Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...

om grau de cobertura, assim como a possibilidade de metalização de diversas lâminas
simultaneamente. Já nametalização por PVD, o metal a ser depositado é aquecido até
sua fusão e consequente evaporação por algum método físico como um feixe de elétrons,
aquecimento de uma resistência ou mesmo por rádio-frequência (RF). Todo este processo
é realizado dentro de uma câmara fechada, onde o metal evaporado irá ser depositado
por todas as partes, inclusive sobre o substrato. No CCS, ambos métodos de metalização
estão disponíveis. No processo por PVD as duas formas disponíveis para evaporação de
alumínio são, a evaporação térmica e a por feixe de elétrons.
Metalização por Feixe de Elétrons
Para a metalização por feixe de elétrons, utiliza-se um planetário onde as lâminas
de Si são dispostas. Com as lâminas presas neste e com um cadinho contendo barras
de alumínio altamente puro ( 99,999%), incide-se através de um canhão de elétrons um
feixe destes sobre as barras de alumínio, com o aquecimento o metal funde e evapora por
toda a câmara (planetário) sendo assim depositado sobre todas as lâminas. Durante a
evaporação, o planetário é mantido em rotação com o intuito de obter-se uma camada
de alumínio de melhor uniformidade sobre as lâminas. Os inconvenientes deste processo
estão relacionados ao seu mais alto custo em comparação com a evaporadora térmica. O
feixe de elétrons utilizado neste processo causa a quebra de ligações no alumínio e gera
uma radiação ionizante, a qual pode causar a ionização do SiO2, gerando portanto cargas
móveis dentro deste. Todavia, a vantagem deste processo é que ele fornece um material
de altíssima pureza (99,999%), pois não causa o aquecimento da câmara, e portanto,
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