Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...
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com baixa <strong>de</strong>nsida<strong>de</strong>. Além disso, esta também garantiu a ausência <strong>de</strong> qualquer espécie <strong>de</strong><br />
N2 utilizado na etapa anterior, que po<strong>de</strong>ria estar preso na interface óxido/semicondutor.<br />
Em seguida, realizou-se a oxidação úmida propriamente dita. Para tanto, utilizou-se um<br />
sistema borbulhador <strong>de</strong> O2/H2O. Tal sistema consiste em utilizar um jato <strong>de</strong> O2 para<br />
empurrar as moléculas <strong>de</strong> H2O vaporizadas para <strong>de</strong>ntro do forno sob as lâminas. Esta foi<br />
conduzida com uma taxa <strong>de</strong> 63 gotas <strong>de</strong> água por minuto. Por fim, o sistema borbulhador<br />
foi <strong>de</strong>sligado e ativou-se um fluxo <strong>de</strong> N2. Terminado a oxidação, a espessura do óxido<br />
formado foi <strong>de</strong>terminada utilizando-se um interferômetro.<br />
Litografia e <strong>de</strong>finição das regiões <strong>de</strong> fonte e dreno<br />
Seguidamente, com o intuito <strong>de</strong> formar-se as áreas para a implantação iônica <strong>de</strong> 31 P + e<br />
as conseguintes regiões<strong>de</strong>fonteedreno,realizou-seoprimeirodosseteprocessosprevistos<br />
<strong>de</strong> fotolitografia (Figura 2.8 (c) e (d)). Para tanto, cerca <strong>de</strong> 7 gotas da fotoresina positiva<br />
AZ 1350 J foram aplicadas sobre a superfície das lâminas. A aplicação <strong>de</strong>sta foi realizada<br />
em sala limpa (classe 100) com umida<strong>de</strong> relativa controlada em torno <strong>de</strong> 50 %. Éimpor-<br />
tante lembrar que a umida<strong>de</strong> neste caso <strong>de</strong>sempenha um papel importante na a<strong>de</strong>rência<br />
da fotoresina sobre o substrato, uma vez que umida<strong>de</strong>s muito altas, isto é, maior do que<br />
60%, não permitem com que o polímero tenha uma boa fixação neste. Além <strong>de</strong>sta, todas<br />
as etapas seguintes foram conduzidas em sala limpa classe 100 com luz amarela <strong>de</strong>vido a<br />
sensibilida<strong>de</strong> da fotoresina àluzvisível. Posteriormente, as lâminas com a fotoresina foram<br />
levadas até um spinner (marca Headway Research Inc.) e conseqüentemente rotacionadas<br />
por 40 segundos a 7000 rpm. Esta última etapa é essencial pois permite uma melhor dis-<br />
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