Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...
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planasejaalcançada, um potencial correspon<strong>de</strong>nte a diferença <strong>de</strong> função trabalho qΦms<br />
<strong>de</strong>ve ser aplicado. Aplicando-se um potencial negativo <strong>de</strong> banda plana (VFB)aometal,<br />
tem-se 23<br />
VFB = qΦms<br />
Desta maneira, os potenciais <strong>de</strong> superfície assim como os níveis <strong>de</strong> Fermi do metal e<br />
do semicondutor se igualam, e qualquer perturbação neste conduz para um curvamento<br />
das bandas, causando assim <strong>de</strong>pen<strong>de</strong>ndo da natureza eletrostática da perturbação, uma<br />
acumulação ou <strong>de</strong>pleção dos portadores na superfície do semicondutor.<br />
1.4 Transistores <strong>de</strong> Efeito Campo - Modo <strong>de</strong> Operação<br />
Baseado nos conceitos <strong>de</strong>scritos anteriormente, épossível agora avaliar o comporta-<br />
mento elétrico <strong>de</strong> dispositivos como MOSFETs e ISFETs baseando-se na modulação <strong>de</strong><br />
suas funções trabalho. Para um ISFET, o modo <strong>de</strong> operação neste caso, <strong>de</strong>pen<strong>de</strong>rá da<br />
natureza química da solução sobre a porta do transistor. Isto é, se uma solução con-<br />
tendo íons com cargas positivas, como uma solução ácida por exemplo, recobrir a porta<br />
<strong>de</strong> um ISFET do tipo NMOS sem eletrodo <strong>de</strong> porta, cargas positivas se acumularão na<br />
superfície do óxido que recobre a porta <strong>de</strong>ste, como consequência, os portadores <strong>de</strong> carga<br />
positiva (lacunas) no semicondutor ten<strong>de</strong>m a sofrer repulsão da região superficial da porta<br />
<strong>de</strong>ixando esta levemente menos positiva, isto é, mais negativa. Adicionalmente, o campo<br />
elétrico criado pela acumulação das cargas positivas na superfície do óxidoatraitambém<br />
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