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Estruturas de barreira dupla de PbTe/PbEuTe ... - mtc-m17:80 - Inpe

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<strong>de</strong> BD <strong>de</strong> <strong>PbTe</strong>/<strong>PbEuTe</strong> foi crescido com a estrutura programada para espaçadores <strong>de</strong> 120 Å,poço <strong>de</strong> 50 Å, <strong>barreira</strong>s entre 25 e 1000 Å e camadas <strong>de</strong> cobertura <strong>de</strong> 360 Å.A caracterização estrutural das amostras crescidas foi realizada pela análise dos espectros <strong>de</strong>difração <strong>de</strong> raios X <strong>de</strong> alta resolução, medidos em torno do pico <strong>de</strong> Bragg (222). Para se obteros parâmetros estruturais, os espectros foram calculados usando as equações <strong>de</strong> Takagi-Taupine comparados com as medidas na varredura ω/2Θ. Através do melhor ajuste, a espessuraindividual das camadas constituintes das estruturas <strong>de</strong> BD foi <strong>de</strong>terminada com precisão.Obteve-se uma boa correlação entre as espessuras nominais e as <strong>de</strong>terminadas por raios X,exceto para espessuras menores que 10 nm, on<strong>de</strong> uma discrepância <strong>de</strong> até 40% foi observada.O parâmetro <strong>de</strong> re<strong>de</strong> da camada Pb 1-x Eu x Te obtido no processo <strong>de</strong> simulação correspon<strong>de</strong>u aconcentração <strong>de</strong> európio x ~ 0,05, em concordância com o valor nominal e o obtido por FTIR.Além disto, a análise por raios X revelou que a camada buffer <strong>de</strong> <strong>PbTe</strong> com 3 µm <strong>de</strong> espessuraencontra-se completamente relaxada, que interfaces bem abruptas foram obtidas nocrescimento MBE, e que para as <strong>barreira</strong>s <strong>de</strong> até 1000 Å, as camadas <strong>de</strong> Pb 0,95 Eu 0,05 Te ficamcompletamente tencionadas às camadas <strong>de</strong> <strong>PbTe</strong> <strong>de</strong>ntro das estruturas <strong>de</strong> BD.O sistema para a medição da característica IxV foi montado, com base no método <strong>de</strong> quatropontos. O sistema se mostrou a<strong>de</strong>quado à medição <strong>de</strong> resistores <strong>de</strong> precisão e, inclusive, daresistência negativa em um diodo túnel comercial. A caracterização elétrica dos dispositivos<strong>de</strong> BD em estrutura mesa mostraram o comportamento ôhmico nas curvas IxV, confirmando aeficiência da dopagem <strong>de</strong> Bi das camadas <strong>de</strong> contato. Eventuais efeitos <strong>de</strong> retificação nascurvas IxV foram associados ao processo <strong>de</strong> soldagem dos fios <strong>de</strong> Au com In. Efeitos <strong>de</strong>tunelamento ressonante não foram observados em nenhuma das medidas obtidas. A primeira esegunda <strong>de</strong>rivadas das curvas IxV mostraram feições que variavam aleatoriamente entre si<strong>de</strong>scartando a possibilida<strong>de</strong> <strong>de</strong> ocorrência <strong>de</strong> efeitos <strong>de</strong> tunelamento mesmo que sutis. Acorrente <strong>de</strong> fuga superficial pelas bordas da mesa foi consi<strong>de</strong>rada a principal hipótese para anão <strong>de</strong>tecção <strong>de</strong> efeitos <strong>de</strong> tunelamento ressonante em <strong>dupla</strong>s <strong>barreira</strong>s <strong>de</strong> <strong>PbTe</strong>/<strong>PbEuTe</strong>. Estefato foi comprovado pela diferença entre os valores <strong>de</strong> resistência por área para dispositivos <strong>de</strong>119

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