Tehnologii mixte pentru micro/nano structuri si sisteme fotonice ... - IMT

More documents

Recommendations

Info

Scriere directa cu fascivul laser in fotorezistDetaliul minim: 600 nm (limitadata de echipament)Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale side comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
EBLRetele de difractie din PMMA :-perioada 200nm (linii de 100nm).Retea de difractie (linii de500nm) in Si obtinuta prinEBL si corodare in plasmaIMTSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale side comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Page 1 and 2: Contract: 16 CEEX I 03 INFOSOC /200
Page 3 and 4: ObiectiveScop principal :Dezvoltare
Page 5 and 6: Management retea de laboratoare de
Page 7 and 8: Procese de microprelucrare material
Page 9 and 10: Straturi subtiri Sol-gelFilme oxidi
Page 11 and 12: Straturi subtiri Sol-gelFilme oxidi
Page 13 and 14: Sraturi subtiri oxidiceMetode de de
Page 15: Tehnici de configurarePhotoresist (
Page 19 and 20: Tehnici de simulare/proiectare asis
Page 21 and 22: INTEGRARETehnologia siliciului + te
Page 23 and 24: Circuit fotonic integrat pentru int
Page 25 and 26: Fotodetector rapid cu raspuns spect
Page 27 and 28: ArticoleDiseminare1. P. Obreja, D.C
Page 29: Cooperari internationaleParticipare

Tehnologii mixte pentru micro/nano structuri si sisteme fotonice ... - IMT

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

Delete template?

Save as template?