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egiões abertas durante a corrosão. Oxidação seca e formação do óxido de porta Abertas as regiões de porta, fonte e dreno, a etapa seguinte consistiu no crescimento de uma fina camada de óxido sobre estas (Figura 2.8(i)). Para isto, realizou-se a oxidação seca conforme as seguintes condições descritas na Tabela 2.3. Tabela 2.3: Processo de oxidação de porta, fonte e dreno Ambiente Tempo(min) N2 5 N2 5 O2 5 O2 + 1% TCE 30 O2 5 N2 30 5 N2 O processo descrito na Tabela 2.3 pode ser resumido da seguinte maneira: os dois primeiros passos, referente a aplicação de N2, tiveram a mesma finalidade que já foi apresentada anteriormente, ou seja, o primeiro caso é objetivando a limpeza do forno e, o segundo caso, garantir um recozimento da rede cristalina. O passo 3, aplicação de O2 durante um tempo de estabilização de 5 minutos, teve como finalidade garantir que só houvesse O2 no forno antes de começar o processo de oxidação seca com TCE (tricloroetileno). Feito isso, executou-se o processo de oxidação seca propriamente dito. Esse passo foi realizado durante 30 minutos para que fosse possível o crescimento do óxido, bem como para que houvesse a passivação, utilizando-se o TCE, de certas cargas presentes neste (cargas móveis). Em seguida, fez-se novamente a aplicação de O2 (passo 5) ao processo 81
para assegurar que todo o TCE utilizado anteriormente fosse eliminado. Adicionalmente, as lâminas foram expostas a N2 (passos 6 e 7) para corrigir e eliminar possíveis cargas presas no óxido, bem como para garantir a reconstrução da rede cristalina das lâminas. Terminado este processo, mediu-se as espessuras do óxido utilizando-se um elipsômetro. Terceira etapa de litografia e corrosão do óxido das regiões de fonte e dreno O terceiro processo de fotolitografia para a definição de canal (porta) e contatos (fonte e dreno), foi então realizado. As condições experimentais deste foram as mesmas realizadas nas etapas de litografia anteriores, com a excessão que nesta a fotoresina utilizada foi o AZ 5214-E, a qual após 30 segundos à 7000 rpm rendeu uma camada de polímero de aproximadamente 1,4 µm de espessura sobre as lâminas. O processo de pré-cura desta foi realizado em chapa de aquecimento a 100 o C durante 60 segundos e seu tempo de exposição na fotoalinhadora foi de 25 segundos. A revelação foi também executada utilizando o revelador AZ 312 MIF diluído em águanaproporção de 1:1. Ressalva-se que a utilização desta fotoresina que também é positiva e não a da AZ 1350 J, foi devido a sua melhor resolução, ou seja, como a região da porta deveria ser protegida com o polímero, este deve apresentar uma espessura muito fina após o processo de rotação no spinner, espessura tal, que somente éalcançada utilizando-se o AZ 5214-E. Após estas, realizou-se um processo de pós-cura. Este processo foi executado colocando-se as lâminas numa chapa de aquecimento a 120 o C durante 60 segundos. Esse procedimento foi necessário para melhorar a aderência e a resistência mecânica e química da fotoresina. O próximo passo consistiu na corrosão do óxido sobre os contatos de fonte e dreno. Para tanto, repetiu-se o mesmo processo 82
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Agradecimentos Ao Instituto de Qu
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5. TRABALHOS FUTUROS • Como etapa
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Referências Bibliográficas [1] B.
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[77] T. Fujimoto, S. Terauchi, H. U
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[92] A. Poghossian, M. H. Abouzar,
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