Tehnologii mixte pentru micro/nano structuri si sisteme fotonice ... - IMT
Tehnologii mixte pentru micro/nano structuri si sisteme fotonice ... - IMT
Tehnologii mixte pentru micro/nano structuri si sisteme fotonice ... - IMT
- No tags were found...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
Contract: 16 CEEX I 03 INFOSOC /2005Coordonator: <strong>IMT</strong> BucurestiDirector de proiect: Dr.ing. Dana CristeaBuget proiect: 1425000 lei + 75000 lei cofinantarePerioada de derulare: octombrie 2005-septembrie 2008Adresa web: www.imt.ro/fotontech
ParteneriInstitutul National de Cercetare-Dezvoltare <strong>pentru</strong> Microtehnologie(<strong>IMT</strong>-Bucuresti)- Laboratorul de <strong>micro</strong>fotonicaInstitutul National de Cercetare-Dezvoltare <strong>pentru</strong> Fizica Laserilor,Plasmei <strong>si</strong> Radiatiilor , Bucuresti, (INFLPR)- Departamentul laseriUniver<strong>si</strong>tatea "Politehnica" din Bucuresti - Centrul de Cercetari<strong>pentru</strong> optoelectronicia (UPB-CCO) Institutul de Chimie- Fizica "I.G. Murgulescu" al Academiei Romane -Laboratorul de stiinta materialelor oxidice (ICF)Univer<strong>si</strong>tatea "A.I. Cuza" din Ia<strong>si</strong> (UAIC)ICEPALV S.ASimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
ObiectiveScop principal :Dezvoltarea de tehnologii <strong>mixte</strong> <strong>pentru</strong> <strong>micro</strong>/<strong>nano</strong> <strong>structuri</strong> <strong>si</strong><strong>si</strong>steme <strong>fotonice</strong> integrate cu aplicatii in comunicatii,ObiectiveCrearea unei retele de laboratoare de cercetare in domeniultehnologiilor <strong>mixte</strong> <strong>pentru</strong> <strong>micro</strong>/<strong>nano</strong> <strong>structuri</strong> <strong>fotonice</strong>Dezvoltarea de tehnologii <strong>mixte</strong> <strong>pentru</strong> <strong>micro</strong>/<strong>nano</strong> fotonica, pe baza denoi procese <strong>si</strong> materiale <strong>si</strong> pe concepte avansate de <strong>structuri</strong>.Diseminare <strong>si</strong> instruireCooperari internationaleAria tematica din FP7: 3.1. Pilonii tehnologiei ICT, 3.1.1. Sisteme<strong>nano</strong>electronice, <strong>fotonice</strong> <strong>si</strong> <strong>micro</strong>/<strong>nano</strong>-<strong>si</strong>steme integrate.Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Nr.crt.Denumirea indicatoruluiNr. de indicatoriplanificatiNr. de indicatori realizai1Studii332Proiecte343Prototipuri4<strong>Tehnologii</strong> - ME3 procesetehnologice5 procese5Produse informatice6Ali indicatori specifici programului-numar de <strong>si</strong>steme/<strong>structuri</strong> realizate/aplicate/implementate31 structuradispozitiv+2 <strong>si</strong>steme- numar de servicii noi/modernizate/aliniate/aplicate/valorificate7Articole publicate in tara128Articole publicate in strainatate299Brevete propuse/acceptate-10Carti publicate in tara-511Carti publicate in strainatate-212Comunicari stiintifice8>3613Propuneri de proiecte transmise la programe internationalecu tematica rezultata din proiectul derulat1314Propuneri de proiecte internationale aprobate cu tematicarezultata din proiectul derulat3Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Management retea de laboratoare de cercetareLaboratoare de cercetare din2 institute nationale: INCD - Microtehnologie, INCD –Fizica Laserilor,Plasmei <strong>si</strong> a Radiatiilor ),1 institut al academiei (ICF),2 univer<strong>si</strong>tati ( UPB, UAIC-Ia<strong>si</strong>) <strong>si</strong>1 institut de cercetare privat (IC-PALV SA) cu expertize <strong>si</strong> resursecomplementare in domeniul proiectarii, tehnologiei <strong>si</strong> carcaterizarii<strong>micro</strong>/<strong>nano</strong> <strong>structuri</strong>lor <strong>fotonice</strong> cu aplicatii in comunicatii.Activitati:inventarierea resurselor <strong>si</strong> up-gradare dotari, achizitionare de noiechipamente <strong>pentru</strong> domeniul <strong>nano</strong>tehnologiilor;constituirea unei platforme comune <strong>si</strong> competitive <strong>pentru</strong>caracterizare materiale, procese, <strong>micro</strong>/<strong>nano</strong> <strong>structuri</strong> <strong>fotonice</strong>cooperari internationale.Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Dezvoltare procese tehnologice Dezvoltare procese tehnologice individualeProcese tehnologice pe SiTehnologia straturilor subtiriStraturi subtiri oxidiceProcese sol-gelPolmeri<strong>Tehnologii</strong> de configurareNoi procese litograficePatternare cu laser Dezvoltare noi tehnici de proiectere/<strong>si</strong>mulare Integrare procese <strong>mixte</strong>Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Procese de <strong>micro</strong>prelucrare materiale semiconductoareProcesare plachete SOI:corodare Si in plasma + corodare umeda SiO 2S-au experimentat <strong>si</strong> optimizat procese tehnologice de realizare <strong>micro</strong><strong>structuri</strong> <strong>pentru</strong>componente <strong>si</strong> <strong>micro</strong><strong>si</strong>steme <strong>fotonice</strong> (<strong>micro</strong>oglinzi, membrane, cantilevere, ghidurioptice) prin <strong>micro</strong>prelucrarea plachetelor de tip SOI („<strong>si</strong>licon on insulator”)s-a pus la punct procesul de corodare in plasma a <strong>si</strong>liciului pe noulechipament achizitionat;s-a optimizat procesul de corodare umeda a dioxidului de <strong>si</strong>liciu<strong>pentru</strong> realizarea <strong>structuri</strong>lor suspendate.Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Procese de <strong>micro</strong>prelucrare materiale semiconductoareStructuri suspendate realizate pe plachete SOI(<strong>IMT</strong>)ghid de unda din<strong>si</strong>liciu- latime 2µm<strong>micro</strong>-oglinda mobilacu latura de 50 µm<strong>pentru</strong> “free spaceinterconnections”Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Straturi subtiri Sol-gelFilme oxidice <strong>si</strong> hibride in <strong>si</strong>stemul SiO 2 -TiO 2 dopate cupamanturi rare - Er 2 O 3 depuse pe <strong>si</strong>liciu oxidat <strong>si</strong> configurate (umedsau in plasma) <strong>pentru</strong> obtinerea de circuite <strong>fotonice</strong>SamplePrecursorROH------------------------------------------------Σ precursorRaport molarH2O------------------------------------------------Σ precursorcatalizator------------------------------------------------Σ precursorpHExperimentalconditionT 0 Ct (h)1Si(OC 2H 5) 4+Ti(OC 2H 5) 4+ErCl 39.11.850.01743503Metoda de depunere: dip coating, viteza de scoatere 5cm/min.spin coating - 2500 rpm.substrat: plachete Si oxidatTratament <strong>pentru</strong> den<strong>si</strong>ficare: 900°C cu rata de crestere atemperaurii 5°C/minICF + <strong>IMT</strong>Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Straturi subtiri Sol-gelFilme oxidice <strong>si</strong> hibride in <strong>si</strong>stemul SiO 2 -TiO 2 dopate cuSampleDepo<strong>si</strong>tionsnumberpamanturi rare - Er 2 O 30.4d(A)SiO 2(%)TiO 2(%)Voids(%)STE11172088.695.086.23STE44436089.589.311.11STE77940389.7410.060.2STE10101423489.999.62ICF + <strong>IMT</strong>Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Straturi subtiri Sol-gelFilme oxidice <strong>si</strong> hibride in <strong>si</strong>stemul SiO 2 -TiO 2 dopate cu pamanturirare - Er 2 O 3n1.5521.5441.5361.5281.5201.5121.5041.4961.4880.40 0.45 0.50 0.55 0.60 0.65 0.70 0.75λ (µm)ste0dste1dste2dste3dste4d<strong>micro</strong>rezonatoare inelare din SiO 2-TiO 2dopat cu Er 2O 3configurat fotolitografic <strong>si</strong> corodate:a - solutie "buffered oxide etch" , b - plasmaabDisper<strong>si</strong>a indicelui de refractie <strong>pentru</strong>filmele de SiO 2-TiO 2-Er 2O 3depuse prinimer<strong>si</strong>e pe suport de SiO 2/SiPropagarearadiatiei culungimea de unda1550 nm printr-unghid liniarICF + <strong>IMT</strong>Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Sraturi subtiri oxidiceS-au obtinut <strong>si</strong> caracterizat straturi subtiri transparente <strong>si</strong> conductive de:ZnO (metoda "spin coating“).ITO (metoda evaporarii termice in vid)Influenta naturii substratului asupra: (a) transmitantei; (b) reflectantei <strong>si</strong> indiceluide refractie <strong>pentru</strong> straturi subtiri de oxizi transparenti <strong>si</strong> conductivi.UAICSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Sraturi subtiri oxidiceMetode de depunere: Reactive RF magnetron sputteringTiO2 Substrat de sticla incalzitla 250C; Amestec de Ar+O2 (0,1Pa) ;Gaz reactiv – oxigen (0,03 Pa) Puterea RF – 100W;SiO2Tinta de Ti Tinta Si (111); Amestec de Ar, O2; Timpul de depunere – 90 min., 120 min.Straturi subtiri de SiO2 <strong>si</strong> TiO2Gro<strong>si</strong>mea – 200nm, 400nmFilmele subtiri sunt <strong>nano</strong>structurate cu<strong>nano</strong>cristale intr-o matrice amorfa;- Filmele de TiO2 sunt de tip anatas- Este evidenta influenta substratului;- Suprafata este neteda cu rugozitate medie<strong>nano</strong>metricaSiO2/glass, RMS = 0,5nmTiO2/glass RMS =1,19 nmSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Structuri multistratStructuri multistrat Ag/ perechi multiple SiO2/TiO2/Ag10090Transmitanta (%)8070605040Ag (16s)Ag (25s)Filtru (16s)Filtru (25s)MaterialIndicele derefractieDomeniuldetransparenta, [nm]Energiabenziiinterzise,[eV]3020SiO 21,56200 - 30003,35 – 4,310TiO 2anatas2,59 – 2,52450 - 50003,200 100 200 300 400 500 600 700 800 900Lungimea de unda (nm)TiO 2rutil2,93 – 2,73450 - 50003Dependenta spectrala a transmitantei<strong>structuri</strong>lor multistrat Ag/SiO2/TiO2/SiO2/TiO2/ SiO2/TiO2/Ag <strong>si</strong> <strong>pentru</strong> straturide Ag depuse in timpi diferitiSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Tehnici de configurarePhotore<strong>si</strong>st (AZ, SU8, etc.)Electronore<strong>si</strong>st (PMMA, SU8)Photo-lithographyOrDirect Laser writingEBL – feature <strong>si</strong>ze < 1µmSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Scriere directa cu fascivul laser in fotorezistDetaliul minim: 600 nm (limitadata de echipament)Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
EBLRetele de difractie din PMMA :-perioada 200nm (linii de 100nm).Retea de difractie (linii de500nm) in Si obtinuta prinEBL <strong>si</strong> corodare in plasma<strong>IMT</strong>Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Inscriptionare cu laser in polimeriLaserExpandorTintaObturatorLentilaINFLPRSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Tehnici de <strong>si</strong>mulare/proiectare a<strong>si</strong>stata de calculatorPrograme comerciale: OptiFDTD; OptiBPM, OptiGrating <strong>pentru</strong> <strong>si</strong>mulare/proiectare circuite <strong>fotonice</strong>Modulator termo-opticaPropagarea radiatiei intr-un interferometru in cazul in care exista o diferenta detemperatura intre ghidurile de pe cele doua brate: a)T = 0; b)T = 4 K.bSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Microrezonator circularAplicatii: WDM (wavelength divi<strong>si</strong>on multiplexing)Raspunsul spectral - Iref(λ) al<strong>micro</strong>rezonatorului circular <strong>pentru</strong>doua valori ale razei inelului.Inten<strong>si</strong>tatea0.80.70.6R = 19930 nm0.5R = 19940 nm0.40.30.20.101.547 1.548 1.549 1.55 1.551Lungimea de unda [µm]Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
INTEGRARETehnologia <strong>si</strong>liciului + tehnologia straturilor subtiri oxidice (straturi multipleFotodetector rapid cu raspuns spectral selectiv(fotodioda pe Si integrata cu filtru interferential)Tehnologia <strong>si</strong>liciului + tehnologia polimerilorCircuit fotonic integrat <strong>pentru</strong> interconexiuni opticeSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Circuit fotonic integrat <strong>pentru</strong> interconexiuni opticeLay-outSectiune prin structuraSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Circuit fotonic integrat <strong>pentru</strong> interconexiuni opticeFlux tehnologicSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Circuit fotonic integrat <strong>pentru</strong> interconexiuni opticeGhid de undaFotodiodajonctiuneap+npaduriImagini ale fotodiodei integrate cu ghidul de unda din PMMAPropagarea radiatiei prin ghidurile de unda utilizate <strong>pentru</strong> conexiunioptice optice intra-cipSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Fotodetector rapid cu raspuns spectral selectivSectiune transversala prin structura de fotodetectorrapid de tip PIN cu raspuns spectral selectiv.1-contact de baza ; 2- strat difuzat p+ ; 3 – stratepitaxial de tip p ; 4 – zona difuzata n+ ;5 – filtrul optic multistrat ; 6 – SiO2 ; 7 – contact de Al.Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Activitati de instruireInstruire studenti- specializarea optoelectronica , MOEMS (UPB-CCO; <strong>IMT</strong>- colaborare: ore de laboratorPrograme de master- Optoelectronica- organizat de UPB-CCO; <strong>IMT</strong>- colaborator (2 cursuri:Circuite <strong>fotonice</strong> integrate; tehnologii pt. MOEMS)- Tehnologia straturilor subtiri- organizat de UAICPrograme doctorat- UPB-CCO <strong>si</strong> <strong>IMT</strong> colaboratorParticiparea tinerilor cercetatori/doctoranzi la scoli internationale:- ePixnet School , martie 2007-Elvetia <strong>si</strong> mai 2008- Italia- “New frontiers in optical technologies” organizata de Centrul decercetari optoelectronice (ORC) al Univer<strong>si</strong>tatii Tehnologice dinTampere, FinlandaSimpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
ArticoleDiseminare1. P. Obreja, D.Cristea, E. Budianu, R. Rebigan, V. Kuncser, M. Bulinski, G. Filoti“ Effect of dopants on the phy<strong>si</strong>calproperties of polymer films for <strong>micro</strong>photonics”, Progress in Solid State Chemistry 34 92-40, 2006 p.103-109,2. Dana Cristea, Paula Obreja, Mihai Kusko, Elena Manea, Roxana Rebigan, „ Polymer <strong>micro</strong>machining for <strong>micro</strong>- and<strong>nano</strong>photonics”, Materials Science and Engineering - C 26(5-7), (2006), p. 1049-10553. F. Iacomi, I. Salaoru, N. Apetroaei, A. Va<strong>si</strong>le , C.M. Teodorescu, D. Macovei, "Phy<strong>si</strong>cal characterization of CdMnS<strong>nano</strong>crystalline films grown by thermal evaporation technique", Journal of Optoelectronics and AdvancedMaterials, vol.8, (2006), p.268-270.4. Felicia Iacomi, M. Va<strong>si</strong>lescu, S. Simon, "Studies of MnS Cluster Formation In Laumontite Zeolite", SurfaceScience 20065. V.Kuncser, M.Bulinsky, S.Kratwald, D.Cristea, P.Palade, C.Plapcianu, G.Filoti– Optical and electronic properties of(Fe+Sb):PVA for real time holography, Journal of optoelectronics and advanced materials 8 (2006), p.1225-1229.6. M. Purica, F. Iacomi, C. Baban, P. Prepelita, N. Apetroaei, D. Mardare and D. Luca, Investigation of structuralproperties of ITO thin films depo<strong>si</strong>ted on different substrates, Thin Solid Films, 515, (2007), pp. 8674-86787. F. Iacomi, M. Purica, E. Budianu, P. Prepelita and D. Macovei, Structural studies on some doped CdS thin filmsdepo<strong>si</strong>ted by thermal evaporation, Thin Solid Films, 515, 2007, Pp.6080-60848. P. Obreja, D. Cristea, M. Purica, R. Gavrila, F. Comanescu, Polymers doped with metal oxide <strong>nano</strong>particles withcontrolled refractive index, Polymery 52 (2007), p.679-685.9. Mihai Kusko and Dana Cristea Theoretical and numerical analy<strong>si</strong>s of the <strong>micro</strong>ring resonator refractometers, Proc.SPIE Advanced Topics in Optoelectronics, Microelectronics and Nanotechnologies, Vol. 6635, (2007), p.663504 (8 pagini)10. E. Budianu, M. Purica, F. Iacomi, C. Baban, P. Prepelita and E. Manea , Silicon metal-semiconductor–metalphotodetector with zinc oxide transparent conducting electrodes, Thin Solid Films, 516 (2008), pp 1629-163311. M.Kusko, A.Kapsalis, C. Kusko, D.Alexandropoulos, D. Cristea, D. Syvridis , De<strong>si</strong>gn of <strong>si</strong>ngle-mode verticallycoupled <strong>micro</strong>ring resonators J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10 (2008).Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
DiseminareCarti O. Iancu, I. Cristea, Memorii <strong>fotonice</strong> de mare capacitate / ISBN 973-685-877-4, MATRIX-ROM, 2005 Adrian Manea, Sisteme optice <strong>pentru</strong> comunicatii / ISBN 973-755-007-2, MATRIX-ROM,2006 Paul Schiopu, Velizar Sorescu, Senzori <strong>si</strong> traductoar, MATRIX-ROM, 2006e Valentin Feies, Andrei Dragulinescu, Optoelectronica. Probleme / ISBN (10) 973-755-024-2, ISBN (13) 978-973-755-024-8, MATRIX-ROM, 2006 Monica Nadasan, Paul Schiopu Cristale <strong>si</strong> pensete <strong>fotonice</strong> / ISBN (10) 973-755-052-8,ISBN (13) 978-973-755-052-1 MATRIX-ROM, 2006Ovidiu , Iancu, Adrian Manea, Paul Schiopu, Advanced Topics in Optoelectronics,Microelectronics, and Nanotechnologies II / ISSN 0277-786X, ISBN 0-8194-5991-7, SPIE-The International Society for Optical Engineering, SUA, 2005 Lucrari prezentate la conferinte internationale- peste 36: E-MRS IUMRS ICEM 2006Spring Meeting- Nice, France; E-MRS Fall Meeting 2006- Varsovia, Polonia-;International Conference Advanced Topics in Optoelectronics, Microelectronics andNanotechnologies ATOM-N 2006- Bucuresti; WAPITI/PICMOS Sympozium, 7-8December 2006, Halle, Germania; CAS 2006 <strong>si</strong> 2007; European Conference onIntegrated Optics, April 25-27, 2007, Copenhagen, Denmark; European Conferenceand Exhibition on Optical Communication - ECOC 2007 September 16-20, 2007 -Berlin, Germany; XIVth Internaional Sol-Gel Conference, September 2-7, 2007,Montpellier, Frana; Semiconductor Laser Workshop 2007, Berlin, September 14-152nd European Optical Society Topical Meeting, Capri (Napoli), Italia, 30 September– 3 October 2007, EMRS Spring Meeting 2008Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Cooperari internationaleParticipare in proiecte europene FP6: WAPITI, 4M, PATENT, ASSEMIC, 4M;Proiecte europene castigate in perioada de derularea contractului Integrated Biophotonics Polymer Chip – Fea<strong>si</strong>bility study(colaborare cu FZK, Karlsruhe, Germania)- Proiect finantat in cadrulretelei de excelenta 4M• Proiect de colaborare bilaterala cu Italia- Trento Univ. – domeniul“<strong>nano</strong>photonics”FP7: MIMOMEMS (Centru de excelenta European in RF <strong>si</strong> OpticalMEMS)- perioada de derulare 2008-20011Simpozionul ”Rezultatele cercetarii romanesti in domeniul tehnologiilor informationale <strong>si</strong>de comunicatii obtinute in cadrul Programului CEEX - Modulul 1” , Iunie 2008
Change language