Estruturas de barreira dupla de PbTe/PbEuTe ... - mtc-m17:80 - Inpe

A estrutura de barreira dupla de PbTe/PbEuTe foi construída segundo o diagrama mostrado naFigura 5.1. A espessura de cada camada que compõe o filme é conseqüência do tempo deabertura dos obturadores das células de efusão. O tempo de abertura dos obturadores édeterminado a partir da taxa de crescimento, segundo os parâmetros de fabricação adotados. Apartir dos dados extraídos da construção das amostras de referência, determinou-se uma taxade crescimento média de 2,0 Å/s, referente às amostras BD4019 - BD4051 e 2,5 Å/s para asamostras BD4098 - BD4104. A partir destas taxas, determinaram-se os tempos de abertura dosobturadores para cada célula, conforme os valores relatados na Tabela 5.4. Os tempos deabertura dos obturadores foram inseridos no programa Visual Basic, que controla o sistema decrescimento MBE, cada qual associado às células utilizadas no crescimento da camadaespecífica. Optou-se por utilizar o programa após a construção da camada Buffer de PbTe-n + ,já que esta não necessita da mesma precisão e agilidade no controle dos obturadores.Determinados os tempos de abertura dos obturadores das células de efusão, iniciaram–se osprocedimentos de fabricação. O tratamento térmico do substrato antes da deposição seguiu osmesmos procedimentos descritos na seção 5.1. Em cada crescimento foram utilizados doissubstratos dispostos simetricamente sobre o porta amostras de nióbio, de forma que sejamformados dois filmes gêmeos. As temperaturas das células e seus respectivos fluxos podem serverificadas na Tabela 5.3. A metodologia adotada no crescimento das estruturas de barreiradupla, a partir do ponto em que o substrato encontra-se dentro da câmara de crescimento,seguiu o seguinte procedimento:(1) Aquecimento das células de PbTe, Te(1) e Bi 2 Te 3 até as respectivas temperaturas paracrescimento da camada buffer;(2) Espera de aproximadamente 15 min para estabilização da temperatura das células, depoisde atingidas as temperaturas ajustadas;103