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a caracterização elétrica das mesmas. Para tanto, mediu-se as espessuras das lâminas utilizando-se um micrômetro digital Mitutoyo Absolute da marca Mitutotyo Crop. e em seguida realizou-se a medida de resistência destas empregando-se o medidor de 4 pontas Milliohmeter 503 (Keithley Instruments). Cumprida esta etapa, as lâminas foram então submetidas a um processo de limpeza conhecido como limpeza RCA. A execução desta foi conduzida imergindo-se verticalmente as lâminas de Si por períodos específicos dentro de cada uma das soluções descritas abaixo. O objetivo do uso de cada uma destas, assim como a sua sequência é descrito a seguir: Etapa I Esta etapa consiste no uso de uma solução de ácido sulfúrico (H2SO4) concentrado e água oxigenada (H2O2) 30% na proporção de 4:1, respectivamente. Esta solução étambém conhecida como solução ”piranha”e tem a finalidade de efetuar a remoção de impurezas de natureza orgânica das lâminas de silício. Para tanto, as lâminas foram mergulhadas nesta por 10 minutos e após, lavadas em água deionizada (ρ>18 MΩ.cm) corrente durante aproximadamente 3 minutos e depois deixadas em repouso em água por mais 3 minutos paraaremoção de todo o ácido utilizado no processo. Durante este tratamento, o H2O2 tem a função de oxidar a superfície da lâmina, e portanto, adsorver através do óxido formado possíveis impurezas presentes na superfície do Si. O H2SO4 por sua vez, tem a função de dissolver este óxido formado removendo as possíveis impurezas da superfície da lâmina. 71
Etapa II Esta etapa consiste no uso de uma solução diluída de ácido fluorídrico (HF) em água na proporção de 1:10, respectivamente. Esta solução tem como função retirar qualquer tipo de óxido que esteja presente na lâmina. Para tanto, a lâmina foi imergida nesta solução por 30 segundos e após, lavada em água deionizada por 3 minutos e então deixada em repouso novamente em água deionizada por mais 3 minutos. Etapa III Esta etapa consiste na utilização de uma solução mista de hidróxido de amônia (NH4OH) concentrada, água oxigenada 30% e água deionizada na proporção de 1:1:5, respectivamente. Novamente, a utilização da água oxigenada causa a oxidação do silício promovendo assim, a eliminação de possíveis compostos orgânicos e também de alguns metais adsorvi- dos na lâmina. A utilização específica de NH4OH neste processo é devido a sua capacidade de reagir com metais e também formar substâncias solúveis (ex.: sais) quando em reação com espécies orgânicas (na maioria ácidos graxos). Para tanto, as lâminas foram mergulhadas nesta solução por aproximadamente 10 minutos sendo após, lavadas em água deionizada durante 3 minutos e deixadas em repouso também em água por mais 3 minutos. Neste processo de limpeza também há a formação de uma camada fina de óxido. Etapa IV Esta etapa consiste no uso de uma solução de ácido clorídrico (HCl) concentrado, água oxigenada 30% e água deionizada na proporção de 1:1:5, respectivamente. Esta mistura 72
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Agradecimentos Ao Instituto de Qu
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5. TRABALHOS FUTUROS • Como etapa
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Referências Bibliográficas [1] B.
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[77] T. Fujimoto, S. Terauchi, H. U
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[92] A. Poghossian, M. H. Abouzar,
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