Universidade Estadual de Campinas Instituto de Qu´ımica ...
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para assegurar que todo o TCE utilizado anteriormente fosse eliminado. Adicionalmente,<br />
as lâminas foram expostas a N2 (passos 6 e 7) para corrigir e eliminar possíveis cargas<br />
presas no óxido, bem como para garantir a reconstrução da re<strong>de</strong> cristalina das lâminas.<br />
Terminado este processo, mediu-se as espessuras do óxido utilizando-se um elipsômetro.<br />
Terceira etapa <strong>de</strong> litografia e corrosão do óxido das regiões <strong>de</strong> fonte e dreno<br />
O terceiro processo <strong>de</strong> fotolitografia para a <strong>de</strong>finição <strong>de</strong> canal (porta) e contatos (fonte<br />
e dreno), foi então realizado. As condições experimentais <strong>de</strong>ste foram as mesmas realizadas<br />
nas etapas <strong>de</strong> litografia anteriores, com a excessão que nesta a fotoresina utilizada foi o<br />
AZ 5214-E, a qual após 30 segundos à 7000 rpm ren<strong>de</strong>u uma camada <strong>de</strong> polímero <strong>de</strong><br />
aproximadamente 1,4 µm <strong>de</strong> espessura sobre as lâminas. O processo <strong>de</strong> pré-cura <strong>de</strong>sta foi<br />
realizado em chapa <strong>de</strong> aquecimento a 100 o C durante 60 segundos e seu tempo <strong>de</strong> exposição<br />
na fotoalinhadora foi <strong>de</strong> 25 segundos. A revelação foi também executada utilizando o<br />
revelador AZ 312 MIF diluído em águanaproporção <strong>de</strong> 1:1. Ressalva-se que a utilização<br />
<strong>de</strong>sta fotoresina que também é positiva e não a da AZ 1350 J, foi <strong>de</strong>vido a sua melhor<br />
resolução, ou seja, como a região da porta <strong>de</strong>veria ser protegida com o polímero, este <strong>de</strong>ve<br />
apresentar uma espessura muito fina após o processo <strong>de</strong> rotação no spinner, espessura tal,<br />
que somente éalcançada utilizando-se o AZ 5214-E. Após estas, realizou-se um processo <strong>de</strong><br />
pós-cura. Este processo foi executado colocando-se as lâminas numa chapa <strong>de</strong> aquecimento<br />
a 120 o C durante 60 segundos. Esse procedimento foi necessário para melhorar a a<strong>de</strong>rência<br />
e a resistência mecânica e química da fotoresina. O próximo passo consistiu na corrosão<br />
do óxido sobre os contatos <strong>de</strong> fonte e dreno. Para tanto, repetiu-se o mesmo processo<br />
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