Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...

de campo escuro apresentam seus padrões não preenchidos pela camada de cromo, e logo
o desenho na máscara está em uma região transparente desta. Ao passo que máscaras de
campo claro possuem apenas seus padrões recobertos com a camada de cromo, estando
orestantedamáscara transparente. A diferença entre elas está diretamente ligada às
fotoresinas utilizadas durante os processos de litografia. Estas, também são divididas em
dois tipos: Resinas positivas e resinas negativas. A diferença básica entre elas é a sua
natureza química e consequentemente sua reatividade após exposição a luz ultra-violeta.
Genericamente, fotoresinas positivas tornam-se solúveis em solventes específicos após a
sua exposição à luz UV, isto pois, a energia dos fótons proveniente desta última é capaz
de romper ligações na cadeia polimérica tornando-a assim menor e consequentemente
aumentando sua solubilidade. Já as fotoresinas negativas, quando expostas a luz UV
tornam-se insolúveis devido as reações químicas produzidas pela interação da luz com as
cadeias poliméricas. Comumente, a insolubilidade destas aumenta pois a interação das
moléculas do polímero com os fótons da luz UV resulta na formação de ligações cruzadas
(cross-linking) entre as cadeias poliméricas. Na Figura 2.4 é mostrado um esquema do
processo de litografia utilizando fotoresinas positivas e negativas.
Convencionalmente, o processo de fotogravação inicia-se com a aplicação de forma
homogênea da fotoresina desejada sobre o substrato no qual se pretende transferir os
padrões da máscara. Esta etapa normalmente é realizada com ajuda de um spinner. Após
um processo de pré-cura, o substrato éentão levado à fotoalinhadora para a realização do
processo de fotogravação. Nesta, a máscara contendo os padrões pode ser disposta de duas
formas sobre o substrato, isto é, ela pode ficar em contato direto com o material ou em
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