Estruturas de barreira dupla de PbTe/PbEuTe ... - mtc-m17:80 - Inpe

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As máscaras utilizadas para deposição de Au são mostradas na Figura 5.11. No lado esquerdoestá representada a máscara utilizada para o topo da mesa e no lado direito a destinada à base.As partes em branco representam as áreas vazadas de modo a permitir a deposição de Ausobre a amostra de BD. As máscaras possibilitam a fabricação de 9 estruturas mesa em cadapastilha de 15x15 mm 2 , sendo 4 delas com diâmetro de 1 mm e área de 7,85x10 -3 cm 2 e 5 comdiâmetro de 0,3 mm e área de 7,07x10 -4 cm 2 . A identificação dos dois tipos de dispositivosserá feita utilizando-se a letra P, para os dispositivos de área menor, e G, para os dispositivosde área maior, na terminação da identificação das amostras de BD.A deposição de Au foi realizada no sistema de evaporação por feixe de elétrons, Eletron BeamEdwards Auto 306. Para isso, foram fabricados porta-amostras especificamente desenhadospara esta finalidade. A parte anterior do porta-substrato contém um sistema mola que, emcontato com a parte da pastilha não depositada, pressiona o filme contra a máscara. Cadaporta-substrato contém uma máscara específica. Dois porta-substrato estão representados naFigura 5.12.(a) (b) (c)FIGURA 5.12 – Fotografias dos porta-substrato com as máscaras utilizadas para deposição deAu. A foto (a) mostra a parte frontal do porta-substrato com a máscara paradeposição no topo da mesa. Em (b) encontra-se a visão anterior do portasubstratocom o sistema de molas para fixação e a máscara para deposição nabase da mesa. A foto (c) mostra a visão lateral do aparato com a estrutura emU deslocada.110
No lado esquerdo, a face frontal do porta-substrato, exposta à deposição, é mostrada com amáscara para o topo da mesa. Do lado direito, a parte anterior de outro porta-substrato édestacada. Presa a dois parafusos laterais está a mola, que pressiona a pastilha de BaF 2 . Aparte superior, de toda a estrutura, em forma de U é móvel e é comprimida contra o restante doporta-substrato por uma mola. Na Figura 5.12, é possível observar dois furos adjacentes naparte superior das fotos. Nestes furos a mola é fixada unindo a parte frontal e anterior doporta-substrato.A amostra foi introduzida no sistema de evaporação, fixando-se o porta-substrato na bandejade deposição. Em seguida a câmara foi evacuada até a pressão de 2x10 -5 mbar. A deposição deAu foi monitorada por um oscilador de quartzo, operacional no sistema Edwards Auto 306, apartir do qual se extraiu uma taxa de deposição de 200 Å/min. Filmes de 2000 Å de Au foramdepositados para todos os contatos.Após a deposição de Au no topo da estrutura mesa, a amostra foi submetida ao ataque químicoem solução de ácido bromídrico Br 2 :HBr:H 2 O, na proporção de 1:100:100. Nesta concentraçãoa solução apresenta uma taxa de corrosão média de 2 μm/min (BARROS, 2004). As amostrasforam totalmente submersas na solução corrosiva durante 30 seg e logo em seguida lavadascom água. Medidas de perfilometria obtidas no DekTak Alpha Step 500, instalado noLAS/INPE, confirmaram a taxa de corrosão conferindo à estrutura mesa uma altura média de1 μm.Depois do ataque químico a amostra foi colocada no outro porta-substrato para a deposição docontato elétrico da base. O casamento da área previamente depositada com Au e a novamáscara é orientado pelos quatro furos mais externos e simetricamente dispostos, comuns aosdois tipos de máscara. Posteriormente, fios de Au de 0,05 mm de espessura foram soldados notopo e na base da estrutura mesa com In, com a pastilha sobre uma chapa aquecida até atemperatura de 160 o C. Finalmente, o dispositivo é posicionado no porta-amostra e os fios de111
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