Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...
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on<strong>de</strong> t representa a espessura das lâminas utilizadas, neste caso esta foi <strong>de</strong> 325 µm, (V/I)<br />
aresistência das mesmas e o valor <strong>de</strong> 4,53 é um fator <strong>de</strong> correção inerente ao método <strong>de</strong><br />
medida <strong>de</strong> resistência por quatro pontas 23 . Este último, éométodo mais comum e o mais<br />
bem conceituado para a medida <strong>de</strong> resistivida<strong>de</strong>, pois nele quatro pontas <strong>de</strong> tungstênio são<br />
igualmente espaçadas lado a lado, on<strong>de</strong> duas <strong>de</strong>stas (pontas externas) servem para aplicar<br />
uma corrente (I) constante, enquanto que as outras duas (pontas internas) me<strong>de</strong>m a tensão<br />
(V) gerada por essa corrente. Este método é mais acurado que o <strong>de</strong> duas pontas, uma vez<br />
que este último apresenta interferências <strong>de</strong> contato e propagação <strong>de</strong> corrente durante as<br />
medidas.<br />
A partir do valor da resistivida<strong>de</strong>, calculou-se então o valor da resistência <strong>de</strong> folha,<br />
também conhecida como a resistência <strong>de</strong> substratos finos uniformes, utilizando-se para<br />
tanto a seguinte equação 23 :<br />
Rs = ρ<br />
t<br />
(Eq.24)<br />
A concentração inicial <strong>de</strong> impurezas foi <strong>de</strong>terminada através da equação 25 23 :<br />
NA,D = 1<br />
qρµp,n<br />
(Eq.25)<br />
Nesta, os termos q, µp,n representam a carga do elétron e a mobilida<strong>de</strong> das lacunas que<br />
é <strong>de</strong> aproximadamente 435 cm 2 /V.s, respectivamente. Na Tabela 3.1 são mostrados os<br />
resultados <strong>de</strong>stes.<br />
Conforme esta, o valor <strong>de</strong> resistivida<strong>de</strong> encontrada está <strong>de</strong>ntro da faixa fornecida pelo<br />
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