPIE, 2001, т.4504, с.121.<br />
10. Faenov A.Ya,. Pikuz S. A, Erko A. I. et al. // Physica Scripta, 1994, т.50, с.333.<br />
11. Magee N.H, Abdallah J.Jr., Colgan, et al. // 11th APS Topical Conference on<br />
Atomic Processes in Plasmas, (Eds: J. S. Cohen, S. Mazevet, and D. P. Kilcrease) AIP<br />
Conference Proceedings, Melville, New York, 2004, с.l68.<br />
12. Colgan J., Abdallah J, Jr., Faenov A.Ya. et al. // Laser and Particle Beam, 2008,<br />
т.26, с.83.<br />
134
ИМПУЛЬСНЫЙ БОЛОМЕТР В ИЗМЕРЕНИЯХ МЯГКОГО<br />
РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В СИЛЬНОТОЧНОМ Х-<br />
ПИНЧЕ.<br />
Ю.Л. Бакшаев, С.А. Данько, Е.Е. Соколов, К. В. Чукбар.<br />
Российский научный центр Курчатовский институт<br />
В инерциальных термоядерных исследованиях наряду с измерениями<br />
спектра мягкого рентгеновского излучения (МРИ) измеряется его полная<br />
энергия и мощность, для чего служат различные детекторы (вакуумные и<br />
полупроводниковые диоды). Их общим недостатком является, как ни странно,<br />
высокая чувствительность. Важным дополнением к этим приборам служат<br />
болометры. С их помощью можно независимо измерить энергию РИ в области<br />
мягких квантов и провести абсолютную калибровку других детекторов.<br />
Основной компонент болометра - очень тонкая металлическая фольга. От<br />
излучения она нагревается и еѐ сопротивление растет. По ходу сопротивления<br />
болометра во времени определяется энергия излучения. В ряде работ описано<br />
применение таких болометров на мощных импульсных установках [1], [2], [3],<br />
[4], [5].<br />
В работе [6] для оценки времени прогрева фольг было использовано<br />
фундаментальное решение уравнения теплопроводности, приведенное в работе<br />
[7] для случая стержня бесконечной длины. В данной работе на основе<br />
уравнения теплопроводности для «стержня» ограниченной длины приведены<br />
соотношения для временного разрешения болометра на алюминиевой фольге и<br />
предельных тепловых нагрузок на датчик. При выборе 10%-ной погрешности<br />
установления температурного равновесия, т.е. �T � 0.1T�,<br />
получается оценка по<br />
времени t > 0.375d 2 / Коэффициент температуропроводности<br />
алюминия см 2 /с. Для толщины фольги d1=2 мкм время установления<br />
равновесной температуры (с погрешностью 10%) составит t1=19 нс. Для<br />
толщины d2 = 8 мкм – t2=300 нс. При создании болометра требуется расчет<br />
предельной мощности излучения, падающей на его поверхность. Чем быстрее<br />
135
прогревается материал датчика, тем меньше вероятность кипения<br />
поверхностного слоя. Благодаря высокой температуропроводности алюминия и<br />
конечной длительности импульса РИ, тепло во время излучения успевает<br />
распространиться на значительную толщину. Поэтому для определения<br />
максимальных температур, достигаемых фольгой, необходим учѐт времени<br />
импульса излучения � , а глубиной энерговыделения можно пренебречь. В<br />
рамках выполнения неравенства<br />
2<br />
d �� �� получаем зависимость предельной<br />
энергии и интенсивности излучения от длительности прямоугольного импульса<br />
РИ для фольги из Al толщиной 2 мкм и площадью s=0.3 см 2 , доводя<br />
максимальную температуру до Тмах=2100 o С (Ткип=2330 o С).<br />
Рис.1. Зависимость предельной энергии (слева) и интенсивности<br />
излучения (справа) от длительности импульса для алюминиевой фольги<br />
толщиной 2 мкм и площадью 0.3 см 2 .<br />
Расчет предельных нагрузок проводился по формуле Tmax � 2 dT / ��� с<br />
учетом отношения выбранной предельной температуры к Tmax для полной<br />
энергии источника в 1 кДж.<br />
Для измерения скачка сопротивления датчика под действием нагрева<br />
излучением использовалась электрическая схема, подобная описанной в работе<br />
[1]. На рис. 2 приведена схема LCR контура, в цепь которого был включен<br />
образец с алюминиевой фольгой. Два конденсатора общей емкостью C=0.1 мкФ,<br />
были подключены через разрядник типа РУ-62 к индуктивности L=40 мкГ (2.5<br />
Ом) и резисторам R1 и R2 величиной 1 Ом. Волновое сопротивление контура 20<br />
Ом. Последовательно с резисторами был включен измерительный элемент<br />
болометра. Ток в контуре измерялся поясом Роговского в режиме<br />
трансформатора тока (LR).<br />
136<br />
�
Рис.2. Блок- схема измерений электрических сигналов.<br />
С учетом декремента затухания ток в первом максимуме должен<br />
составить ~90 А. Следует отметить совпадение сигналов в ряде<br />
последовательных пусков, что говорит о стабильности условий измерений.<br />
Болометр с алюминиевой фольгой толщиной 2 или 8 мкм, располагался<br />
на расстоянии 45 см от источника при токах через нагрузку 1.5-1.7 МА.<br />
Измерения проводились с открытым болометром, а также с фильтрами из<br />
лавсана толщиной 2.5 мкм или 12 мкм с напыленным слоем алюминия<br />
толщиной 0.05 мкм. В качестве примера на рис. 3 приведены два сигнала<br />
напряжения на фольге толщиной 8 мкм с источником РИ и без него.<br />
Рис. 3. Контрольный (1) и рабочий (2) сигналы напряжения на<br />
болометре. Нагрузка: 24 проволочки из нихрома диаметром 55 мкм, ток – 1.6<br />
МА, напряжение – 0.35 МВ, энергия источника МРИ -5.8 кДж.<br />
Энергия источника составила в данном пуске 5.8 кДж. Важный вывод<br />
можно сделать на основании того, что при работе с фильтрами из майлара,<br />
закрывавшими прорезь в крышке датчика, приращения сигнала напряжения с<br />
болометра не наблюдалось при обеих толщинах фольги. Следовательно,<br />
основная доля энергии МРИ заключена в диапазоне до 1 кэВ.<br />
137
Описанная конструкция болометра с высоким разрешением на основе<br />
алюминиевых фольг толщиной 2 и 8 мкм и схема измерений достаточно просты<br />
и могут быть воспроизведены без существенных затрат, обеспечив измерения<br />
энергии в малоисследованном рентгеновском диапазоне до 1 кэВ. На генераторе<br />
С-300 проведены интегральные измерения энергии МРИ в интервале энергий<br />
квантов до 1 кэВ с помощью болометра с временным разрешением.<br />
Динамический диапазон регистрации энергии составлял 1-10 кДж. Основная<br />
доля энергии МРИ заключена в диапазоне до 1 кэВ. Приведены простые<br />
соотношения для временного разрешения прибора и предельных тепловых<br />
нагрузок на фольгу, что может быть весьма полезно для других типов<br />
болометров в экспериментах на других установках.<br />
Литература.<br />
1. J.H. Degnan. Fast, large-signal, free-standing foil bolometer for measuring ultrasoft<br />
x-ray burst fluence. Rev. Sci. Instrum. 50, pp.1223-1226, 1979.<br />
2. R. B. Spielman, C. Deeney, D. L. Fehl, et al. Fast resistive bolometry. Rev. Sci.<br />
Instrum. 70, pp. 651-655, 1999.<br />
3. Daniel B. Sinars. 1MA X-pinch experiments at Cornell University, Wire Array<br />
Workshop, Battle, UK, 2007. Sandia (unpublished).<br />
4. С.А. Сорокин, С. А. Чайковский. Измерение мощности и спектрального<br />
распределения излучения плазменных лайнеров. ЖТФ, 70, стр. 78-81, 2000.<br />
5. Г.С. Волков, Н.И. Лахтюшко, О.В. Терентьев. Фольговый радиационный<br />
болометр для измерения энергетических потерь <strong>плазмы</strong> быстрых Z-пинчей.<br />
Тезисы докладов 37 Международной (Звенигородской) конференции по физике<br />
<strong>плазмы</strong> и УТС. Стр. 161, 2010.<br />
6. Ю.Л. Бакшаев, С.А.Данько, Е.Е.Соколов, Импульсный болометр для<br />
измерения энергии рентгеновского излучения. Препринт ИАЭ, 2010.<br />
7. А.Н. Тихонов и А.А. Самарский. Уравнения математической физики.<br />
«ГИТТЛ», Москва, Ленинград (1951). Гл. 3, стр. 216.<br />
8. С.А. Пикуз. Докторская диссертация, гл. 5, 2007.<br />
138
ИЗУЧЕНИЕ СПЕКТРАЛЬНОГО СОСТАВА ИЗЛУЧЕНИЯ<br />
НИЗКОИНДУКТИВНОЙ ВАКУУМНОЙ ИСКРЫ<br />
Д.Л.Кирко, А.С.Савелов, Э.И.Додулад<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
Низкоиндуктивная вакуумная искра исследуется ввиду моделирования<br />
пинчевых процессов, присущих термоядерным установкам. Вместе с тем,<br />
плазма искры является мощным источником электромагнитного излучения в<br />
широком диапазоне спектра. В данной работе исследовались излучательные<br />
характеристики наиболее важных плазменных областей с целью проведения<br />
спектральных исследований [1].<br />
Электродная система вакуумной искры содержит медный анод (диаметр<br />
3 мм) и катод из нержавеющей стали (диаметр 20 мм) цилиндрической формы,<br />
при расстоянии между электродами 5 мм. Рабочее давление в камере составляло<br />
10 -5 -10 -6 Торр, а на электроды подавалось напряжение 5-15 кВ. Срабатывание<br />
устройства происходило при включении тригерного поджига. Плазма разряда<br />
образовывалась во время эрозии электродов при токе 100-150 кА и периоде<br />
разряда 8 мкс.<br />
Плазма вакуумной искры состоит из сильно сжатой центральной<br />
пинчевой области и периферийной разреженной области - оболочки.<br />
Образование микропинчей наблюдается в непосредственной близости к аноду.<br />
Согласно лазерным измерениям, выполненным с помощью азотного лазера<br />
(�=337 нм) диапазон концентрации пинчевой области составляет ne=10 17 -10 18<br />
см -3 [2]. Спектральный состав излучения этой области содержит рентгеновские<br />
линии К-оболочек меди и железа.<br />
Излучение вакуумной искры в видимой и ультрафиолетовой областях<br />
регистрировалось с помощью спектрометра Avantes (рабочий диапазон 200-1000<br />
нм, спектральное разрешение 0,3 нм). Характерный вид спектра излучения<br />
искры представлен на рис. (напряжение 10 кВ). В спектре содержатся<br />
интенсивные водородные линии H� 434 нм, H� 656 нм, и линии металлов Cu I<br />
276 нм, 521 нм; Fe I 300 нм, 382 нм, входящих в состав электродов. В<br />
139
излучении также присутствуют однократные и двукратные ионы, как, например,<br />
O II 253 нм, N III 286 нм, и достаточно сильный непрерывный спектр.<br />
I, отн.ед.<br />
70000<br />
60000<br />
50000<br />
40000<br />
30000<br />
20000<br />
10000<br />
Cu I<br />
O II N III<br />
Fe I<br />
Fe I<br />
H γ<br />
N I<br />
Cu I<br />
C I<br />
0<br />
200 300 400 500 600 700 800 900 1000<br />
�, нм<br />
H α<br />
Ввиду наличия непрерывного спектра допускалось, что плазма оболочки<br />
(периферийной области) находится в состоянии локального термического<br />
равновесия. С помощью метода относительных интенсивностей спектральных<br />
линий по водородным линиям H� и H� была рассчитана температура <strong>плазмы</strong>,<br />
которая принимает величину в диапазоне Т=8000-10000 К в зависимости от<br />
режимов установки. Ряд спектральных линий имеют значительное уширение в<br />
диапазоне 2,0-10,0 нм. В предположении существования микрополей в плазме<br />
по штарковскому уширению водородных линий H� и H� был рассчитан<br />
диапазон концентрации <strong>плазмы</strong> ne = (1-6)�10 16 см -3 , который реализуется при<br />
различных параметрах установки. Непрерывная составляющая спектра была<br />
аппроксимирована планковским распределением с температурой T�9700 К, что<br />
находится в диапазоне температур, который был получен с помощью<br />
водородных линий.<br />
В ходе данного исследования было показано, что рассмотренные<br />
спектральные методы являются достаточно эффективными для диагностики<br />
разреженной периферийной <strong>плазмы</strong> низкоиндуктивной вакуумной искры.<br />
Литература:<br />
1. Диагностика <strong>плазмы</strong>. Ред. Р.Хаддлсоун, С.Леонард. М.: Мир, 1967. 515 с.<br />
2. Савелов А.С., Вовченко Е.Д., Сивко П.А. Лазерный комплекс для<br />
исследования плотной импульсной <strong>плазмы</strong>. II Рос. семин. Соврем. средства<br />
диагн. <strong>плазмы</strong>. М.: НИЯУ «МИФИ», 2000, с.46-48.<br />
140
МЕТОДИКА РЕГИСТРАЦИИ РЕНТГЕНОВСКИХ<br />
ОБСКУРОГРАММ МИКРОПИНЧЕВОГО РАЗРЯДА С<br />
ПОМОЩЬЮ ПЗС КАМЕРЫ<br />
О.А. Башутин, Е.Д. Вовченко, Э.И Додулад, С.А. Саранцев<br />
Национальный исследовательский ядерный университет МИФИ<br />
Разряд типа низкоиндуктивная вакуумная искра (НВИ) является<br />
интенсивным источником рентгеновского излучения. Для получения<br />
изображения межэлектродного промежутка применяются камеры-обскуры.<br />
Регистрирующим элементом камеры-обскуры может быть рентгеновская<br />
фотопленка или другой двухкоординатный детектор на основе МКП.<br />
Основными недостатками фотопленки являются длительность ее проявки и, как<br />
следствие, невозможность контролировать результаты эксперимента в процессе<br />
его проведения, а также влияние условий проявки пленки на качество<br />
получаемого изображения. Поэтому практический интерес представляет<br />
создание относительно простой, недорогой методики регистрации изображения<br />
быстропротекающих плазменных процессов, позволяющей наблюдать<br />
результаты в режиме реального времени.[1]<br />
На установке «Зона-2» кафедры физики <strong>плазмы</strong> НИЯУ МИФИ<br />
отработана методика получения изображений разряда типа НВИ, позволяющая<br />
делать предварительный анализ экспериментальных данных непосредственно во<br />
время эксперимента. Схема эксперимента представлена на рис.1.<br />
Рис. 1 Схема эксперимента<br />
141<br />
На одном из фланцев<br />
вакуумной камеры (ВК)<br />
установки, закрытом<br />
бериллиевой фольгой,<br />
прозрачной для<br />
рентгеновского излучения<br />
была установлена камера-<br />
обскура. Обскурограммы регистрировались с помощью рентгеновского экрана<br />
типа «УС»(Э) и расположенного после него электронно-оптического
преобразователя(ЭОП). На экране электронно-оптического преобразователя<br />
получалось изображение разряда в видимом свете, которое регистрировалось<br />
камерой «Видеоскан»(К), подключенной к персональному компьютеру(ПК).<br />
Управление камерой осуществлялось с помощью компьютера, значение<br />
выдержки, а также чувствительность и разрешение устанавливались<br />
программно. Это позволило получить изображение с необходимой яркостью и<br />
пространственным разрешением. Одновременно с помощью рентгеновского p-i-<br />
n-диода(Д) регистрировалась временная динамика излучения разряда. Ток<br />
разряда регистрировался с помощью пояса Роговского.<br />
Площадь экрана электронно-оптического преобразователя позволяла<br />
одновременно регистрировать несколько обскурограмм. В эксперименте<br />
камера-обскура представляла собой ряд из трех одинаковых отверстий,<br />
закрытых алюминиевыми фильтрами различной толщины(центральное<br />
отверстие без фильтра, 220мкм на левом и 450мкм на правом отверстии). На<br />
полученных изображениях разряда(рис.2) заметны до трех плазменных точек,<br />
видимых даже сквозь наиболее толстый фильтр. На сигналах p-i-n-диода видны<br />
пики рентгеновского излучения, время их регистрации соответствует времени<br />
формирования плазменных точек.<br />
Рис.2. Изображение разряда и сигналы пояса Роговского и p-i-n-диода.<br />
При подаче на ЭОП импульса напряжения с заданной задержкой<br />
относительно начала разряда и заданной длительности, эта методика позволит<br />
получать изображения межэлектродного промежутка в различные временные<br />
интервалы.<br />
С помощью данной методики было исследовано испускание<br />
рентгеновского излучения различными областями разряда. Она позволила<br />
сохранять данные непосредственно в электронном виде, делать<br />
142
предварительный анализ экспериментальных данных в режиме реального<br />
времени и вносить корректировки в ход эксперимента. Все это, а также<br />
относительная дешевизна и простота использованного оборудования<br />
существенно уменьшило стоимость и время проведения работ, повысило<br />
качество проводимых экспериментов.<br />
Доклад подготовлен при проведении научно-исследовательской работы в<br />
рамках реализации ФЦП «Научные и научно-педагогические кадры<br />
инновационной России» на 2009 – 2013 годы.<br />
Литература<br />
1. А.Е.Гурей, А.Н.Долгов, Д.Е.Прохорович, А.С.Савѐлов, А.А.Тихомиров<br />
Корреляция параметров ионной эмиссии и рентгеновского излучения из<br />
<strong>плазмы</strong> микропинчевого разряда // Физика <strong>плазмы</strong>, 2004, т.30, № 1, с.41-<br />
46.<br />
143
ИССЛЕДОВАНИЕ ПЛАЗМЕННОЙ РАЗРЯДНОЙ СИСТЕМЫ С<br />
ПОЛЫМ КАТОДОМ И ИНЕРЦИОННО-<br />
ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКИМ УДЕРЖАНИЕМ ИОНОВ<br />
Е.Д.Вовченко, К.И.Козловский, А.В.Самарин, А.С.Цыбин, А.Е.Шиканов<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
Представляются первые экспериментальные результаты исследования<br />
плазменной разрядной системы, электроды которой выполнены в виде<br />
аксиально-симметричного диода с двухдисковым полым катодом и внешним<br />
цилиндрическим анодом (рис. 1). Разработка такого устройства, при<br />
дейтериевом газовом наполнении разрядной камеры, предполагает<br />
осуществление ядерных реакций d-d в режиме инерционно-электростатического<br />
удержания ионов с целью создания компактного нейтронного источника.<br />
Оценки, выполненные на основе расчетно-теоретической модели плазменного<br />
IEC-диода [1] показали, что эффективное удержание ионов возможно как в<br />
квазистационарном высоковольтном разряде при длительности возбуждения<br />
Ти ~ 100мкс, так и при комбинированном возбуждении с предварительной<br />
ионизацией разрядного промежутка.<br />
Рис. 1<br />
144<br />
Исследования режимов работы<br />
плазменного IEC-диода выполнены на<br />
водородной плазме. Для создания<br />
предварительной ионизации применен<br />
вспомогательный слаботочный разряд<br />
постоянного тока, который зажигался<br />
при напряжении между электродами<br />
~ 1 кВ в области давлений 10 −2 ÷3 Тор.<br />
Для ускорения ионов внутри полого<br />
катода к электродам дополнительно<br />
прикладывались импульсы высокого<br />
напряжения с амплитудой до 100 кВ<br />
при длительности ~ 2 мкс.
При выборе средств диагностики, кроме электрических измерений,<br />
основное внимание сосредоточено на бесконтактных оптических методах<br />
исследования. Приводятся результаты, полученные при различных режимах<br />
возбуждения и остаточных давлениях водорода в вакуумной камере: токи,<br />
измеренные в системе; пространственная структура интегрального свечения<br />
разрядного промежутка и спектры в видимом диапазоне. В качестве примера на<br />
рис.2 представлены осциллограммы, иллюстрирующие увеличение разрядного<br />
тока и подавление высокочастотных осцилляций при наличии предионизации.<br />
0,9∙10 −1 торр, без предионизации<br />
а) ток разряда (верхний луч; 5В/дел)<br />
и напряжение ГИН (нижний луч;<br />
1В/дел); развертка 0,4 мкс/дел<br />
145<br />
0,9∙10 −1 торр, с предионизацией<br />
б) ток разряда (верхний луч; 5В/дел)<br />
и напряжение ГИН (нижний луч;<br />
0,5В/дел); развертка 0,4 мкс/дел<br />
Рис.2<br />
Обсуждаются фотографии электронных лучей, формирующихся в<br />
центральной области разрядного промежутка. Данный режим должен<br />
обеспечить существенное увеличение тока ускоренных ионов и повышение<br />
эффективности d-d реакции в дейтериевой плазме. Для систем с инерционно-<br />
электростатическим удержанием дейтронов это приведет к соответствующему<br />
увеличению потока генерируемых нейтронов.<br />
Литература:<br />
1. Кузнецов А.Ю., Цыбин А.С., Шиканов А.Е. Модель формирования<br />
дейтонных потоков и генерации нейтронов в плазменном аксиальном<br />
диоде с инерциальным удержанием ионов// Известия ВУЗов. Физика. –<br />
2010. – Т.53 - №4. – С.50-56.
ДИАГНОСТИКА ПЛАЗМЫ В КОАКСИАЛЬНОМ УСКОРИТЕЛЕ И<br />
ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ ИМПУЛЬСНЫМ ПОТОКОМ<br />
А.М.Жукешов, А.У.Амренова, А.Т.Габдуллина, Т.Е.Нурланбаев<br />
НИИ Экспериментальной и теоретической физики Казахского Национального<br />
университета им.аль – Фараби<br />
Коаксиальный ускоритель <strong>плазмы</strong> КПУ-30 состоит из разрядной камеры,<br />
внутри которой расположены коаксиальные электроды, блока конденсаторов,<br />
вакуумного разрядника, системы заземления и защиты. Электродная система<br />
изготовлена из медных цилиндров с фланцами, разделенными изолятором из<br />
оргстекла. Диаметр внешнего электрода 90 мм, внутреннего - 26 мм, длина<br />
внешнего и внутреннего электродов соответственно 450 мм и 400 мм.<br />
Накопительная система общей емкостью 69 мкФ состоит из 23 импульсных<br />
конденсаторов ИК-50-3.<br />
Диагностика <strong>плазмы</strong> на установке КПУ-30 проведена при сплошном<br />
наполнении рабочим газом (воздух). Для измерения тока в различных частях<br />
установки использовались пояса Роговского, напряжение на электродах<br />
измеряли резистивно-емкостным делителем, плотность энергии термопарными<br />
калориметрами. Измерения разрядного тока и напряжения проводили при<br />
различных начальных давлениях (0,05 - 5) Торр. Типичная осциллограммы тока<br />
и напряжения на центральном электроде (изначально анод) приведены на<br />
рисунке 1а.<br />
146<br />
v, сm/usec<br />
7<br />
6<br />
5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
1<br />
0<br />
0.05<br />
torr<br />
0.1<br />
torr<br />
Рисунок 1. Осциллограммы тока и напряжения (слева) и зависимость скорости<br />
потока от напряжения при различных давлениях (справа)<br />
0 5 10 15 20 25 30<br />
U, кV
В соответствии с рисунком, в начале разряда напряжение возрастает и<br />
становится больше прикладываемого, в этот момент на кривой тока<br />
наблюдается ряд осцилляций. Наличие быстро затухающих осцилляций в<br />
начале развертки можно объяснить отражением сигнала от концов кабеля, что<br />
характерно для таких измерений. Таким образом, в начальный момент<br />
наблюдается аномально высокое сопротивление <strong>плазмы</strong>.<br />
Вольтамперные характеристики разряда, полученные в диапазоне токов<br />
150-450 кА, остаются практически линейными, а значение тока слабо зависит от<br />
давления. Были приведены измерения скорости потока за срезом электродов в<br />
зависимости от напряжения при различном давлении (рисунок 1 б). Скорость<br />
потока за срезом электродов зависит степенным образом от напряжения, однако<br />
не зависит от давления. Эти факты свидетельствует о достаточно высокой<br />
степени ионизации <strong>плазмы</strong>. Далее изучена динамика токовых слоев и<br />
магнитного поля в КПУ-30. Осциллограммы от магнитных зондов, без<br />
использования интегратора, представлены на рисунке 2.<br />
0,05 Торр 1 Торр<br />
Рисунок 2. Осциллограммы производной магнитного поля<br />
При понижении давления зонд регистрирует высокочастотные колебания<br />
производной магнитного поля, что характеризирует наличие сильных<br />
осцилляций в плазме. Установлено, что колебания представляют собой<br />
широкополосный сигнал в диапазоне 2-10 МГц. Толщина токового слоя, по<br />
которому проходит разрядный ток, составила 4-5 см, независимо от давления.<br />
Средняя скорость потока составила 1,8 и 4,5 см/мкс при давлениях 1 и 0,05 Торр<br />
соответственно. Однако зависимость скорости потока от пройденного<br />
расстояния выглядит неординарно: если при высоком давлении скорость почти<br />
неизменна, то при низком давлении она падает с рассстоянием. Максимальная<br />
147
начальная скорость достигается в разные промежутки времени от начала<br />
разряда.<br />
Эксперименты с магнитными зондами показали, что в режиме<br />
«сплошного наполнения» картина распределения плотности <strong>плазмы</strong> в коаксиале<br />
изменяется при достижении критического значения плотности газа порядка 10 16<br />
см -3 , что соответствует 0,1 Торр, переходя из компактного характера в<br />
диффузный. Выше граничной плотности в канале ускорителя формируется<br />
плазменный поток с преимущественно аксиально-радиальным направлением<br />
линий тока, движущийся с постоянной скоростью около 3 см/мкс. В то же<br />
время, ниже этой плотности формируется поток с диффузным распределением<br />
тока, скорость которого в несколько раз выше.<br />
Таким образом, процессы в плазменном ускорителе соответствуют МГД<br />
модели лишь при начальных давлениях выше 0,5 Торр. При понижении<br />
давления меняется распределение тока в канале ускорителя, наблюдаются<br />
значительные осцилляции тока и напряжения, токи выноса и фокусировка,<br />
материал электродов появляется в плазме. Эти факты свидетельствуют о том,<br />
что динамика формирования <strong>плазмы</strong> в этом случае определяется в основном<br />
коллективными кинетическими процессами, в первую очередь<br />
приэлектродными явлениями и распределением электрического поля в<br />
окрестности электродов. Полученные данные, а также анализ работы других<br />
аналогичных устройств дают основания считать, что в этом случае плазму<br />
следует рассматривать как систему, склонную к самоорганизации и<br />
структурированию, благодаря ее внутренним свойствам. Динамические<br />
структуры, например двойные электрические слои, могут быть причиной<br />
возникновения колебаний разрядного тока и напряжения. В этом случае,<br />
механизм их ускорения определяется внутренним электрическим полем в<br />
плазме.<br />
Подробно исследовано воздействие плазменного потока на поверхность<br />
конструкционных сплавов на основе железа, с целью улучшения их физико-<br />
механических свойств. Показано, что после воздействия потоков <strong>плазмы</strong><br />
модифицируется структурно-фазовое состояние приповерхностного слоя этих<br />
материалов. Исходная структура углеродистой стали из Feα с ОЦК- решеткой<br />
преобразуется в двухфазный раствор феррит-аустенит. При воздействии на<br />
поверхность образцов углеродистой стали нескольких импульсов <strong>плазмы</strong> при<br />
148
Р=0,1 Торр. наблюдается дальнейшее увеличение интенсивности формирования<br />
γ-Fe и образование третьей фазы - мартенсита. Обработка n =30 импульсами<br />
приводит к образованию нитрида железа – Fe24N10. Методом атомно-силовой и<br />
электронной микроскопии были получены профиль поверхности образцов после<br />
плазменного воздействия (рисунок 3). На этих рисунках можно наблюдать<br />
столбчатое строение зерен, характерное при формировании мартенситной фазы.<br />
При этом, оценка размеров кристаллитов по АСМ и ЭРМ дает значения 20-30<br />
нанометров, что совпадает с оценками методом Шерерра.<br />
АСМ РЭМ<br />
Рисунок 3. Формирование наноразмерных кристаллитов в стали после<br />
воздействия потоков <strong>плазмы</strong><br />
В соответствии с приведенными экспериментами, условия импульсного<br />
плазменного воздействия, в частности вариация параметрами Q, Р и n,<br />
оказывает существенное влияние на структуру поверхности материалов. Это<br />
позволяет сделать вывод о том, что характер термических процессов при<br />
плазменной обработке инициирует фазовые преобразования, связанные со<br />
структурными перестройками. К примеру, при высоких давлениях (Р=0,1, 0,5<br />
Торр) действие ИПП на поверхность приводит к фазовому переходу ГЦК→ОЦК<br />
(реечно-двойниковая структура кристаллитов). В результате взаимодействия<br />
ионов плазмообразующего газа с атомами материала образуются как известные<br />
соединения, так и новые фазы, появление которых не предсказывается<br />
равновесными диаграммами состояния.<br />
Таким образом, исследование работы коаксиалов следует продолжать,<br />
так как по своим энергетическим возможностям это уникальные устройства для<br />
обработки поверхностного слоя материалов, а способность <strong>плазмы</strong> обтекать<br />
мишень является их существенным преимуществом.<br />
149
МЕХАНИЗМЫ ОБРАЗОВАНИЯ ВЫСОКОЭНЕРГЕТИЧНОГО<br />
РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ПЛАЗМЕ<br />
СИЛЬНОТОЧНОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО РАЗРЯДА.<br />
А.С. Савѐлов, Г.Х. Салахутдинов<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
Исследование спектров рентгеновского излучения <strong>плазмы</strong> в широком<br />
энергетическом диапазоне от 1 до 500 кэВ дает богатый материал для<br />
дальнейшего развития представлений о физических процессах, протекающих в<br />
плазменном объекте. В настоящее время существует несколько моделей<br />
физических процессов, протекающих в плазме сильноточного разряда. [1 – 3].<br />
Однако все существующие модели и экспериментальные работы оставили<br />
открытым важный вопрос: каково место кинетических эффектов и<br />
ускорительных процессов в физической картине образования <strong>плазмы</strong>,<br />
практически слабо исследованы механизмы генерации жесткого РИ. Для<br />
исследования данных вопросов был создать комплекс диагностической<br />
аппаратуры состоящий из многоканальных сцинтилляционных спектрометров<br />
импульсного рентгеновского излучения, спектрометров импульсного<br />
рентгеновского излучения на основе термолюминесцентных детекторов и<br />
ядерных эмульсий, спектрометра нейтронов, магнитного спектрометра<br />
электронов, камер-обскур и ряда стандартных приборов, таких, как пояс<br />
Роговского, пин-диода, вакуумного фотодиода, позволяющий в полном объеме<br />
провести исследования импульсного рентгеновского и корпускулярного<br />
излучения <strong>плазмы</strong> в процессе одного сильноточного разряда в различных<br />
режимах[4,5]. Эксперименты проводились на установках «плазменный фокус» и<br />
«низкоиндуктивная вакуумная искра». В установках низкоиндуктивная<br />
вакуумная искра с инициацией разряда от вспомогательных разрядных устройств<br />
эрозийного типа, рабочей средой разряда служили продукты эрозии материала<br />
электродов. Сила тока в разряде в экспериментах изменялась в пределах I � 30 –<br />
250 кА, период разряда T = 5 – 8,5 мкс. Установка «плазменный фокус» имела<br />
разрядную камеру с эллиптическими электродами мейзеровского типа и<br />
рассчитана на работу с разрядным током до 360 кА. Энергозапас конденсаторной<br />
батареи порядка 4 кДж[4,5].<br />
150
В ходе экспериментов на установке «низкоиндуктивная вакуумная<br />
искра» были получены интегральные по времени спектры РИ однократных<br />
сильноточных разрядов в режиме микропинчевания (рис.1), позволяющие<br />
связать наблюдаемые спектральные характеристики с физическими процессами,<br />
происходящими в плазме разряда. Исследования проводились в диапазоне<br />
энергий рентгеновских квантов 1,5÷500 кэВ. Различные участки спектра<br />
отвечают различным стадиям микропинчевого разряда (h� � � 1,5�15 кэВ –<br />
стадия формирования микропинча; h� � 15�85 кэВ – стадия развала<br />
микропинча; излучение с h� � 85 кэВ связано с развитием ускорительных<br />
процессов). Часть спектра в диапазоне энергий до 85 кэВ отличается высокой<br />
повторяемостью от импульса к импульсу и хорошо согласуется с моделью<br />
радиационного сжатия; в диапазоне h� � 85 кэВ спектр меняется случайным<br />
образом от разряда к разряду.<br />
Рис.1. Типичные спектры излучения Рис.2. Спектры быстрых электронов<br />
<strong>плазмы</strong> с электродами из железа, из <strong>плазмы</strong> железа при различных<br />
полученные при токе разряда 150 кА. значениях тока разряда:<br />
151<br />
1 – < 50кА; 2 – 150 кА<br />
Эксперименты по непосредственной регистрации электронов магнитным<br />
спектрометром (рис.2) с одновременным измерением спектра РИ (рис.1)<br />
показали, что высокоэнергетичная часть этих спектров (> 100 кэВ) коррелирует<br />
между собой. Наличие высокоэнергетичных электронов в спектре соответствует<br />
наличию высокоэнергетичного РИ (h� > 100 кэВ) в рентгеновском спектре, что<br />
указывает на наличие ускорительных процессов, приводящих к возникновению<br />
данного излучения. Как и рентгеновские спектры, спектры электронов имеют<br />
хорошую повторяемость в области энергий до 80 кэВ, далее спектр меняется<br />
случайным образом от разряда к разряду аналогично рентгеновскому спектру.
Непостоянство спектра определяется вероятностным характером протекания<br />
ускорительных процессов.<br />
Основным механизмом, приводящим к рождению высокоэнергетичных<br />
рентгеновских квантов h� > 85 кэВ, является возникновение электрических<br />
полей высокого напряжения (значительно больше чем на разрядных<br />
электродах). Данные электрические поля образуются в результате аномального<br />
роста омического сопротивления Rом плазменного столба, возникающего на<br />
стадии развала микропинча (в результате нарушения баланса энергопотери). По<br />
приведенным в работе [1] оценкам Rом достигает значения порядка 1 – 10 Ом.<br />
Из оценки, проведенной на основании измерения спектра рентгеновского<br />
излучения, данную величину можно оценить от 2 – 3 Ом.<br />
Полученные результаты не противоречат экспериментальным расчетам<br />
[3,6] и хорошо согласуются с теоретическими представлениями в процессах в<br />
плазме микропинчевого разряда.<br />
полученные в различных сериях измерений для камеры, заполнений аргоном Ar;<br />
дейтерием D (при различном выходе нейтронного излучения n1 = 10 6 , n2 = 10 7 )<br />
Приведены результаты исследования спектра импульсного РИ <strong>плазмы</strong> в<br />
диапазоне энергий квантов 1,5 кэВ � h� � 500 кэВ. Характер спектров РИ<br />
<strong>плазмы</strong>, получаемой на установке «Плазменный фокус», имеет большое<br />
сходство со спектром РИ <strong>плазмы</strong>, получаемой на установке типа<br />
низкоиндуктивной вакуумной искры, работающей в режиме микропинчевого<br />
разряда [4,5].<br />
Плазма, образованная в разрядной камере, заполненной Ar, обладает<br />
достаточно устойчивой картиной спектра РИ в отличие от <strong>плазмы</strong>,<br />
образованной в дейтерии. Вид спектра РИ в случае с дейтерием зависит от<br />
выхода нейтронного излучения. Чем выше абсолютный выход нейтронного<br />
излучения, тем интенсивней спектральная составляющая жесткого РИ с<br />
энергией h� � 100 кэВ.<br />
Рис.3. Типичные спектры излучения <strong>плазмы</strong> ПФ в диапазоне<br />
1,5 кэВ < h� < 500 кэВ<br />
152
Результаты одновременного измерения спектров РИ и выхода нейтронов<br />
на установках «плазменный фокус» позволили установить влияние<br />
ускорительных процессов на образование в плазме жесткого рентгеновского и<br />
нейтронного излучений и их взаимосвязь.<br />
Данный результат свидетельствует об ускорительной природе<br />
возникновения жесткого рентгеновского излучения вследствие быстрого роста<br />
аномального сопротивления <strong>плазмы</strong> за счет микротурбулентности. Пинч<br />
превращается в плазменный диод, на котором и происходят ускорительные<br />
процессы электронов и ионов. Ускоренный поток электронов вблизи анода<br />
испытывает аномальное поглощение, порождает мощный эффект нагревания<br />
<strong>плазмы</strong> до 2 – 3 кэВ и дает вспышку нейтронного излучения. Чем выше выход<br />
жесткого рентгеновского излучения, тем выше выход нейтронного излучения в<br />
ходе плазмофокусного разряда.<br />
Литература.<br />
1. Долгов А.Н., Вихрев В.В. // Физика <strong>плазмы</strong>. 2005. Т. 31. № 3 С. 290.<br />
2. Вихрев В.В., Иванов В.В., Кошелев К.Н. Формирование и развитие<br />
микропинчевой области в вакуумной искре // Физика <strong>плазмы</strong>. 1982. Т. 8.<br />
Вып. 6. С. 1211 – 1219.<br />
3. Веретенников В.А., Исаков А.И., Крохин О.Н., Семенов О.Г., Сидельников<br />
Ю.В. Временные характеристики рентгеновского излучения вакуумной искры.<br />
Препринт ФИАН № 59. 1983.<br />
4. Долгов А.Н., Савелов А.С., Салахутдинов Г.Х. Применение<br />
спектрометрического комплекса аппаратуры для рентгеновской диагностики<br />
<strong>плазмы</strong> импульсных установок // Прикладная физика. 2008. № 5. С. 103 – 107.<br />
5. М.В. Колтунов, Б.Д. Лемешко, А.С. Савелов, Г.Х. Салахутдинов, Д.И. Юрков,<br />
П.П. Сидоров // Прикладная физика. 2010. № 4 . С. 52– 56.<br />
6. Анциферов П.С., Вихрев В.В., Иванов В.В., Кошелев К.Н. Температура<br />
плазменных точек в вакуумно-искровых разрядах // Физика <strong>плазмы</strong>. 1990. Т. 16.<br />
Вып. 8. С. 1018 – 1023.<br />
153
СОВРЕМЕННЫЙ АТОМНО-ЭМИССИОННЫЙ<br />
СПЕКТРАЛЬНЫЙ АНАЛИЗ<br />
(КРАТКИЙ ОБЗОР К 150-ЛЕТИЮ МЕТОДА)<br />
С.Б. Заякина 1 , Г.Н. Аношин 1,2<br />
1 Институт геологии и минералогии им. акад. В.С.Соболева СО РАН,<br />
630090 Новосибирск, пр.Коптюга 3,<br />
2 Новосибирский государственный университет<br />
В 2009 году исполнилось 150 лет со дня открытия немецкими учеными<br />
Густавом Робертом Кирхгофом (12.III.1824-17.Х.1887) и Робертом Вильгельмом<br />
Бунзеном (31.III.1811-16.VIII.1899) оптического спектрального анализа, роль<br />
которого в различных областях науки и техники трудно переоценить.<br />
Г. Кирхгоф в своих работах на уровне знаний своего века рассмотрел<br />
основные теоретические вопросы оптического спектрального анализа. В<br />
практической же разработке нового метода большую роль сыграл Р. Бунзен,<br />
который был химиком экспериментатором высокого класса. По выражению<br />
Ю.А. Золотова и В.И. Вершинина [1, с. 128] «это был первый пример тесного<br />
сотрудничества физика и химика». В 1860 г. апрельском номере «Annalen der<br />
Physik und Chemie» была опубликована статья Г. Кирхгофа и Р. Бунзена<br />
«Химический анализ по спектру», которая фактически знаменовала рождение<br />
нового, принципиально отличного метода химического анализа. В основе<br />
нового метода лежало изучение спектров излучения пламени. Этот метод<br />
оказался очень чувствительным и специфичным, что позволило этим ученым<br />
сразу же открыть новые химические элементы – рубидий и цезий (1861, Р.<br />
Бунзен, Г. Кирхгоф), относящихся к группе щелочных металлов. Фактически<br />
это открытие являлось созданием новой и особой главы химии и физики –<br />
обнаружение новых химических элементов спектроскопическим методом.<br />
Следующими элементами, в открытии которых важную роль сыграл<br />
спектроскопический метод, были таллий (1861, В. Крукс,), индий (1863, Ф.<br />
Рейх, Т. Рихтер), галлий (1875, П. Лекок де Буабодран); а также благородные<br />
154
газы: гелий (1868, Дж. Н. Локьер, Ж. Жансен), аргон (1894, Д. Рэлей, У. Рамзай),<br />
неон, криптон и ксенон (1898, У. Рамзай, М. Траверс).<br />
Количественный спектральный анализ начал развиваться только в ХХ в.<br />
Одним из первых крупных ученых, практически применивших метод<br />
спектрального анализа, был наш выдающийся соотечественник академик В.И.<br />
Вернадский, который в 1909 г. привез в Россию первый спектрограф и<br />
применил этот метод для качественного обнаружения лития, рубидия, цезия,<br />
галлия в алюмосиликатах и других геологических объектах. По выражению<br />
В.И. Вернадского [2], открытие спектрального анализа явилось для геохимии и<br />
для естественных наук своеобразной вехой в развитии, поскольку спектральный<br />
анализ «доказал химическое единство Вселенной» и который «ясно и<br />
определенно подтвердил нахождение химических элементов в рассеянии,<br />
равномерном проникновении ими всей земной материи».<br />
Роль атомно-эмиссионного спектрального анализа в различных областях<br />
науки и техники, в том числе в химии, физике, науках о Земле трудно<br />
переоценить, поскольку на протяжении всех прошедших лет до настоящего<br />
времени, непрерывно развиваясь, находится в числе самых ведущих<br />
аналитических методов в аналитической химии. По богатству и надежности<br />
одновременно получаемой информации спектральный анализ не имеет себе<br />
равных. Особенно эффективно применение этого метода в геологии и<br />
геохимических исследованиях, так как подвергающийся исследованию<br />
материал отличается большим разнообразием и о составе анализируемых проб<br />
часто не имеется никаких предварительных данных.<br />
Надо отметить, что атомно-эмиссионный спектральный анализ долгие годы<br />
в различных его модификациях был ведущим аналитическим методом лабораторий<br />
Геологической службы СССР. По некоторым данным аналитическими службами<br />
МинГЕО СССР ежегодно анализировались десятки миллионов проб на многие<br />
элементы. Фактор многоэлементности является одним из ведущих при анализе<br />
геолого-геохимических проб. Отметим, что данные пробы во многом отражают<br />
состояние различных объектов окружающей среды изучаемых регионов.<br />
С развитием геохимических исследований основная задача геоаналитиков<br />
и экологов сводится к разработке методик спектрального анализа,<br />
обеспечивающих высокую производительность, требуемую точность при<br />
155
одновременном определении большого числа элементов в пробах переменного<br />
состава с пределами обнаружения на уровне кларковых концентраций.<br />
Современные спектральные приборы, применяющие индуктивно-<br />
связанную плазму (ICP): в атомно-эмиссионном спектральном анализе (ICP-<br />
AES) и масс-спектрометрии (ICP-MS), используют растворы, имеющие<br />
определенные ограничения по концентрации. Для целей геохимии и<br />
исследований, связанных с различными проблемами окружающей среды,<br />
значительный интерес вызывают установки, позволяющие проводить<br />
элементный анализ непосредственно в твердой фазе. В практике спектрального<br />
анализа твердых проб используется традиционная дуга постоянного или<br />
переменного тока, а также получили распространение дуговые плазмотроны[3],<br />
в плазменный факел которых вдувается измельченная проба.<br />
Развитие приборной базы атомно-эмиссионного спектрального анализа,<br />
применение новых источников возбуждения спектров, внедрение<br />
компьютеризации всего процесса анализа и обработки результатов позволяют<br />
быстро и надежно решать большинство задач[4], поставленных перед<br />
геохимиками и экологами.<br />
Литература:<br />
1. Золотов Ю. А., Вершинин В.И. История и методология аналитической<br />
химии. ─ М.: Изд. центр «Академия»,2007. ─ 464с.<br />
2. Вернадский В.И. Материалы для спектроскопии земной коры. //Избранные<br />
сочинения. Т. II.─М.: Изд-во АН СССР, 1954.─ С.486 – 505.<br />
3. Жуков М.Ф., Тимошевский А.Н.. Ващенко С.П. и др. Плазмотроны.<br />
Исследования. Проблемы. ─Новосибирск: изд-во СО РАН, 1995. ─203 с.<br />
4. Заякина C. Б.,. Аношин Г.Н, Митькин В.Н., Миронов А.Г. Возможности<br />
новой универсальной установки для атомно-эмиссионного анализа<br />
дисперсных природных и технологических проб //Заводская лаборатория.<br />
Диагностика материалов. ─2007. ─Т.71 ─ Специальный выпуск ─ С.73-79<br />
156
АНАЛИЗ ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИХ МОДЕЛЕЙ СКОРОСТИ<br />
РОСТА ПЛЕНОК a � Si : H В СИЛАНОВЫХ ПЛАЗМЕННЫХ<br />
СМЕСЯХ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ<br />
С.П. Тимошенков 1 , Е.П. Прокопьев 2 , Н.М.Зарянкин 1 , А.С. Тимошенков 1 ,<br />
И.М.Бритков 1 , О.М Бритков 1 ;С.С. Евстафьев 1 , А.И. Виноградов 1<br />
1. Московский Государственный Институт Электронной техники (технический<br />
университет) (МИЭТ)<br />
2. ФГУП ГНЦ Институт теоретической и Экспериментальной Физики им.<br />
А.И.Алиханова (ИТЭФ)<br />
В работе [1] в рамках гидродинамической модели течения газовой смеси<br />
вблизи критической точки в диодной ячейке реактора [2] предложены<br />
одномерные модели роста аморфных пленок a � Si : H на различных подложках<br />
в условиях высокочастотного (ВЧ) тлеющего разряда в силановых плазменных<br />
смесях пониженного давления, например, SiH 4 � H2<br />
и SiH 4 � He.<br />
Принималось, что рост пленок обусловлен массопереносом SiH 2 и SiH 3<br />
радикалов к растущей поверхности. Ниже на качественном уровне дается<br />
анализ этих математических моделей процессов.<br />
Модель конфигурации течения газовой смеси вблизи критической точки<br />
Согласно работе [1], скорость роста V p в этом случае определяется<br />
выражением<br />
V<br />
p<br />
8 PP0T<br />
� 4,<br />
55�10<br />
760RT<br />
S<br />
2<br />
0<br />
0<br />
DRP<br />
1<br />
P 2<br />
5 � QinTinh<br />
�<br />
8 �<br />
�<br />
31,<br />
5ST<br />
�<br />
�<br />
� � S �<br />
157<br />
1<br />
/ 2<br />
C � ne<br />
���v<br />
�<br />
xc<br />
Qin<br />
TS<br />
CP0<br />
�1<br />
60S<br />
T h<br />
В формуле (10) параметр модели C � 5,<br />
2�10<br />
. В этом случае<br />
зависимости p V от X n даются следующими выражениями.<br />
1) Зависимость скорости роста p V от содержания силана x c в газовой смеси<br />
при остальных «закрепленных» параметрах имеет вид<br />
xc<br />
V ( x ) � A x � 2,<br />
14x<br />
(2)<br />
p<br />
c<br />
M<br />
c<br />
c<br />
in<br />
�3<br />
2) Зависимость V p от вложенной в силановую плазму мощности W ВЧ<br />
тлеющего разряда имеет вид<br />
W<br />
�2<br />
V ( W)<br />
� A W � 0,<br />
54�10<br />
W<br />
(3)<br />
p<br />
3) Зависимость V p от P есть в этом случае<br />
M<br />
P<br />
V ( P)<br />
� A P � 0,<br />
214 � P<br />
(4)<br />
p<br />
M<br />
4) Зависимость p V от температуры поверхности подложки T S дается<br />
формулой<br />
1/<br />
2<br />
T TS<br />
T<br />
S<br />
�2<br />
S<br />
Vp<br />
( TS<br />
) � AM<br />
� 3,<br />
7�10<br />
(5)<br />
�3<br />
1�<br />
a T 1�<br />
5,<br />
65�10<br />
T<br />
TS<br />
S<br />
S<br />
(1)
5) Зависимость V p от температуры газовой смеси на входе в диодную<br />
V<br />
ячейку T in имеет вид<br />
T<br />
T<br />
� (6)<br />
T<br />
3/<br />
2<br />
p ( Tin)<br />
Tin<br />
AM<br />
in<br />
1�<br />
aT<br />
T in in<br />
�5<br />
in<br />
� 5,<br />
65 �10<br />
�3<br />
1�<br />
1,<br />
17 �10<br />
6) Зависимость p V от объемной скорости потока газовой смеси Q in дается<br />
выражением<br />
Q<br />
Q<br />
V � (7)<br />
Q<br />
1/<br />
2<br />
1/<br />
2<br />
p ( Qin<br />
)<br />
Qin<br />
in AM<br />
1�<br />
aT<br />
T in in<br />
in<br />
� 0,<br />
118<br />
�2<br />
1�<br />
5,<br />
7�10<br />
7) Зависимость V p от расстояния между электродами h есть<br />
V<br />
1/<br />
2<br />
1/<br />
2<br />
h h<br />
h<br />
h)<br />
� AM<br />
� 0,<br />
3<br />
(8)<br />
1�<br />
a h 1�<br />
6,<br />
75 �10<br />
h<br />
p ( �2<br />
h<br />
8) Зависимость V p от общей поверхности отверстий в катоде S имеет вид<br />
1/<br />
2<br />
1/<br />
2<br />
S S<br />
S<br />
Vp<br />
( S)<br />
� AM<br />
�1,<br />
11<br />
(9)<br />
�2<br />
1�<br />
aS<br />
S 1�<br />
0,<br />
95�10<br />
S<br />
4. Сравнение расчетных данных с экспериментом. Заключение<br />
Сравнение графических зависимостей p V от X n вида (2)-(9) с<br />
экспериментальными зависимостями p V от X n [1] показало, что эти<br />
зависимости как количественным, так и качественным образом,<br />
удовлетворительно согласуются между собой. Это позволяет сделать<br />
заключение о реальном характере предлагаемых моделей пограничного слоя<br />
Неймана-Зауэра течения газовой смеси вблизи критической точки. В связи с<br />
этим в дальнейшем следовало бы провести более подробные<br />
экспериментальные исследования зависимостей p V от X n именно вида (2)-(9).<br />
Однако наибольший интерес представляет выяснение влияния того или<br />
иного параметра процесса на скорость роста и требования стабилизации<br />
технологических параметров, позволяющие оптимизировать процесс роста<br />
пленок � � Si : H . Действительно, при изготовлении солнечных элементов на<br />
основе пленок � � Si : H предъявляются довольно жесткие требования к их<br />
однородности. Для этого необходимо стабилизировать технологические<br />
параметры и основные характеристики диодной ячейки реактора в процессе<br />
эксплуатации. В этой связи представляет большой интерес изучение<br />
чувствительностей скорости роста V p к изменению тех или иных<br />
технологических параметров процесса и характеристик реактора, определяемых<br />
выражениями [3]<br />
�Vp<br />
� Vp � �X<br />
X<br />
n,<br />
�X<br />
n � �X<br />
n<br />
(10)<br />
n �X<br />
n<br />
Здесь X n - символ технологического или конструкционного параметра<br />
реактора, а � V / ) 100 % - чувствительность.<br />
( P VP<br />
158<br />
in<br />
in
Отметим, что зависимости p V от X n даются приведенными выше<br />
выражениями (2)-(9). В табл.1 приведены рассчитанные по этим формулам<br />
чувствительности скорости роста пленок � � Si : H для стандартных условий<br />
процесса, приведенных выше.<br />
Таблица 1<br />
Чувствительности скорости роста V p пленок Si : H � � к изменению на 10<br />
% параметров процесса и характеристик диодной ячейки реактора<br />
Параметр Символ n X<br />
Чувствительность<br />
�Vp<br />
�100<br />
%<br />
V<br />
Давление в реакторе Р +10<br />
Мощность ВЧ разряда W +10<br />
Содержание силана xc +10<br />
Температура на входе Твх +10<br />
Температура<br />
поверхности<br />
T s<br />
+0,3<br />
Объемная скорость<br />
потока<br />
Qвх<br />
-5<br />
Расстояние между<br />
h +5<br />
электродами<br />
Площадь отверстий в<br />
катоде<br />
S +5<br />
Таким образом, данные табл.1 для заданного реактора и уточненной по<br />
экспериментальным результатам модели (конструкционные параметры реактора<br />
и параметры модели фиксированы) главными факторами, влияющими на<br />
скорость роста V p , являются параметры: давление в реакторе P , мощность ВЧ<br />
разряда W , концентрация силана c x , температура на входе T in .<br />
Покажем далее, каким образом на основании данных табл.1 возможно<br />
сформулировать условие поддержания оптимальных значений V p в реальных<br />
условиях ведения процесса. Как известно [3], если , ,..., ) x x x f z � есть<br />
159<br />
p<br />
( 1 2 n<br />
некоторая нелинейная функция случайных некоррелированных величин<br />
1 , x2<br />
xn<br />
, слабо меняющаяся во всей области изменений ( 1, 2,...,<br />
n)<br />
x x<br />
x ,...,<br />
дисперсию<br />
2<br />
S можно аппроксимировать выражением<br />
2<br />
2<br />
2<br />
x , то<br />
2 2 � �f<br />
� 2 2 � �f<br />
� 2 2 � �f<br />
� 2 2<br />
v f f � �<br />
� vx<br />
x1<br />
v 2 ...<br />
1<br />
x x<br />
v<br />
2<br />
x x n n<br />
x<br />
�<br />
� � �<br />
� � �<br />
1 x<br />
�<br />
�<br />
�<br />
�<br />
2<br />
x �<br />
�<br />
(11)<br />
��<br />
� ��<br />
� ��<br />
n �<br />
Это выражение получают, разлагая функцию ( 1, 2,...,<br />
n ) x x x f z � в ряд<br />
Тейлора, ограничиваясь членами первого порядка и суммируя по закону<br />
сложения дисперсий. Очевидно, что случаю равной точности<br />
� v � ... v � v ) поддержания всех параметров процесса соответствует<br />
( v 1 2<br />
n 0 x<br />
x x<br />
выражение
2<br />
� � �<br />
� �f<br />
� 2<br />
v � �<br />
�<br />
f f v0<br />
xn<br />
(12)<br />
n ��x<br />
n �<br />
Приняв достаточно высокую для практических целей вероятность<br />
получения товарной партии структур (р = 0,95) и ориентируясь на нормальное<br />
распределение случайных отклонений всех учтенных величин, запишем для<br />
допустимого разброса по толщине 5 % условие стабилизации процесса<br />
2<br />
� � �<br />
0,<br />
05V<br />
p �1,<br />
96v0<br />
��V<br />
p �<br />
�<br />
�<br />
n � �xn<br />
�<br />
2<br />
xn<br />
, (13)<br />
а лучше<br />
� � �<br />
v0<br />
�<br />
1,<br />
96v0<br />
0,<br />
05V<br />
p<br />
(14)<br />
2<br />
��V<br />
p � 2<br />
�<br />
� xn<br />
n � �xn<br />
�<br />
Из формулы (14) формулируются требования к системе стабилизации<br />
каждого из технологических параметров � p<br />
� � v , % (15)<br />
p<br />
Vp<br />
Воспользовашись выражениями (2) – (9) и (14), получаем условие<br />
стабилизации параметров процесса наращивания пленок a � Si : H<br />
� p � vV<br />
�1,<br />
1,<br />
% (16)<br />
p<br />
На основании данных табл.1 определили по методу, изложенному выше,<br />
условие стабилизации технологических параметров при допустимом разбросе<br />
пленок a � Si : H по толщине в 5 % : � V �1,<br />
1 5. Следовательно, для выпуска<br />
солнечных элементов и полевых транзисторов с допустимым разбросом пленок<br />
a � Si : H по толщине в 5 % необходимо поддерживать технологические<br />
параметры: давление в реакторе P , мощность ВЧ разряда W , концентрация<br />
силана c x , температура на входе in T . и температуру поверхности T s с<br />
точностью не менее 1,1 %.<br />
Представляет интерес сравнить теоретические и экспериментальные<br />
значения разброса скорости роста (а следовательно и толщин p gr t V d � , где t gr -<br />
время наращивания) пленок a � Si : H по поверхности подложек, определяемых<br />
функционалами<br />
Vp<br />
(max) �V<br />
p (min) d(max)<br />
� d(min)<br />
� V �<br />
, � d �<br />
(17)<br />
V (max) �V<br />
(min) d(max)<br />
� d(min)<br />
p<br />
p<br />
Здесь в качестве величин V p (max) , d (max) - берутся значения на входе в<br />
реактор, а значения V p (min) , d (min) - на выходе из него. Наши оценки показали<br />
[3], что величины � d удовлетворяют условию � d � 5 %.<br />
Литература<br />
1. Petrov S.V., Prokop'ev E.P., Sokolov E.M. Analysis of amorphous silicon<br />
deposition conditions in plasma silane mixtures at low pressure. Nuovo Cimento.<br />
D. 1997. Vol.19. №6. P.817-826.<br />
2. Neumann G. and Zshauer K.-H., // J. Crystal Growth. 1988. Vol.92. P.397.<br />
3. Лившиц Н.А., Пугачев В.Н. Вероятностный анализ систем<br />
автоматического управления. М.: Советское радио, 1963.<br />
160
ДИАГНОСТИКА ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ПОТЕРЬ АЛЬФА<br />
ЧАСТИЦ В ИТЕРЕ<br />
1. Организация ИТЕР<br />
Е.А. Вещев 1 , Л. Берталот 1 , С. Путвинский 1<br />
Для осуществления термоядерной реакции в установке ИТЕР<br />
планируется использовать дейтерий и тритий. В результате их синтеза в плазме,<br />
удерживаемой магнитным полем, образуется 14-ти МэВный нейтрон и<br />
3.5МэВная альфа-частица (гелий). Нейтроны разлетаются из <strong>плазмы</strong> и<br />
нагревают Бланкет, окружающий плазму, с которого впоследствии снимается<br />
тепло и трансформируется в электроэнергию. Заряженые высокоэнергетичные<br />
альфа частицы, удерживаемые магнитным полем, остаются в плазме, где<br />
должны стать основным источником еѐ нагрева. Ларморовский радиус альфа<br />
частицы, рожденной в результате термоядерной реакции, достигает 5-10 см<br />
вблизи стенок реактора. Столкновение альфа частиц со стенкой реактора<br />
приведет к потерям энергии из <strong>плазмы</strong>. В добавок к этому, потери альфа частиц,<br />
сконцентрированные в отдельных точках на стенке реактора, могут привести к<br />
еѐ эррозии. Более того, столкновение высокоэнергетических частиц со стенкой<br />
реактора ведет к проникновению примесей, выбитых из стенки, в плазму, что<br />
является крайне неблагоприятным для неѐ.<br />
Диагностика, позволяющая измерять потери альфа частиц в абсолютных<br />
еденицах, с разрешением по времени, энергии и углам необходима для<br />
понимания механизмов их потерь и оптимизации параметров <strong>плазмы</strong>. На<br />
современных термоядерных установках для таких измерений используются<br />
сцинтилляторы [1-4] и Фарадеевские чашки [5-7] или их симбиоз[8]. Однако<br />
применение этих устройств на ИТЕРе столкнется со значительными<br />
сложностями в виде существенных тепловых потоков возле первой стенки - до<br />
0.5МВт/м 2 за счет излучения в перпендикулярном направлении, от 2-3 МВт/м 2<br />
за счет ионов/электронов в параллельном направлении при стационарном<br />
режиме и до 40МВт/м 2 во время зажигания плазменного разряда или после<br />
срыва [9-10]; нагрев нейтронам будет до 4 МВт/м 3 для нержавеющей стали и 18<br />
МВт/м 3 для вольфрама, что значительно выше уровня нейтронного нагрева<br />
близкого к нулю на современных термоядерных установках. Вдобавок ко всему,<br />
на ИТЕРе запланировано около 30-ти тысяч разрядов при длительности каждого<br />
из них на 2 порядка выше чем во многих современных установках. В результате,<br />
множество эффектов, связанных с изменениями физических свойств материалов<br />
под воздействием нейтронов и больших потоков частиц и излучения должны<br />
быть приняты во внимание при дизайне всех диагностик и диагностики потерь<br />
альфа частиц в особенности.<br />
Одним из перспективных решений для измерения потерь альфа-частиц из<br />
<strong>плазмы</strong> с одновременным разрешением по углам, энергиям, времени и<br />
абсолютным величинам является двигающийся в возвратно-поступательном<br />
режиме зонд с детектором внутри. Использование такой методики позволяет<br />
скрыть головку зонда с детектором от крайне высоких тепловых нагрузок во<br />
время начала разряда (до 40МВт/м 2 ), уменьшить сумарный поток нейтронов на<br />
161
детектор и продлить срок действия диагностики. В результате исследований<br />
выбрано оптимальное положение детектора в камере ИТЕРа, расчитаны<br />
диапазоны измеряемых энергий и углов, оценено влияние тепловых нагрузок на<br />
зонд и подобрано оптимальное время для измерений (не более 500мс). Для<br />
предотвращения детектора от перегрева предлагается сделать стенки зонда из<br />
хорошо отполированных многослойных теплоизолированных фольг. Дизайн<br />
зонда предполагает использование двойной подвижной системы (рельс внутри<br />
рельса) - это предусмотрено на случай срыва, когда зонд может быть<br />
деформирован и застрять в камере токамака. Для этого наружный рельс,<br />
остававшийся неподвижным в течение всех предыдущих измерений и движений<br />
подвижного внутреннего рельса, сможет втянуть всю систему обратно на<br />
несколько сантиметров в диагностический порт.<br />
Литература:<br />
1. S.J. Zweben, R.L. Boivin, M. Diesso, S. Hayes, H.W. Hendel, H. Park, J.D.<br />
Strachan, ―Loss of Alpha-like MeV Fusion Products from TFTR‖, Nuclear Fusion,<br />
Vol.30, No.8 (1990) 1551-1574<br />
2. M. Isobe, D. S. Darrow, T. Kondo, M. Sasao, K. Toi, and M. Osakabe, H. Shimizu,<br />
Y. Yoshimura, C. Takahashi, S. Murakami, S. Okamura, and K. Matsuoka, ‖Escaping<br />
fast ion diagnostics in compact helical system heliotron/torsatron‖, Review of<br />
Scientific Instruments, Vol.70, No.1 (1999) 827-830<br />
3. S. Baeumel, A. Werner, R. Semler, S. Mukherjee, D. S. Darrow and R. Ellis, F. E.<br />
Cecil, L. Pedrick, H. Altmann, V. Kiptily, J. Gafert, and JET-EFDA Contributors,<br />
―Scintillator probe for lost alpha measurements in JET‖, Review of Scientific<br />
Instruments, Vol.75, No.10 (2004) 3563-3565<br />
4. R. K. Fisher, D.C. Pace, M. García-Muñoz, W. W. Heidbrink, C. M. Muscatello,<br />
M. A. Van Zeeland, and Y. B. Zhu, ―Scintillator-based diagnostic for fast ion loss<br />
measurements on DIII-D‖, Review of Scientific Instruments, Vol.81, (1999) 10D307<br />
5. F. E. Cecil, B. Roy, S. Kern, A. Nowak, and Y. Takimoto, O. N. Jarvis, P. van<br />
Belle, G. J. Sadler, M. Hone, and M. Loughlin, D. Darrow, S. S. Medley, and L.<br />
Roquemore, C. Barbour, ―Development and operation of a thin foil Faraday collector<br />
as a lost ion diagnostic for high yield d-t tokamak fusion plasmas‖, Review of<br />
Scientific Instruments, Vol.70, No.1 (1999) 1149-1153<br />
6. D. S. Darrow, S. Bäumel, F. E. Cecil, V. Kiptily, R. Ellis, L. Pedricka, A. Werner<br />
―Design and construction of a fast ion loss Faraday cup array diagnostic for Joint<br />
European Torus‖, Review of Scientific Instruments, Vol.75, No.10 (2004) 3566-3568<br />
7. Doug Darrow, Stefan Baeumel, Ed Cecila, Bob Ellis, Keith Fullard, Ken Hill, Alan<br />
Horton, Vasily Kiptily, Les Pedrick, Matthias Reich, Andreas Werner, JET-EFDA<br />
Contributors, ―Initial results from the lost alpha diagnostics on Joint European Torus‖,<br />
Review of Scientific Instruments, Vol.77, (2006) 10E701<br />
8. M. Garcia-Munoz, N. Hicks, R. van Voornveld, I. G. J. Classen, R. Bilato, V.<br />
Bobkov, M. Bruedgam, H.-U. Fahrbach, V. Igochine, S. Jaemsae, M. Maraschek, K.<br />
Sassenberg, and ASDEX Upgrade Team, ―Convective and Diffusive Energetic<br />
Particle Losses Induced by Shear Alfvén Waves in the ASDEX Upgrade Tokamak‖,<br />
Phys. Rev. Lett. 104, 185002 (2010).<br />
9. R.A.Pitts, FST PWI Section https://user.iter.org/?uid=35H3EN<br />
10. R. Mitteau, https://user.iter.org/?uid=34TQ77<br />
162
СПЕКТРАЛЬНЫЙ КОНТРОЛЬ ПРОЦЕССА ТРАВЛЕНИЯ<br />
GaAs В ПЛАЗМЕ HCl<br />
А. В. Дунаев, С. А. Пивоваренок, С.П. Капинос, А. М. Ефремов,<br />
В. И. Светцов<br />
Ивановский Государственный Химико-Технологический Университет<br />
Хлорсодержащие газы широко используются в технологии микро- и<br />
наноэлектроники при плазменном травлении (ПТ) полупроводников (моно- и<br />
поликристаллический Si, GaAs, InP) и металлов (Al, Cu) [1]. В настоящее время<br />
большое внимание специалистов в области ПТ уделяется галогенводородам, в<br />
том числе - HCl. Достоинствами HCl являются отсутствие полимеризационных<br />
явлений, низкие (по сравнению с плазмой Сl2) степени диссоциации,<br />
обеспечивающие преимущество в анизотропии и селективности процесса, а<br />
также лучшие равномерность и чистота обработки поверхности, достигаемые за<br />
счет химических реакций атомов водорода. Очевидно, что успешная<br />
технологическая реализация ПТ с использованием HCl в качестве<br />
плазмообразующего газа невозможна без разработки простого и надежного<br />
метода контроля таких процессов, позволяющего получать информацию о<br />
скорости целевого процесса в режиме реального времени. В настоящее время,<br />
одним из самых распространенных методов исследования как массового состава<br />
активных частиц <strong>плазмы</strong>, так и гетерогенных плазменных процессов является<br />
эмиссионный спектральный анализ. Исследование возможностей этого метода<br />
применительно к ПТ GaAs в HCl и явилось целью настоящей работы.<br />
Эксперименты проводились в стеклянном цилиндрическом реакторе<br />
проточного типа (радиус = 1.8 см, длина зоны разряда = 40 см) при<br />
возбуждении тлеющего разряда постоянного тока (давление газа = 20–100 Па,<br />
ток разряда = 10–60 мА, скорость потока газа = 2–8 см 3 /сек при н. у.).<br />
Образцы GaAs (фрагменты полированных пластинки размером � 1 см 2 )<br />
располагались в зоне положительного столба разряда на уровне стенки<br />
реактора. Хлористый водород получали химическим методом [2]. Скорость<br />
163
травления измерялась гравиметрически, по изменению массы образца после<br />
обработки в плазме. Запись спектров излучения <strong>плазмы</strong> осуществлялась с<br />
помощью оптоволоконного спектрометра AvaSpec-2048-2 с фотоэлектрической<br />
системой регистрацией сигнала и накоплением данных на ЭВМ. Рабочий<br />
диапазон длин волн составлял 300–1000 нм. При расшифровке спектров<br />
использовались справочники [3, 4].<br />
Эксперименты показали, что в спектре излучения <strong>плазмы</strong> HCl<br />
присутствуют две группы линий атомарного хлора (менее интенсивные в сине-<br />
зеленой части спектра 430–460 нм, обусловленные возбуждением состояния ,<br />
и более интенсивные в красной области 700–900 нм, связанные с излучательной<br />
дезактивацией состояния ), а также характерные линии атомов водорода H�,<br />
H� и H� серии Бальмера с длинами волн 656.4 нм, 486.2 нм и 434.1 нм,<br />
соответственно. Наиболее интенсивными, стабильно проявляющимися и<br />
свободными от перекрывания с соседними максимумами являются линии Cl<br />
452.6 нм ( , = 11.94 эВ), Cl 725.4 нм ( , = 10.6<br />
эВ ), Cl 837.6 нм ( , = 10.4 эВ) и H 656.4 нм ( ,<br />
= 12.09 эВ). Высокие значения пороговых энергий позволяют рассматривать<br />
возбуждение атомов электронным ударом как основной механизм заселения<br />
верхних состояний, пренебрегая механизмом диссоциативного возбуждения [5].<br />
Кроме этого, низкие времена жизни соответствующих возбужденных состояний<br />
позволяют рассматривать излучательную дезактивацию как основной механизм<br />
данного процесса. В присутствии образцов GaAs в реакторе спектр излучения<br />
<strong>плазмы</strong> заметно изменяется за счет появления максимумов излучения продуктов<br />
взаимодействия (рис. 1) – системы полос GaCl (325.5, 330.4, 334.7, 341.8, 352.7<br />
нм с = 3.70 эВ) и резонансных линий Ga (403.3 и 417.3 нм с ~ 3.07 эВ).<br />
Известно, что интенсивность излучения частиц является функцией не<br />
только их концентрации, но определяется условиями возбуждения. Поэтому<br />
получение прямой пропорциональности между интенсивностью излучения и<br />
концентрацией соответствующих частиц является маловероятным, однако в<br />
ряде случаев прямые измерения интенсивностей излучения могут быть полезны.<br />
Одним из таких вариантов является спектральный контроль плазменного<br />
травления материалов по излучению продуктов травления, имеющих<br />
потенциалы возбуждения ниже средней энергии электронов в плазме. В этом<br />
164
случае коэффициент скорости возбуждения будет слабо зависеть от параметров<br />
разряда и при варьировании последних не в очень широком диапазоне можно<br />
ожидать однозначной зависимости между концентрацией продуктов травления<br />
в газовой фазе (т.е. скоростью травления для стационарного процесса) и<br />
интенсивностью излучения.<br />
Интенсивность, отн. ед.<br />
25<br />
20<br />
15<br />
10<br />
5<br />
GaCl 352.7<br />
Ga 403.3<br />
Ga 417.3<br />
Cl (5p)<br />
0<br />
350 375 400 425 450 650 700 750 800 850 900<br />
165<br />
�, нм<br />
H � 656.3<br />
Cl (4p)<br />
Рис.1 Общий вид спектра излучения <strong>плазмы</strong> HCl при травлении GaAs � = 100<br />
Па,�р = 20 мА.<br />
В исследованном диапазоне условий процесс травления GaAs в плазме<br />
HCl протекает стационарно, в кинетической области и имеет первый<br />
кинетический порядок по концентрации атомов хлора (основных активных<br />
частиц) в газовой фазе. Это подтверждается линейным характером<br />
гравиметрических кинетических кривых, а также наличием прямой взаимосвязи<br />
между изменением концентрации атомов хлора и скорости травления при<br />
варьировании внешних параметров разряда [6]. Эксперименты показали также<br />
наличие однозначной линейной корреляции между изменением скорости<br />
травления и интенсивностью излучения полосы GaCl 352.7 нм (рис. 2). Таким<br />
образом, концентрация GaCl в газовой фазе прямо пропорциональна скорости<br />
травления и «отслеживает» изменение последней. Это позволяет использовать<br />
излучение полосы GaCl 352.7 нм для контроля кинетики травления GaAs, а<br />
также для определения моментов начала и окончания процесса травления в<br />
режиме реального времени.
Рис. 2. Зависимость интенсивности излучения полосы GaCl от скорости<br />
травления арсенида галлия в плазме HCl (�р = 20 мА)<br />
Литература:<br />
1. Wolf S., Tauber R.N. Silicon Processing for the VLSI Era. V. 1. Process<br />
Technology. N. Y.: Lattice Press. 2000. 890 p.<br />
2. Ю.В. Корякин, И.И. Ангелов. Чистые химические вещества. – М.: Химия,<br />
1974. 408 с.<br />
3. Pearse R.W.B., Gaydon A.G. The identification of molecular spectra. Fourth<br />
edition. New York.: John Wiley & Sons, inc. 1976. 407p.<br />
4. Стриганов А.Р., Свентицкий Н.С. Таблицы спектральных линий<br />
нейтральных и ионизированных атомов. М.: Атомиздат. 1966. 899 с.<br />
5. Ефремов А.М., Куприяновская А.П., Светцов В. И. Спектр излучения<br />
тлеющего разряда в хлоре// Журнал прикладной спектроскопии. 1993. T.59.<br />
№3–4. С.221–225.<br />
6. Дунаев А.В., Пивоваренок С.А., Семенова О.А., Ефремов А.М., Светцов<br />
В.И. Кинетика и механизмы плазмохимического травления GaAs в хлоре и<br />
хлороводороде // Сборник трудов IV всероссийской конференции<br />
«Актуальные проблемы химии высоких энергий» Москва РХТУ им. Д.И.<br />
Менделеева 2-4 ноября 2009.<br />
166
ЛАЗЕРНАЯ ПУФА-ТЕРАПИЯ. ОБРАЗОВАНИЕ СШИВОК<br />
ДНК ПОД ДЕЙСТВИЕМ УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО<br />
ИЗЛУЧЕНИЯ АЗОТНОГО ЛАЗЕРА В ПРИСУТСТВИИ 8-МОП<br />
Д.А. Жестиливский, С.А. Румянцев, С.А. Соломатин, Н.М.Сухов, З.И.Мошнина,<br />
Е.Д. Вовченко, А.С. Савелов, М.В. Мошнин<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
Для лечения псориаза и других кожных заболеваний широко применяется<br />
метод ПУФА-терапии – сочетанное воздействие на кожу ультрафиолетового<br />
света с длинами волн 320 ÷ 400 нм (УФА) и препаратов из группы<br />
псораленов (П). Эти вещества растительного происхождения интересны тем,<br />
что способны встраиваться (по термодинамическим причинам) в<br />
двуспиральную ДНК биологических структур, например клеток кожи. После<br />
поглощения кванта УФА излучения линейная молекула псоралена ковалентной<br />
связью соединяется с одной из нитей ДНК, затем, после поглощения второго<br />
кванта УФА, образуется так называемая «сшивка» молекул ДНК. Поперечные<br />
«сшивки» в двуспиральной ДНК клеток кожи препятствуют процессу<br />
ускоренного (патологического) деления этих клеток. На этом эффекте основано<br />
лечение псориаза методом ПУФА-терапии.<br />
Источниками УФА излучения в настоящее время являются ртутно-<br />
кварцевые и люминесцентные лампы. Они, наряду с несомненными<br />
достоинствами, обладают рядом существенных недостатков: пары ртути могут<br />
представлять серьезную проблему при утилизации отработавших ресурс ламп, а<br />
также в случае повреждения в действующих аппаратах; лампы имеют<br />
ограниченную мощность при необходимости интенсивного локального<br />
воздействия; линейчатый спектр ртутных ламп имеет интенсивные полосы<br />
испускания по всему диапазону ультрафиолетового света.<br />
В данной работе показана возможность разработки более простой и<br />
относительно недорогой медицинской аппаратуры на основе азотного лазера с<br />
длиной волны 337 нм и обсуждаются преимущества применения излучения в<br />
167
этом спектральном диапазоне. Исследовали образование «сшивок» ДНК по<br />
изменению гиперхромного эффекта в образцах проб с 8-метоксипсораленом<br />
(8-МОП), которые облучали азотным лазером.<br />
Гиперхромный эффект наблюдается в буферных растворах<br />
двуспиральной ДНК при измерении оптической плотности на длине волны<br />
260 нм. Раствор ДНК без каких-либо воздействий представляет собой две<br />
тесно переплетенные «цепи» полинуклеотидов – последовательно соединенных<br />
пиримидиновых и пуриновых оснований. Пик поглощения оснований<br />
располагается в области 260 нм и при тесном переплетении нитей часть<br />
оснований-нуклеотидов экранирует поглощение других аналогичных молекул.<br />
Воздействия, разрушающие водородные связи, приводят к<br />
«расплетению» двуспиральной ДНК, при этом ранее экранированные молекулы<br />
нуклеотидов начинают поглощать УФ излучение и оптическая плотность в<br />
области с максимумом 260 нм возрастает. Если нити ДНК «сшиты» молекулами<br />
псоралена, поглощение не возрастает. Таким образом, по наличию прироста<br />
поглощения при 260 нм можно судить об образовании «сшивок» в молекуле<br />
двуспиральнолй ДНК, а измеряя величину прироста поглощения (260 нм),<br />
можно сделать заключение о количестве «сшивок» на единицу молекулярной<br />
массы ДНК.<br />
Основу всех образцов, которые использовались в экспериментах, составил<br />
0.1% раствор ДНК лосося (Sigma, Германия), приготовленный в 2 ммоль NaCl.<br />
В рабочий образец к первоначальному раствору добавили 8-МОП (Sigma,<br />
Германия) до концентрации Моль. В контрольный образец вместо 8-<br />
МОП добавлен этанол в аналогичной конечной концентрации. Получившиеся<br />
растворы разделили на 4 пробы: две пробы с ДНК и 8-МОП и две пробы с<br />
ДНК и этанолом. Одну пробу 8-МОП + ДНК и одну пробу 8-МОП + этанол<br />
облучали одинаковыми дозами УФА излучения азотного лазера при<br />
непрерывном перемешивании на магнитной мешалке. Две другие пробы<br />
перемешивали на мешалке в течение аналогичного интервала времени без<br />
облучения.<br />
Схема эксперимента по облучению проб представлена на рис.1.<br />
Применялся азотный лазер ЛГИ-501 с энергией в импульсе 30 мкДж и частотой<br />
168
следования импульсов 50 Гц. Время облучения − 30минут, что соответствует<br />
дозе облучения ~ 50 мДж/см 2 .<br />
Рис.1. Схема установки для облучения растворов ДНК в присутствии<br />
8-МОП и этанола<br />
Для определения величины гиперхромного эффекта все исследуемые<br />
образцы нагревали (кипячение при температуре 100°C в течение 10 минут), а<br />
потом резко охлаждали до температуры 0°C. Эта процедура необходима для<br />
разрушения водородных связей в двуспиральной ДНК и получения<br />
гиперхромного эффекта. Затем с помощью спектрофотометра были измерены<br />
соответствующие коэффициенты D1 и D2. Результаты некоторых измерений<br />
представлены в таблице 1.<br />
Таблица 1<br />
Изменение гиперхромного эффекта в пробах раствора ДНК при облучении<br />
азотным лазером на длине волны 337 нм в присутствии 8-МОП<br />
Проба<br />
ДНК + этанол,<br />
без облучения<br />
ДНК + 8-МОП,<br />
с облучением<br />
D1<br />
(без нагрева)<br />
169<br />
D2<br />
(нагрев +<br />
охлаждение)<br />
Гиперхромный<br />
эффект, G<br />
0,475 0,535 12,5%<br />
0,514 0,532 3,5%
Величину гиперхромного эффекта вычисляли по формуле<br />
G = (D2 − D1) / D1. Как видно из таблицы, величина G для раствора ДНК,<br />
облученного в присутствии 8-МОП, уменьшается по сравнению с контрольным<br />
образцом из-за образования «сшивок» нитей двуспиральной ДНК.<br />
В заключение сформулируем преимущества ПУФА-терапии с<br />
использованием азотного лазера:<br />
1) Область λ = 337 нм лежит вне спектра поглощения молекул ДНК,<br />
следовательно, воздействие света будет оказываться исключительно на<br />
псоралены, без фотоповреждения ДНК и белков клеток кожи. Это<br />
отличает предложенную методику от других методов фототерапии<br />
псориаза с использованием полного спектра УФ-света и эксимерного<br />
лазера, поскольку исключает угрозу возникновения рака кожи и ее<br />
преждевременное старение.<br />
2) В связи с высокой интенсивностью лазерного излучения и возможности<br />
точечной фокусировки луча, возможно эффективное лечение локальных<br />
очагов болезни в труднодоступных местах.<br />
170
ПРИМЕНЕНИЕ РЕЛАКСАЦИОННОЙ ИМПУЛЬСНОЙ<br />
МЕТОДИКИ ДЛЯ ИЗУЧЕНИЯ ГЕТЕРОГЕННОЙ<br />
РЕКОМБИНАЦИИ АТОМОВ В ПЛАЗМЕ ХЛОРА НА<br />
ТВЕРДЫХ ПОВЕРХНОСТЯХ<br />
Д.В. Ситанов, М.Ю. Ивентичев, В.И. Светцов<br />
Ивановский государственный химико-технологический университет<br />
В настоящее время в технологии микро- и наноэлектроники процессы<br />
масочного (размерного) плазмохимического травления стали неотъемлемой<br />
частью технологического процесса. При этом для оптимизации и точного<br />
прогнозирования результатов плазмохимической обработки необходимо знать<br />
константы скоростей процессов, протекающих как в объеме плазмохимического<br />
реактора, так и на поверхности обрабатываемого материала, в том числе и на<br />
стенке реактора. В данной работе обсуждаются возможности релаксационной<br />
импульсной методики для изучения гетерогенной рекомбинации атомов хлора<br />
на стенке плазмохимического реактора, а также на образцах алюминия и<br />
нержавеющей стали, помещаемых в зону положительного столба тлеющего<br />
разряда пониженного давления, возбуждаемого в хлоре. Выбор объектов<br />
исследования был обусловлен тем, что эти металлы при температурах ниже<br />
500K химически не взаимодействуют ни с атомарным, ни с молекулярным<br />
хлором. Эксперименты проводились в плазмохимическом реакторе при<br />
давлении 100 Па, токе разряда 11 мА и расходе хлора 0.1 см 3 /с. Образцы в виде<br />
тонкой пленки помещались на внутреннюю стенку цилиндрического реактора<br />
диаметром 32 мм. Температура газа в зоне положительного столба <strong>плазмы</strong> и<br />
температура образцов измерялись полупроводниковыми датчиками,<br />
помещенными в тонкие стеклянные капилляры. Каждый датчик индивидуально<br />
калибровался в широком диапазоне температур.<br />
Впервые релаксационная импульсная методика была применена для<br />
изучения гибели радикалов в плазме галогеноволородов [1]. В нашей<br />
лаборатории данная методика была адаптирована для изучения гетерогенной<br />
рекомбинации атомов хлора в Cl2. Суть релаксационной методики заключается<br />
171
I изл<br />
I р,<br />
мА<br />
N,<br />
отн.<br />
ед.<br />
I<br />
t п1 t п2<br />
t п3<br />
t п4<br />
I 0<br />
(а)<br />
(б)<br />
Рис. 1. Временные зависимости<br />
интенсивности излучения разряда Iизл (а),<br />
импульсов тока Iр (б), концентрации атомов<br />
N (в); t − время, tп1, tп2, tп3, tп4 – времена пауз<br />
между импульсами тока.<br />
I,<br />
240<br />
отн.<br />
ед. 210<br />
180<br />
150<br />
120<br />
90<br />
60<br />
30<br />
0<br />
(в)<br />
0 20 40 60 80 100 120 140 160<br />
t, мс<br />
172<br />
в импульсном питании разряда с<br />
целью получения данных о<br />
кинетике интересующего<br />
процесса. При этом скорость<br />
процесса гибели атомов хлора на<br />
поверхностях, ограничивающих<br />
зону <strong>плазмы</strong>, может быть<br />
определена двумя способами. В<br />
первом случае кинетическая<br />
зависимость гибели атомов хлора<br />
восстанавливается по данным<br />
отдельных экспериментов, в<br />
которых длительность паузы<br />
между импульсами тока плавно<br />
изменялась в сторону ее<br />
увеличения. Если длительность<br />
паузы такова, что за ее время не<br />
все атомы хлора успевают<br />
прорекомбинировать с<br />
образованием Cl2, то на переднем<br />
фронте очередного импульса тока<br />
Рис. 2. Экспериментальные данные по<br />
излучению атомарного хлора в присутствии<br />
получается скачок концентрации<br />
атомов хлора, соответствующий<br />
алюминиевой фольги (площадь Al=29,5см<br />
участку кинетической<br />
зависимости гибели атомов хлора на данный момент времени. Эксперименты с<br />
2 ,<br />
пауза 9 мс).<br />
другими длительностями паузы позволяют получить следующие точки<br />
кинетической зависимости гибели атомов хлора. На рис. 1 приведен пример,<br />
иллюстрирующий поточечное построения кинетической зависимости гибели<br />
атомов хлора на стенке плазмохимического реактора. Концентрация атомов<br />
хлора на переднем фронте импульса тока определялась с использованием<br />
метода эмиссионной оптической спектроскопии по интенсивности излучения<br />
атомарного хлора с длиной волны 452.62 нм (переход 5p 2 p 0 3/2�4s 2 p3/2). На рис. 2<br />
в качестве примера приведена рабочая осциллограмма интенсивности
I,<br />
отн.<br />
ед.<br />
-0,30<br />
-0,35<br />
-0,40<br />
-0,45<br />
-0,50<br />
а)<br />
0,0 0,1 0,2 0,3 0,4 0,5<br />
I,<br />
отн.<br />
ед. б)<br />
-1,65<br />
-1,70<br />
-1,75<br />
-1,80<br />
-1,85<br />
-1,90<br />
I p<br />
173<br />
излучения атомарного хлора в<br />
пределах одного периода при<br />
изучении гетерогенной<br />
рекомбинации атомов хлора<br />
на алюминии.<br />
С другой стороны,<br />
временную зависимость<br />
концентрации атомов хлора в<br />
паузе между импульсами тока<br />
можно получить по<br />
соответствующей<br />
зависимости изменения<br />
концентрации молекул хлора,<br />
так как для паузы можно<br />
записать: Cl 1/ 2Cl2<br />
стенка<br />
� .<br />
Данные о временном ходе<br />
концентрации Cl2 позволяет<br />
получить метод<br />
абсорбционной<br />
Рис. 3. Экспериментальные зависимости: а)<br />
спектроскопии, суть которого<br />
интенсивности собственного излучения <strong>плазмы</strong><br />
хлора от времени; б) интенсивности излучения<br />
лампы, прошедшего через разрядную трубку, от<br />
с методической точки зрения<br />
заключается в измерении<br />
времени.<br />
интенсивности проходящего через разрядную трубку излучения от источника<br />
ультрафиолетового излучения (дейтериевая лампа ДДС-30) с разрядом<br />
(непосредственно на заднем фронте импульса тока) и без разряда (во время<br />
паузы). Основанный на данном подходе эксперимент заключался в получении<br />
двух зависимостей: интенсивности излучения разряда в импульсном режиме<br />
при выключенной ультрафиолетовой лампе (рис. 3а) и интенсивности<br />
излучения, прошедшего через разряд, горящий в импульсном режиме, при<br />
включенной ультрафиолетовой лампе (рис. 3б). Первая зависимость необходима<br />
для определения собственного излучения разряда. На рис. 3а это левая ветвь<br />
зависимости. Правая ветвь рис. 3а – это фактический аппаратный ноль системы<br />
t, с<br />
0,0 0,1 0,2 0,3 0,4 0,5<br />
t, с<br />
I p
при регистрации излучения. Разность этих значений дает абсолютное значение<br />
интенсивности излучения разряда Ip.<br />
Зависимость рис. 3б также представлена двумя ветвями. Левая ветвь на<br />
этом графике соответствует сумме интенсивностей прошедшего через разряд<br />
излучения ультрафиолетовой лампы и собственного излучения разряда в<br />
момент импульса тока. Измеренное значение интенсивности собственного<br />
излучения разряда, полученное из данных рис. 3а, позволяет определить<br />
значение интенсивности прошедшего через реактор излучения на начальный<br />
момент паузы. Правая ветвь зависимости рис. 3б отражает ход концентрации Cl2<br />
во время паузы между импульсами тока. Обработка данной зависимости<br />
позволяет получить данные о константе гетерогенной рекомбинации<br />
(вероятности рекомбинации) атомов хлора на материалах, ограничивающих<br />
зону <strong>плазмы</strong>. Таким способом были получены константы скорости гетерогенной<br />
рекомбинации (вероятности рекомбинации) атомов хлора на чистом<br />
молибденовом стекле и на образцах из нержавеющей стали.<br />
При обработке экспериментальных данных не учитывалась объемная<br />
рекомбинация атомов Cl � Cl �Cl2<br />
� 2Cl2<br />
и унос частиц из реактора за счет<br />
потока газа. Предполагалось, что атомы хлора гибнут только гетерогенно по<br />
первому кинетическому порядку на твердых материалах [2]. Значения констант<br />
гетерогенной рекомбинации kr (вероятностей рекомбинации γ) атомов хлора на<br />
заявленных образцах исследования приведены в таблице.<br />
kr, с -1<br />
174<br />
Таблица.<br />
Стекло С-49 Алюминий Нерж. сталь<br />
9.6 182 320<br />
γ×10 3 0.6 9.3 20<br />
Литература:<br />
1. Волынец В.Н., Словецкий Д.И., Строчков А.Я., Трофимов В.Н. Исследование<br />
механизмов гибели радикалов в плазме тлеющего разряда в тетрафторметане //<br />
Журн. прикладной спектроскопии, 1991, т.53, №6, с. 1004 - 1010.<br />
2. Светцов В.И., Ефремов А.М. Вероятности гибели атомов и концентрации<br />
активных частиц в плазме хлора // Изв. ВУЗов, Химия и хим. технология, 2004,<br />
т. 47, вып. 2, с. 104 - 107.
ИНТЕГРАЛЫ СТОЛКНОВЕНИЙ В ЛИНЕАРИЗОВАННЫХ<br />
ПО ПОЛЮ КИНЕТИЧЕСКИХ УРАВНЕНИЯХ: РЕГУЛЯРНЫЙ<br />
МЕТОД ИХ НАХОЖДЕНИЯ ИЛИ «ВТОРИЧНАЯ<br />
ЛИНЕАРИЗАЦИЯ» НУЛЕВОГО ПРИБЛИЖЕНИЯ<br />
В.Ф. Туганов 1,2<br />
1. Институт космических исследований РАН, Москва, Россия<br />
2. ГНЦ РФ Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований,<br />
Троицк<br />
1. Первый метод, давно уже став общепринятым, восходит, скорее всего,<br />
к работе [1] (см. (8) в [1]). И, будучи повсеместно используемым, в том числе и<br />
в задаче линейного отклика (см. любую из книг, например, по физической<br />
кинетике [2], физике <strong>плазмы</strong> [3] или статистической физике [4]), не имеет под<br />
собой абсолютно никакого основания. Считается, и не более того, что с<br />
включением слабого электрического поля, достаточно дополнить уравнения<br />
Власова интегралами столкновений Ландау [1] (Балеску-Ленарда [2-3]),<br />
полученными в нулевом приближении по полю (в его отсутствие). А затем<br />
линеаризовать по полю полученный «конструкт» - обобщенные кинетические<br />
уравнения Власова-Ландау, как его называют в [5]. Но у этого метода<br />
существенный недостаток – заведомо отсутствует (см. в [2-7]) эффект Крамерса-<br />
Гинзбурга [8, 9]: эффективные, задающие мнимую часть диэлектрической<br />
проницаемости частоты столкновений не зависят от частоты поля. Поэтому и<br />
появились ограничения на частоту � и волновое число q [2], которые для<br />
электронной <strong>плазмы</strong> (qvT
интеграл столкновений фоккер-планковского типа в линеаризованном<br />
кинетическом уравнении (63.1) (здесь и диффузионный член, и слагаемое с<br />
первой производной по скорости) – не совсем адекватен проблеме отклика. Из<br />
(63.1) следует, что начальные условия для линейных по полю E(t) добавок к<br />
флуктуациям распределений отличны от нуля (отсюда и конвективный член). А<br />
это явно противоречит принципу причинности: до включения поля никаких<br />
откликов на него не должно быть. Что и показывает другой метод…<br />
Регулярный метод нахождения и линеаризации интегралов столкновений<br />
[10, 11], исходя из флуктуационной их природы, изначально учитывает наличие<br />
внешнего электрического поля E(t,r), оказываясь, по сути, обобщением<br />
имеющегося в [2] метода на случай <strong>плазмы</strong> с электрическим полем. Линеаризуя<br />
по нему соответствующие уравнения для функций распределения и<br />
самосогласованных полей (для средних их значений и флуктуаций), здесь<br />
адекватно учитываются начальные условия. Они разные: ненулевые для<br />
равновесных флуктуаций однородной <strong>плазмы</strong> и, наоборот, нулевые для<br />
добавок к ним (до включения поля никаких добавок, и регулярных, и<br />
флуктуационных - нет). Неудивительно, что интегралы столкновений для<br />
равновесных распределений и для обусловленных полем добавок к ним<br />
существенно различаются, причем не только зависимостью последних от<br />
частоты и волнового вектора поля [10, 11]. Естествен вопрос: оправдан ли<br />
исторически сложившийся метод «вторичной» линеаризации интегралов<br />
столкновений, например, Ландау-Балеску-Ленарда? Ведь это не что иное, как<br />
попытка получить первое приближение по полю из... нулевого (а куда<br />
логичнее и то, и другое получать из более сложной, чем они, сущности).<br />
2. Интегралы столкновений в пространственно-однородной системе<br />
заряженных частиц определяются соответствующими корреляторами<br />
флуктуаций функций их распределения �fn(t,r,p) и самосогласованного поля<br />
�e(t,r) [2]<br />
Ist(fn) = - en �/�p (1)<br />
Здесь t, r и p - время, координата и импульс частицы сорта n, а en – еѐ заряд;<br />
символ означает усреднение по физически бесконечно малым объемам.<br />
Поле �e(t,r)=-���(t,r) определено потенциалом ��, связь которого с �fn задана<br />
уравнением Пуассона [2]<br />
176
��� = - 4��en�dp�fn (2)<br />
Известны и свойства этих интегралов Ландау-Балеску-Ленарда [1-3, 5-7], и их<br />
форма [2]. Достаточно лишь задать для такой системы не только средние<br />
значения распределений частиц fn(p) и самосогласованного поля e(t,r), но еще и<br />
их флуктуации. В однородной плазме без внешнего электрического поля все это<br />
достаточно хорошо известно: и средние функции распределения fn(p) частиц, и<br />
флуктуации как самих этих функций δfn(t,r,p), так и самосогласованного поля<br />
δe(t,r) (среднее самосогласованное поле e(t,r) равно нулю).<br />
С включением внешнего, поля E(t,r) у этих функций и флуктуаций<br />
появятся обусловленные полем добавки (возмущения): к функциям<br />
распределения - Fn(t,r,p), к их флуктуациям - �Fn(t,r,p) и к флуктуациям<br />
самосогласованного поля - �E(t,r). А так как система теперь не однородна,<br />
появится и самосогласованный потенциал �(t,r), связанный с функциями<br />
Fn(t,r,p) (так же как и �E= -��� с �Fn) уравнением, аналогичным (2).<br />
3. Интеграл столкновений для Fn(t,r,p) получается очевидной<br />
симметризацией (1) [10-11]<br />
Ist(Fn) = - en�/�p[ + ] (3)<br />
Будучи произведением флуктуаций как самосогласованного поля, так и<br />
функций распределения (см. (1)), (3) должно быть линейным по полю - состоять<br />
из линейных и нулевых по полю сомножителей. Причем, интегралы (1) и (3)<br />
различаются не только тем, что в (3) два слагаемых, и в целом его фурье-<br />
компонента – функция волновых характеристик поля. Ведь линейные по полю<br />
добавки (�Fn(t,r,p), �E(t,r)), в отличие от �fn(t,r,p) в (1), будучи определены<br />
произведениями флуктуаций нулевого приближения с зависящими от t и r<br />
функциями (Fn(t,r,p), E(t,r)), приводят в (3) к соответствующей свертке фурье-<br />
компонент и временному запаздыванию. Чего нет в (1), поскольку здесь вместо<br />
Fn(t,r,p) – стационарная и однородная функция fn(p)) [10]. Но главное, интегралы<br />
(1) и (3) различны по форме: в (1) она, как известно [1-7], - фоккер-планковская,<br />
а в (3) – диффузионная (нет слагаемого с первой производной по импульсу p)<br />
[10]. Обусловлено это нулевыми начальными условиями для линейных по полю<br />
флуктуаций (�Fn(0,r,p)=0), которые и определяют конвективный (с первой<br />
производной по импульсу) член [10, 11]. И это легко увидеть, исследовав<br />
177
аналогию решения для линейных по полю флуктуаций �Fn(t,r,p) с решением для<br />
флуктуаций нулевого приближения �fn(t,r,p) (см. (51.11) в [2]).<br />
К столкновительному сдвигу<br />
�t0/t0 = �� k1/(k2-k1) (1 - 2k1/k2)/2 (4)<br />
времени появления плазменного эха t0=�k2/(k2-k1)>� ведет, как известно, лишь<br />
фоккер-планковская форма интеграла столкновений: диффузионный член<br />
вызывает только столкновительное снижение амплитуды эха [3] (� - время<br />
появления второго импульса относительно первого, частота столкновений<br />
�k1). Изменяя частоту � можно легко<br />
диагностировать, адекватен ли физической реальности первый<br />
(общепринятый) метод линеаризации - метод «вторичной линеаризации»<br />
известных интегралов столкновений нулевого приближения.<br />
Литература<br />
1. Landau L.D. // Phyz. Zs. Sovjet. 1936. v.10. p. 154 (Ландау Л.Д. // ЖЭТФ.<br />
1937. т. 7. с. 203)<br />
2. Лифшиц Е.М., Питаевский В.П. Физическая кинетика. - М.: Наука, 1979,<br />
2009<br />
3. Ишимару С. Основные принципы физики <strong>плазмы</strong>. - М.: Атомиздат, 1975<br />
4. Исихара А. Статистическая физика. - М.: Мир, 1973<br />
5. Александров А.Ф, Рухадзе А.А. // Физика <strong>плазмы</strong>. 1997. т. 23, с. 474<br />
6. Силин В.П. Введение в кинетическую теорию <strong>плазмы</strong>. - М.: Наука, 1971<br />
7. Эккер Г. Теория полностью ионизованной <strong>плазмы</strong>. - М.: Мир, 1974<br />
8. Kramers H.A. // Phil. Mag. 1923. V. 46, p. 836<br />
9. Гинзбург В.Л. Распространение электромагнитных волн в плазме - М.<br />
Гостехиздат, 1960<br />
10. Туганов В.Ф. Препринт ГНЦ РФ ТРИНИТИ № 0096-А. Троицк: ГНЦ РФ<br />
ТРИНИТИ, 2002<br />
11. Туганов В.Ф. Плазменное эхо и <strong>диагностика</strong> методов линеаризации<br />
интегралов столкновений в кинетических уравнениях. Международная<br />
конференция МСС-09 «Трансформация волн, когерентные структуры и<br />
турбулентность», 2009, 23-25 ноября, Москва, ИКИ РАН. Сб. трудов, С. 147-<br />
152. - М.: ЛЕНАНД, 2009. – 512 с.<br />
178
ИНТЕГРАЛ СТОЛКНОВЕНИЙ ЛОРЕНЦЕВОЙ ПЛАЗМЫ И<br />
ЭФФЕКТ КРАМЕРСА-ГИНЗБУРГА.<br />
В.Ф. Туганов 1,2<br />
1. Институт космических исследований РАН, Москва, Россия<br />
2. ГНЦ РФ Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований,<br />
Троицк<br />
1. Лоренцева модель <strong>плазмы</strong> и соответствующий интеграл<br />
столкновений [1], будучи достаточно простыми, оказываются весьма<br />
плодотворным инструментом для задач диагностики <strong>плазмы</strong>, и в исследовании<br />
целого ряда процессов, например, таких как электропроводность (см. [1]). И то,<br />
и другое, кстати, напрямую связаны с проблемой отклика <strong>плазмы</strong> на слабое<br />
возмущение, появляющееся с включением электрического поля. Но при<br />
исследовании электропроводности такой подход сталкивается, вообще говоря, с<br />
проблемой принципиального характера, физическая причина которой<br />
обусловлена известным эффектом Крамерса-Гинзбурга - зависимостью<br />
эффективной частоты столкновений от частоты электрического поля �, начиная<br />
с ���p, где �p - ленгмюровская частота [2, 3]. Работа 1923 г. Крамерса [2] о<br />
тормозном излучении в классической области и 1949 г. Гинзбурга,<br />
предложившего квантовый подход (см. [1, 3]), были затем воспроизведены еще<br />
и методами кинетической теории (см. работу Силина 1960 г. в [4] и Даусона,<br />
Обермана 1962 г. в [5], где необоснованно нет ссылок на автора [4]). К<br />
сожалению, полученные в [4, 5] результаты, справедливы лишь для<br />
однородного поля E(t,r)=E(t). А из формулы (63.1) в [5] так и не выведен<br />
соответствующий интеграл столкновений лоренцевой <strong>плазмы</strong>, пригодный для<br />
высоких частот (���p, �p - ленгмюровская частота). И на сегодняшний день,<br />
если говорить не о модельном описании, а о каком-то его обосновании –<br />
доступном и отвечающем первым принципам, приходится довольствоваться<br />
тем, что есть, к примеру, в [1]. Лоренцев интеграл столкновений<br />
Jst(F) = - �(v) F(t,r,p) (1)<br />
для линейной по полю E(t,r) добавки F(t,r,p) к фоновому (равновесному)<br />
распределению электронов f(p) получен здесь исходя из общепринятого метода<br />
линеаризации интегралов столкновений Ландау-Балеску-Ленарда, вычисленных<br />
в отсутствии поля (t, r и p - время, радиус-вектор и импульс электрона, v - его<br />
скорость, а �(v) - частота электрон-ионных столкновений). Пренебрегая<br />
конвективным членом (с первой производной по p), решение ищут затем в виде<br />
179
F(t,r,p) = g(p) pE(t,r), (2)<br />
откуда и получают (1) с известной частотой столкновений �(v) (см. (44.3) в [1]).<br />
Но интеграл (1) и эта частота (3), будучи рассмотрены без учета поля, заведомо<br />
не отвечают эффекту Крамерса-Гинзбурга. Потому в теории и появились<br />
ограничения на частоту поля � и волновое число q (см. (41.14) в [1]). И для<br />
электронной <strong>плазмы</strong> (qvT
ее кулоновский логарифм [6] (qmax - известное из кинетической теории волновое<br />
число разное в классической и квантовой области [1])<br />
L(v, �,q) = Ln (qmaxv/�p)/[(v/vT) 2 + (� - qv) 2 /� 2 p ] 1/2 (4)<br />
зависит уже не только от скорости электронов v, как в [1], но и от волнового<br />
числа q и частоты поля �, причем, галилеевски инвариантным образом и в<br />
полном соответствии с эффектом Крамерса-Гинзбурга [2, 3]: на � и q нет всех<br />
тех ограничений (qvT
КВАНТОВО-ДИНАМИЧЕСКАЯ ОСОБЕННОСТЬ УПРУГОГО<br />
РАССЕЯНИЯ ЭЛЕКТРОНА НА АТОМЕ: ОБЪЯСНЕНИЕ<br />
ПРИЧИНЫ ЭФФЕКТА РАМЗАУЭРА И СИЛЬНОГО РОСТА<br />
ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ ИНЕРТНЫХ ГАЗОВ ПРИ ИХ<br />
ВЫСОКОЙ ПЛОТНОСТИ<br />
И.А. Бориев<br />
Филиал Института энергетических проблем химической физики РАН<br />
Одним из эффективных методов диагностики <strong>плазмы</strong>, представляющей<br />
собой ионизованное состояние вещества, является измерение и контроль ее<br />
электропроводности. Величина электропроводности <strong>плазмы</strong> во многих случаях<br />
определяется свойствами упругого рассеяния присутствующих электронов,<br />
обладающих более высокой (в сравнении с ионами) подвижностью.<br />
В докладе изложена ранее не учитываемая квантово-динамическая<br />
особенность упругого рассеяния электрона на атоме, не обладающем сродством<br />
к электрону, которая обусловлена свойствами потенциала взаимодействия<br />
электрона с таким атомом. Показано, что ее учет позволяет установить причину<br />
эффекта Рамзауэра для сечения рассеяния электронов на атомах тяжелых<br />
инертных газов (Ar, Kr, Xe). Этот давно известный (с 1924 года) эффект состоит<br />
в сильном (до 10 2 раз) уменьшении сечения однократного рассеяния на этих<br />
атомах для электронов с энергией в интервале 0,5-0,9 эВ. Также показано, что<br />
рассеяние электронов на таком потенциале позволяет объяснить резкое и<br />
сильное (до 10 4 раз) увеличение электропроводности плотных инертных газов,<br />
наблюдаемое при их переходе в конденсированное состояние, а также при их<br />
статическом или динамическом (в ударных волнах) сжатии.<br />
Особенности упругого рассеяния электрона на атоме, не обладающем<br />
сродством к электрону<br />
Обычно рассматриваемый потенциал взаимодействия электрона с<br />
атомом, который не обладает сродством к электрону, достаточным для<br />
образования связанных состояний электрона, имеет два существенных признака<br />
182
[1] (рис.1). Во-первых, это невысокий потенциальный барьер радиусом R и, во-<br />
вторых, это небольшая потенциальная яма радиусом rо
теоретической механики функции действие S, каковой и является постоянная<br />
Планка по своей физической сути (размерности). Как следует ожидать [3],<br />
распад слабосвязанного состояния электрона вперед, что требуется для эффекта<br />
Рамзауэра, должен происходить при такой энергии электрона, когда при<br />
пролете половины орбиты радиуса rо значение функции действие S для<br />
электрона составит величину h. При значении rо≈4Ǻ, которое следует из данных<br />
по зависимости величины эффекта Рамзауэра и электропроводности Xe от его<br />
плотности [4], такой распад должен происходить при энергии рассеиваемого<br />
электрона ~0,9 эВ [3]. Это значение энергии хорошо согласуется с данными по<br />
эффекту Рамзауэра для Xe [4], а полученная оценка rо≈4Ǻ показывает, что rо<br />
действительно существенно больше величины RА6·10 21 см -3 (рис.2), когда r
Рис.2 – Зависимость величины μen от n для жидкого Xe [4]. ∆ – случай<br />
тепловых электронов; o – случай слабо разогретых электронов, для которых<br />
наблюдается максимум μe из-за проявления эффекта Рамзауэра.<br />
В заключение следует отметить, что рассмотренные особенности<br />
рассеяния электрона на атоме позволяют объяснить некоторые важные явления<br />
электропроводности в среде атомов инертных газов, которые могут быть<br />
полезны при анализе свойств <strong>плазмы</strong> этих газов.<br />
Литература:<br />
1. Друкарев Г.Ф. Столкновения электронов с атомами и молекулами. М: Наука,<br />
1978, 256с.<br />
2. Stepanek J. Electron and positron atomic elastic scattering cross sections //<br />
Radiation Phys. and Chem., 2003, V.66, Iss.2, P.99-116.<br />
3. Бориев И.А. Квантово-динамическая особенность рассеяния электрона на<br />
атоме: объяснение причины эффекта Рамзауэра и явления металлизации<br />
инертных газов под внешним давлением // Тезисы докладов XXXVII<br />
Международной (Звенигородской) конференции по физике <strong>плазмы</strong> и УТС, г.<br />
Звенигород, 8-12 февраля 2010 г., С.280.<br />
4. Huang S.S.-S, Freeman G.R. Electron mobilities in gaseous, critical, and liquid xenon:<br />
Density, electric field, and temperature effects: Quasilocalization // J. Chem. Phys., 1978,<br />
V.68, P.1355-1368.<br />
185
РАЗРАБОТКА СПЕКТРОМЕТРИЧЕСКИХ МЕТОДОВ<br />
ДИАГНОСТИКИ ЭМИССИИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ С<br />
ПОВЕРХНОСТИ, ЕЕ СОСТАВА И СТРУКТУРЫ ПОД<br />
ВОЗДЕЙСТВИЕМ ПОТОКОВ ИОНОВ И ПЛАЗМЫ<br />
Д.В. Иванов, В.А. Курнаев, Н.В. Мамедов, Д.Н. Синельников, Т.А. Стаина<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
В лабораторных установках для исследования взаимодействия <strong>плазмы</strong><br />
ТЯР с поверхностью анализ поверхности после плазменного воздействия<br />
осуществляется «post mortem» путем перемещения образца в специальную<br />
сверхвысоковакуумную аналитическую камеру, оснащенную аналитическим<br />
оборудованием типа Оже-спектроскопии, РФЭС (XPS), ВИМС (SIMS) и т.д.<br />
Реализация каждой из методик требует применения дорогостоящего<br />
оборудования, цена которого составляет сотни тысяч или миллионы долларов.<br />
Именно так производится анализ поверхности после плазменного воздействия<br />
на широко известной установке PISCES [1] в США или на сооружаемой в<br />
настоящее время крупнейшей европейской установке MAGNUM [2].<br />
Противоречие между сверхвысоковакуумными условиями, когда в<br />
процессе анализа на поверхности не происходит сорбции атомов остаточного<br />
газа и других примесей и наличием относительно высокого давления рабочих<br />
газов, сопровождающих нейтрализацию интенсивных ионных или плазменных<br />
потоков при их взаимодействии с мишенью можно преодолеть, используя<br />
спектроскопию ионного рассеяния с применением ионов инертных газов<br />
средних и тяжелых масс.<br />
С помощью установки Большой масс-монохроматор МИФИ [3] можно<br />
осуществить спектроскопию рассеяния рассеяния ионов средней энергии как<br />
легких, так и тяжелых [4], которые позволяют реализовать компонентный<br />
анализ поверхности, структурный ее анализ, а также неразрушающий контроль<br />
толщины пленок при различии атомных номеров атомов пленки и материала<br />
подложки [4,5]. Причем в последнем случае даже использование легких ионов<br />
относительно низких килоэлектронвольтных энергий позволяет осуществить<br />
контроль толщины пленок из легких элементов, например бора и углерода –<br />
типичных примесей на стенках термоядерных установок, возникающих после<br />
186
боронизации стенок на поверхности из тяжелых элементов (Mo, W), с<br />
разрешением в доли ангстрема [6].<br />
Так как камера взаимодействия установки оснащена<br />
высокопроизводительным турбомолекулярным вакуумным насосом<br />
(ТМН 1500), который может обеспечить достаточно низкое давление газа при<br />
его непосредственном напуске в эту камеру или при использовании<br />
дополнительного ионного или плазменного источников, то анализ поверхности<br />
с помощью ионных пучков можно проводить при плазменном или ионном<br />
воздействии (или сразу же после него).<br />
Так, газовый эквивалент ионного потока на мишень моноатомного газа в<br />
1 мА при комнатной температуре эквивалентен 1,7 �10 -4 л�торр, что при<br />
скорости откачки в 1000 л/с обеспечивает давление ~ 2�10 -7 торр. Даже при<br />
газовой эффективности возможного плазменного источника в 10% подобная<br />
скорость откачки позволяет получить приемлемое для различных детекторов<br />
типа вторично-эмиссионных умножителей давление ниже чем 10 -5 торр. - Схема<br />
использования масс-монохроматора для анализа поверхности в присутствии<br />
дополнительного плазменного или ионного источника показана на рис 1. 2<br />
Рис.1.Схема камеры взаимодействия установки «Большой масс монохроматор»: 1- основной<br />
ионный пучок, 2 – плазменная пушка, 3- камера взаимодействия, 4 – плазменный пучок, 5 -<br />
турбомолекулярный насос ТМН 1500, 6 - мишень, 7- электростатический энергоанализатор, 8-<br />
турбомолекулярные насосы Pfeiffer TMU 071 , 9,10 – форвакуумные насосы Varian SH-100, 11 –<br />
вакуумный ввод, 12 – ВЭУ-1.<br />
187
4<br />
1<br />
3<br />
Рис.2. Эскизный проект реализации анализа поверхности при плазменном воздействии на<br />
установке БММ: 1 –малогабаритный плазменный генератор, 2 – диагностический пучок ионов,<br />
3 – отраженный пучок ионов , 4 - камера взаимодействия, 5 – мишень, 6 – подвижный<br />
вакуумный ввод, 7 –шлюзовая камера для замены образцов, 8 – пневматический шибер<br />
В качестве источника <strong>плазмы</strong> предполагается использовать ранее<br />
разработанный встраиваемый модуль с плазменно-пучковым разрядом [8]. Этот<br />
малогабаритный плазменный генератор имеет совместимый с камерой<br />
взаимодействия БММ внешний диаметр (100мм) и может позиционироваться на<br />
разном расстоянии от мишени. Разряд плазменном генераторе осуществляется в<br />
продольном магнитном поле, для создания которого используется находящийся<br />
внутри корпуса водоохлаждаемый соленоид. Особенностью такого генератора<br />
является возможность работы при низком (~ 10 -4 торр) давлении рабочего газа.<br />
Поэтому при выходном отверстии площадью в 1 см 2 поток рабочего газа -<br />
дейтерия (без учета эффекта плазменного затвора) 3�10 -3 л�торр, при котором<br />
давление нейтрального газа в камере взаимодействия не превысит (3-5)�10 -6 торр.<br />
Анализ поверхности мишени с помощью ионного пучка после воздействия<br />
на нее плазмой такого генератора возможен немедленно после выключения<br />
магнитного поля, т.е. в секундном интервале времени. Синхронизация питания<br />
генератора с компьютерным управлением ионным пучком позволят<br />
осуществить это в автоматическом программируемом режиме.<br />
2<br />
5<br />
В качестве анализатора энергетических спектров при реализации методики<br />
спектроскопии ионного рассеяния и ионов отдачи разработан четверть-<br />
сферический дефлектор выносного типа (рис.3) с радиусом центральной<br />
траектории 25 см, для угла полураствора пучка �2 0 его разрешение по энергии<br />
188<br />
8<br />
6<br />
7
менее 0,4%. Кроме того, для спектроскопии ионного рассеяния и ионов отдачи<br />
предполагается использование автономного магнитного спектрометра с<br />
радиусом центральной траектории 20 см, который позволяет проводить анализ<br />
ионов, удовлетворяющих условию EM < 3�10 5 эВ�(а.е.м).<br />
Рис. 3. Четверьсферический дефлектора в сборе: 1 – сверхвысоковакуумная камера, 2 –<br />
система подвеса, 3 – электрический ввод CF16, 4 – переходные фланцы Ду25-CF16, 5 –<br />
переходные фланцы Ду135 – Ду50.<br />
Доклад подготовлен при проведении научно-исследовательской работы в<br />
рамках реализации ФЦП «Научные и научно-педагогические кадры<br />
инновационной России» на 2009 – 2013 годы.<br />
Литература:<br />
1. D.M.Goeble,G.Campbell,R.W.Conn Plasma surface interaction experimental<br />
facility (PISCES) for material and edge physics studies, J Mucl.Mater.121 (1984), 277<br />
2. J.Rapp //Design criteria and status of MAGNUM –PSI //Proc.International<br />
workshop on requirements for next generation PMI stands in fusion research, Oak<br />
Ridge, USA, August 31-September 2,(2010)<br />
3. Курнаев В.А., Мамедов Н.В. Модернизированная установка для<br />
исследования взаимодействия с поверхностью ионов с энергия до 40кэв.<br />
«Краткие сообщения по физике» №4 ( 2010) с.45<br />
4. Курнаев В. А., Машкова Е. С. Молчанов В. А. Отражение легких ионов от<br />
поверхности твердого тела. М.: Энергоатомиздат, 1985. 192c.<br />
5. H. Brongersma, et al, Nucl. Instr. and Meth. B 11-18 (2002) 190.<br />
6. Курнаев В.А., Трифонов Н.Н., М.Н.Дроздов, Салашенко Н.Н., Письма в<br />
ЖТФ, т.25 вып.11 (1999)<br />
7. Вайтонис В.В, Визгалов И.В., Курнаев В.А., Малогабаритный плазменный<br />
генератор, ПТЭ 1999. с 714.<br />
189
СОДЕРЖАНИЕ<br />
И.Большакова, И.Васильевский, Л.Виерербл, Р.Голяка,<br />
И.Дюран, В. Ерашок, Р. Коноплѐва, Я. Кость, С.Куликов,<br />
В.Курнаев, К. Лерой, Е. Макидо, В. Чеканов, Ф. Шурыгин<br />
МАГНИТНАЯ ДИАГНОСТИКА ТОКАМАКОВ НОВОГО<br />
ПОКОЛЕНИЯ: ПРОБЛЕМЫ И РЕШЕНИЯ. 4<br />
М.Матвеева, A.Литновский, L.Marot, B.Eren, V.Philipps,<br />
A.Pospieszczyk, H. Stoschus, Д.Матвеев, U.Samm<br />
ЭРОЗИОННЫЕ ИСПЫТАНИЯ МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ<br />
ДИАГНОСТИЧЕСКИХ ЗЕРКАЛ РЕАКТОРА ITER 9<br />
Е.П.Горбунов, А.А.Петров, В.Г.Петров, Д.С.Сергеев,<br />
Ю.В.Скосырев.<br />
ПРИМЕНЕНИЕ ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОГО РЕФРАКТОМЕТРА 150<br />
ГГц ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ СРЕДНЕЙ ПЛОТНОСТИ ПЛАЗМЫ НА<br />
ТОКАМАКЕ-10 14<br />
А.А.Белокуров, Л.Г.Аскинази<br />
ИССЛЕДОВАНИЕ ДИНАМИКИ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ В<br />
ТОКАМАКЕ ТУМАН-3М С ПОМОЩЬЮ HIBP МЕТОДОМ<br />
ДВУХТОЧЕЧНОГО ЗОНДИРОВАНИЯ 18<br />
M. Zlobinski, V. Philipps, A. Huber, B. Schweer, the TEXTOR<br />
Team et al. Laser Induced<br />
DESORPTION AS TRITIUM RETENTION DIAGNOSTIC METHOD.<br />
STATUS & PLANS FOR EXPERIMENT AND THEORY 22<br />
С.Е.Кривицкий, К.Ю.Вуколов, Т.Р.Мухаммедзянов,<br />
А.Ю.Таранченко<br />
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ПЕРЕОСАЖДЕНИЯ<br />
УГЛЕРОДНЫХ И МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ЗАГРЯЗНЕНИЙ НА<br />
ОПТИЧЕСКИЕ ЭЛЕМЕНТЫ ДИАГНОСТИК ТОКАМАКА ИТЭР 28<br />
Г.С.Воронов, М.С.Бережецкий<br />
ИЗМЕРЕНИЯ И КОНТРОЛЬ СОДЕРЖАНИЯ ИЗОТОПОВ<br />
ВОДОРОДА И ДЕЙТЕРИЯ В ПЛАЗМЕ СТЕЛЛАРАТОРА Л-2М 32<br />
А.М.Бишаев, А.И.Бугрова, И.С.Гордеев, А.И.Денисюк,<br />
М.В.Козинцева, А.С.Липатов, А.С.Сигов, И.А.Тарелкин,<br />
В.А.Терехов<br />
ПОЯС РОГОВСКОГО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ДИАМАГНИТНОГО ТОКА<br />
В МУЛЬТИПОЛЬНОЙ МАГНИТНОЙ ЛОВУШКЕ–ГАЛАТЕЕ<br />
ТРИМИКС -3М 36<br />
И.И.Орловский, К.Ю.Вуколов, С.Н.Тугаринов, Д.К.Вуколов<br />
СОВРЕМЕННЫЙ СТАТУС РАБОТ ПО ПРОБЛЕМЕ ПЕРВОГО<br />
ЗЕРКАЛА ДЛЯ ДИАГНОСТИК H-ALPHA И CXRS 42<br />
А.М.Астафьев<br />
ИССЛЕДОВАНИЕ РАЗРЯДА С ЭЛЕКТРОЛИТНЫМ ЭЛЕКТРОДОМ<br />
ПРИ ТОКЕ ПОРЯДКА ДЕСЯТКОВ АМПЕР (ГАТЧИНСКИЙ РАЗРЯД) 43<br />
190
Ю.Ю.Луценко, В.А.Власов, Е.П.Зеленецкая<br />
ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕМПЕРАТУРЫ ПЛАЗМЫ<br />
ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ЕМКОСТНОГО РАЗРЯДА НА ЕГО<br />
ЭЛЕКТРОДИНАМИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ 48<br />
Ю.В.Ковтун, А.И.Скибенко, Е.И.Скибенко, Ю.В.Ларин,<br />
В.Б.Юферов<br />
ДВУХЧАСТОТНАЯ СВЧ-ФЛУКТУАЦИОННАЯ РЕФЛЕКТОМЕТРИЯ<br />
МНОГОКОМПОНЕНТНОЙ ГАЗОМЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛАЗМЫ 52<br />
И.Ш.Абдуллин, М.Ф.Шаехов, А.А.Хубатхузин, Р.Ф.Шарафеев<br />
ВЛИЯНИЕ ДОПОЛНИТЕЛЬНОГО ПОТЕНЦИАЛА НА<br />
ТЕМПЕРАТУРУ ОБРАЗЦА В ПОТОКЕ ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ<br />
ПЛАЗМЫ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ 56<br />
И.Ш.Абдуллин, А.Н.Быканов, И.Г.Гафаров, О.Е.Ибрагимов<br />
СПЕКТРАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ<br />
ИНДУКЦИОННЫХ РАЗРЯДОВ 60<br />
Е.А.Елистратов, А.П.Кузнецов, С.П.Масленников,<br />
А.А.Протасов<br />
ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ИМПУЛЬСНОГО<br />
НАНОСЕКУНДНОГО РАЗРЯДА В ВОЗДУХЕ АТМОСФЕРНОГО<br />
ДАВЛЕНИЯ 64<br />
Д.В.Мозгрин, Т.В.Степанова, В.И.Тройнов, Г.В.Ходаченко,<br />
А.В.Шумов, И.А.Щелканов<br />
ИССЛЕДОВАНИЕ ИЗЛУЧАТЕЛЬНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК<br />
СИЛЬНОТОЧНОГО ИМПУЛЬСНОГО МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА 68<br />
Л.А.Луценко, А.В.Ильницкая, А.М.Егорова, И.В.Березняк<br />
СОВРЕМЕННЫЕ МЕТОДЫ ДИАГНОСТИКИ ПЛАЗМЕННОГО<br />
АЭРОЗОЛЯ 72<br />
А.В.Бульба<br />
ТОМОГРФИЧЕСКИЙ ПОДХОД В ЗАДАЧЕ 3D РЕКОНСТРУКЦИИ<br />
ПЛАЗМЕННО-ПЫЛЕВЫХ СТРУКТУР 76<br />
В.А.Власов, В.Ф.Мышкин, Д.Л.Гамов, И.А.Ушаков,<br />
А.В.Еремин, В.А.Борисов<br />
ЛАЗЕРНАЯ ДИАГНОСТИКА ДИСПЕРСНОГО УГЛЕРОДА 80<br />
А.А.Пискунов, С.Ф.Подрядчиков, А.Д.Хахаев<br />
МАШИННОЕ ЗРЕНИЕ ДЛЯ ДИАГНОСТИКИ ПОВЕДЕНИЯ<br />
МАКРОЧАСТИЦ В УПОРЯДОЧЕННЫХ СТРУКТУРАХ<br />
КОМПЛЕКСНОЙ ПЛАЗМЫ 83<br />
O.F.Petrov, V.E.Fortov<br />
DUSTY PLASMA LIQUID AS A STRONGLY COUPLED COULOMB<br />
SYSTEM: DIAGNOSTICS AND RESULTS 87<br />
М.Ю.Пустыльник, Л.Ху, А.В.Ивлев, Х.М.Томас, Г.Е.Морфилл,<br />
Л.М.Василяк, В.Е.Фортов<br />
ВОЗМУЩЕНИЕ ЕМКОСТНОГО ВЧ-РАЗРЯДА<br />
ВЫСОКОВОЛЬТНЫМ НАНОСЕКУНДНЫМ ИМПУЛЬСОМ 89<br />
191
С.Л.Шалимов<br />
ДИАГНОСТИКА ИОНОСФЕРНОЙ ПЛАЗМЫ НАД СПРАЙТАМИ НА<br />
СДВ-ТРАССАХ 93<br />
Е.Е.Тимофеев, С.Л.Шалимов ,М.К.Валлинкоски, Й.Кангас<br />
О ПРИРОДЕ ТЕМПЕРАТУРНОЙ АНОМАЛИИ ПЛАЗМЫ ДИНАМО<br />
СЛОЯ АВРОРАЛЬНОЙ ИОНОСФЕРЫ 97<br />
Е.Е.Тимофеев, С.Л.Шалимов ,О.Г.Чхетиани<br />
,М.К.Валлинкоски, Й.Кангас<br />
ТЕПЛОВЫЕ СТРУКТУРЫ ПЛАЗМЫ ПОЛЯРНОЙ ИОНОСФЕРЫ<br />
КАК ПРОЯВЛЕНИЕ НЕУСТОЙЧИВОСТИ ЭКМАНОВСКОГО ТИПА 101<br />
Ю.Д.Котов, А.В.Кочемасов, А.С.Гляненко, В.Н.Юров,<br />
А.И.Архангельский<br />
СПУТНИКОВЫЙ ЭКСПЕРИМЕНТ «ФОКА» ПО РЕГИСТРАЦИИ<br />
МЯГКОГО РЕНТГЕНОВСКОГО И ЭКСТРЕМАЛЬНОГО<br />
УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ СОЛНЕЧНОЙ ПЛАЗМЫ 105<br />
В.К.Гончаров, К.В.Козадаев, Д.В.Щегрикович<br />
ИЗМЕРЕНИЕ ОПТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК<br />
ЛАЗЕРНОИНДУЦИРОВАННЫХ ПЛАЗМЕННЫХ ФАКЕЛОВ<br />
МЕТАЛЛОВ С ВЫСОКИМ ВРЕМЕННЫМ РАЗРЕШЕНИЕМ 107<br />
А.Н.Митрофанов, А.Я.Фаенов, А.В.Виноградов, Т.А.Пикуз<br />
ОПРЕДЕЛЕНИЕ ПРОСТРАНСТВЕННЫХ, СПЕКТРАЛЬНЫХ И<br />
КОГЕРЕНТНЫХ СВОЙСТВ ПУЧКА МЯГКОГО РЕНТГЕНОВСКОГО<br />
ИЗЛУЧЕНИЯ ЛАЗЕРА НА СВОБОДНЫХ ЭЛЕКТРОНАХ ЗА ОДНО<br />
ИЗМЕРЕНИЕ ДИФФРАКЦИОННОЙ КАРТИНЫ 111<br />
В.А.Бураков, М.В.Осипов, В.Н.Пузырев, А.Н.Стародуб,<br />
О.Ф.Якушев<br />
ИССЛЕДОВАНИЕ РЕНТГЕНОВСКИХ СПЕКТРОВ<br />
МНОГОЗАРЯДНЫХ ИОНОВ ЛАЗЕРНОЙ ПЛАЗМЫ 116<br />
Э.И.Додулад, А.П.Кузнецов, С.А.Саранцев<br />
ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ УСЛОВИЙ<br />
ИНИЦИИРОВАНИЯ НА ДИНАМИКУ ПЛАЗМЫ СИЛЬНОТОЧНОЙ<br />
ВАКУУМНОЙ ИСКРЫ НА УСТАНОВКЕ «ПИОН» 120<br />
О.А.Бялковский, Р.О.Гаврилин, А.А.Голубев, К.Л.Губский,<br />
А.П.Кузнецов, В.И.Туртиков, А.В.Худомясов, А.Д. Фертман<br />
ДВУХВОЛНОВЫЙ КВАДРАТУРНЫЙ ИНТЕРФЕРОМЕТР ДЛЯ<br />
ДИАГНОСТИКИ ПЛАЗМЕННОЙ МИШЕНИ В ЭКСПЕРИМЕНТАХ<br />
ПО ТОРМОЖЕНИЮ ТЯЖЕЛЫХ ИОНОВ В ИОНИЗОВАННОМ<br />
ВЕЩЕСТВЕ 123<br />
А.П.Кузнецов, А.С.Савѐлов, О.А.Бялковский, С.А.Саранцев,<br />
И.Ф.Раевский<br />
ИССЛЕДОВАНИЕ ЭРОЗИОННОГО КАПИЛЛЯРНОГО РАЗРЯДА В<br />
ВОЗДУХЕ АМОСФЕРНОГО ДАВЛЕНИЯ МЕТОДАМИ ТЕНЕВОГО<br />
ФОТОГРА-ФИРОВАНИЯ 127<br />
192
И.Ю.Скобелев, А.Я.Фаенов, Т.А.Пикуз<br />
СПЕКТРЫ МНОГОЗАРЯДНЫХ ПОЛЫХ ИОНОВ В<br />
РЕНТГЕНОВСКОМ ИЗЛУЧЕНИИ СВЕРХПЛОТНОЙ ЛАЗЕРНОЙ<br />
ПЛАЗМЫ 131<br />
Ю.Л.Бакшаев, С.А.Данько, Е.Е.Соколов, К.В.Чукбар<br />
ИМПУЛЬСНЫЙ БОЛОМЕТР В ИЗМЕРЕНИЯХ МЯГКОГО<br />
РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В СИЛЬНОТОЧНОМ Х-ПИНЧЕ. 135<br />
Д.Л.Кирко, А.С.Савелов, Э.И.Додулад<br />
ИЗУЧЕНИЕ СПЕКТРАЛЬНОГО СОСТАВА ИЗЛУЧЕНИЯ НИЗКОИН-<br />
ДУКТИВНОЙ ВАКУУМНОЙ ИСКРЫ 139<br />
О.А.Башутин, Е.Д.Вовченко, Э.И.Додулад, С.А.Саранцев<br />
МЕТОДИКА РЕГИСТРАЦИИ РЕНТГЕНОВСКИХ ОБСКУРОГРАММ<br />
МИКРОПИНЧЕВОГО РАЗРЯДА С ПОМОЩЬЮ ПЗС КАМЕРЫ 141<br />
Е.Д.Вовченко, К.И.Козловский, А.В.Самарин, А.С.Цыбин,<br />
А.Е.Шиканов<br />
ИССЛЕДОВАНИЕ ПЛАЗМЕННОЙ РАЗРЯДНОЙ СИСТЕМЫ С<br />
ПОЛЫМ КАТОДОМ И ИНЕРЦИОННО-ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКИМ<br />
УДЕРЖАНИЕМ ИОНОВ 144<br />
А.М.Жукешов, А.У.Амренова, А.Т.Габдуллина,<br />
Т.Е.Нурланбаев<br />
ДИАГНОСТИКА ПЛАЗМЫ В КОАКСИАЛЬНОМ УСКОРИТЕЛЕ И<br />
ОБРАБОТКА МАТЕРИАЛОВ ИМПУЛЬСНЫМ ПОТОКОМ 146<br />
А.С.Савелов, Г.Х.Салахутдинов<br />
МЕХАНИЗМЫ ОБРАЗОВАНИЯ ВЫСОКОЭНЕРГЕТИЧНОГО<br />
РЕНТГЕ-НОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО<br />
ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО РАЗРЯДА 150<br />
С.Б.Заякина, Г.Н.Аношин<br />
СОВРЕМЕННЫЙ АТОМНО-ЭМИССИОННЫЙ СПЕКТРАЛЬНЫЙ<br />
АНАЛИЗ (КРАТКИЙ ОБЗОР К 150-ЛЕТИЮ МЕТОДА) 154<br />
С.П.Тимошенков, Е.П.Прокопьев, Н.М.Зарянкин,<br />
А.С.Тимошенков, И.М.Бритков, О.М.Бритков; С.С.Евстафьев,<br />
А.И.Виноградов<br />
АНАЛИЗ ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИХ МОДЕЛЕЙ СКОРОСТИ РОСТА<br />
ПЛЕНОК a � Si : H В СИЛАНОВЫХ ПЛАЗМЕННЫХ СМЕСЯХ<br />
ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ 157<br />
Е.А.Вещев, Л.Берталот, С.Путвинский<br />
ДИАГНОСТИКА ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ПОТЕРЬ АЛЬФА ЧАСТИЦ В<br />
ИТЕРЕ 161<br />
А.В.Дунаев, С.А.Пивоваренок, С.П.Капинос, А.М.Ефремов,<br />
В.И.Светцов<br />
СПЕКТРАЛЬНЫЙ КОНТРОЛЬ ПРОЦЕССА ТРАВЛЕНИЯ GaAs В<br />
ПЛАЗМЕ HCl 163<br />
193
Д.А.Жестилевский, С.А.Румянцев, С.А.Соломатин, Н.М.Сухов,<br />
З.И.Мошнина, Е.Д.Вовченко, А.С.Савѐлов, М.В. Мошнин<br />
ЛАЗЕРНАЯ ПУФА-ТЕРАПИЯ. ОБРАЗОВАНИЕ СШИВОК ДНК ПОД<br />
ДЕЙСТВИЕМ УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ АЗОТНОГО<br />
ЛАЗЕРА В ПРИСУТСТВИИ 8-МОП c 167<br />
Д.В.Ситанов, М.Ю.Ивентичев, В.И.Светцов<br />
ПРИМЕНЕНИЕ РЕЛАКСАЦИОННОЙ ИМПУЛЬСНОЙ МЕТОДИКИ<br />
ДЛЯ ИЗУЧЕНИЯ ГЕТЕРОГЕННОЙ РЕКОМБИНАЦИИ АТОМОВ В<br />
ПЛАЗМЕ ХЛОРА НА ТВЕРДЫХ ПОВЕРХНОСТЯХ 171<br />
В.Ф.Туганов<br />
ИНТЕГРАЛЫ СТОЛКНОВЕНИЙ В ЛИНЕАРИЗОВАННЫХ ПО<br />
ПОЛЮ КИНЕТИЧЕСКИХ УРАВНЕНИЯХ: РЕГУЛЯРНЫЙ МЕТОД<br />
ИХ НАХОЖДЕНИЯ ИЛИ «ВТОРИЧНАЯ ЛИНЕАРИЗАЦИЯ»<br />
НУЛЕВОГО ПРИБЛИЖЕНИЯ 175<br />
В.Ф.Туганов<br />
ИНТЕГРАЛ СТОЛКНОВЕНИЙ ЛОРЕНЦЕВОЙ ПЛАЗМЫ И ЭФФЕКТ<br />
КРАМЕРСА-ГИНЗБУРГА 179<br />
И.А.Бориев<br />
КВАНТОВО-ДИНАМИЧЕСКАЯ ОСОБЕННОСТЬ УПРУГОГО<br />
РАССЕЯНИЯ ЭЛЕКТРОНА НА АТОМЕ: ОБЪЯСНЕНИЕ ПРИЧИНЫ<br />
ЭФФЕКТА РАМЗАУЭРА И СИЛЬНОГО РОСТА<br />
ЭЛЕКТРОПРОВОДНОСТИ ИНЕРТНЫХ ГАЗОВ ПРИ ИХ ВЫСОКОЙ<br />
ПЛОТНОСТИ 182<br />
Д.В. Иванов, В.А. Курнаев, Н.В. Мамедов, Д.Н. Синельников,<br />
Т.А.Стаина<br />
РАЗРАБОТКА СПЕКТРОМЕТРИЧЕСКИХ МЕТОДОВ<br />
ДИАГНОСТИКИ ЭМИССИИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ С<br />
ПОВЕРХНОСТИ, ЕЕ СОСТАВА И СТРУКТУРЫ ПОД<br />
ВОЗДЕЙСТВИЕМ ПОТОКОВ ИОНОВ И ПЛАЗМЫ 186<br />
СОДЕРЖАНИЕ 190<br />
194
МАТЕРИАЛЫ<br />
VII РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ<br />
Современные средства диагностики<br />
<strong>плазмы</strong> и их применение для контроля<br />
веществ и окружающей среды<br />
Москва, НИЯУ МИФИ,<br />
30 ноября-2 декабря 2010 г.<br />
Редакционная коллегия:<br />
В. А. Курнаев<br />
А. С. Савѐлов<br />
Э.И. Додулад<br />
ISBN 978-5-7262-1379-8<br />
Подписано в печать 26.11.2010 Формат 60х84 1/16<br />
Уч.изд.л. 12,2 Печ.л. 12,2 Тираж 150 экз.<br />
Изд. № 005-3 Заказ 233<br />
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»<br />
Типография НИЯУ МИФИ. 115409, Москва, Каширское ш., 31<br />
195