Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...
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Figura 1.9: Efeito pinch-off.<br />
<strong>de</strong> sua resistência e ocasionando o seu estrangulamento 24 .<br />
No caso da porta do transistor ser recoberta com uma solução contendo íons com cargas<br />
negativas, como uma solução alcalina por exemplo, as consi<strong>de</strong>rações acima a respeito do<br />
comportamento elétrico do ISFET são válidas somente até uma certa extensão, ou seja,<br />
oacúmulo <strong>de</strong> íons com cargas negativas na porta do transistor promoverá também um<br />
acúmulo <strong>de</strong> lacunas (cargas positivas) na superfície do semicondutor (ψs < 0) e como<br />
consequência um aumento na região <strong>de</strong> <strong>de</strong>pleção entre os terminais <strong>de</strong> fonte e dreno.<br />
Como resultado, nenhum canal <strong>de</strong> condução é formado e o transistor é dito estar no modo<br />
<strong>de</strong>sligado, pois nenhuma corrente id flui entre fonte e dreno. Estas consi<strong>de</strong>rações são<br />
invertidas quando o ISFET em questão édotipoPMOS 23,24 .<br />
1.5 Como Modular a Função Trabalho <strong>de</strong> um ISFET<br />
Como visto anteriormente, a formação <strong>de</strong> um canal condutor em um ISFET é <strong>de</strong>pen-<br />
<strong>de</strong>nte do potencial que as espécies em uma solução exercem sobre a porta do dispositivo.<br />
Para que o transistor esteja no modo ”ligado”, é necessário que este potencial seja maior<br />
que a sua tensão limiar. Isto significa que o funcionamento do ISFET po<strong>de</strong> ser controlado<br />
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