Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...

contato elétrico, e até mesmo a formação de canais microfluídicos. Entre as várias técnicas
de litografia existentes atualmente, a mais comum nos laboratórios de microfabricação éa
litografia óptica. Esta, utiliza luz ultra-violeta (UV) normalmente com comprimentos de
onda entre 200 nm e 400 nm. Para a sua realização, utiliza-se fotoalinhadoras equipadas
com lâmpadas de Hg ou Xe de alta potência. Em adição, é a resolução destas que define as
dimensões mínimas dos padrões que podem ser transferidos para um substrato. Na Figura
2.3 é apresentada uma foto de uma das fotoalinhadoras disponíveis no CCS e utilizada
durante a fabricação dos transistores. Os padrões a serem transferidos utilizando esta,
são projetados normalmente em programas CAD e posteriormente transferidos para um
substrato que atuará comomáscara litográfica.
Figura 2.3: Fotoalinhadora Karl Suss MJB 3 com uma lâmpada de Hg de 200 W e λ de
405 nm equipada com um microscópio SUSS M 204.
Tipos de máscaras e fotoresinas
Usualmente, as máscaras utilizadas são formadas por materiais a base de quartzo, sendo
um dos seus lados recobertos com uma camada de cromo. Adicionalmente, as máscaras de
litografia podem ser classificadas em máscaras de campo escuro ou campo claro. Máscaras
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