Листа на стоки и технологии со двојна употреба

Листа на стоки и технологии со двојна употреба Листа на стоки и технологии со двојна употреба

12.07.2015 Views

помала од 10 % 3σ измерена без ширината на работ од 2 mmили помала;d. Опрема со хемиско таложење од гасна фаза (CVD) засилено соплазма како што следува:1. Опрема која работи на принципот касета наспроти касета иполнење-блокирање и која е проектирана во согласност соспецификациите на производителот или е оптимизираназа употреба во производството на полупроводнички уредисо критични димензии од 65 nm или помали;2. Опрема посебно проектиранa за опрема контролирана во3B001.e. и проектирана согласно со спецификациите напроизводителот или е оптимизирана за употреба вопроизводството на полупроводнички уреди со критичнидимензии од 65 nm или помали;e. Системи за обработка на автоматско полнење наповеќекоморна централна плочка, кои ги имаат сите следниособини:1. Имаат интерфејси за влез и излез на плочка, кон која сепроектирани да се приклучат повеќе од две функционалноразлични „полупроводливи процесни алатки’ определениво 3B001.a., 3B001.b., 3B001.c., или 3B001.d.; и2. Проектирани се на начин на кој формираат интеграленсистем во вакуумска средина за ‘последователнаповеќекратна обработка на плочката’;Забелешка: 3B001.e. не контролира автоматски роботичкисистеми за ракување со плочка посебнопроектирани за паралелна обработка на плочката.Технички забелешки:1. За целите на 3B001.e., ‘полупроводливи процесни алатки’ сеоднесува на модуларни алатки кои обезбедуваат физичкипроцеси за производство на полупроводници кои сефункциоално различни, како на пример депозиција,гравирање, имплант или термална обработка.2. За целите на 3B001.e., ‘последователната повеќекратнаобработка на плочка’ е способноста за обработка на секојаплочка во различни “полупроводливи процесни алатки’, какона пример со пренесување на секоја плочка од една алатка до206

втората алатка и на третата алатка со автоматско полнење нацентралните системи за ракување со плочка со повеќекомотри.f. Опрема за литографија, како што следува:1. Опрема за порамнување и фаза на експозиција иповторување (директна фаза на плочката), или чекор искенирање, со користење фотооптички методи илирендгенски зраци и има кои било од следниве особини:a. Извор на светлина со бранова должина пократка од 245nm; илиb. Можност за призводство на шаблон со ‘минимумразрешена карактеристика’ (MRF) со големина од 95 nmили помала;Техничка збелешка:Големината на ‘минимум разрешена карактеристика’ (MRF)се пресметува според следнава формула:( бранова должина на изворот на изложувачка светлина)× ( фактор К)МРФ =нумерички отворкаде фактор K = 0,352. Литографска опрема за отисок способна за производствона карактеристики од 95 nm или помалку;Забелешка: 3B001.f.2. опфаќа:— Микроконтактни алатки за печатењеТопли алатки за релјеф— Литографски алатки за нано-отисоци— Чекори и инструменти за блиц Литографскопечатење (S-FIL)3. Опрема посебно проектирана за изработка на маски или заобработка на полупроводнички уреди со употреба наметоди на пишување, кои ги имаат следниве особини:a. Со користење на отстапка на фокусиран електрони207

помала од 10 % 3σ <strong>и</strong>змере<strong>на</strong> без ш<strong>и</strong>р<strong>и</strong><strong>на</strong>та <strong>на</strong> работ од 2 mm<strong>и</strong>л<strong>и</strong> помала;d. Опрема <strong>со</strong> хем<strong>и</strong>ско таложење од гас<strong>на</strong> фаза (CVD) зас<strong>и</strong>лено <strong>со</strong>плазма како што следува:1. Опрема која работ<strong>и</strong> <strong>на</strong> пр<strong>и</strong>нц<strong>и</strong>пот касета <strong>на</strong>спрот<strong>и</strong> касета <strong>и</strong>полнење-блок<strong>и</strong>рање <strong>и</strong> која е проект<strong>и</strong>ра<strong>на</strong> во <strong>со</strong>гласност <strong>со</strong>спец<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>кац<strong>и</strong><strong>и</strong>те <strong>на</strong> про<strong>и</strong>звод<strong>и</strong>телот <strong>и</strong>л<strong>и</strong> е опт<strong>и</strong>м<strong>и</strong>з<strong>и</strong>ра<strong>на</strong>за <strong>употреба</strong> во про<strong>и</strong>зводството <strong>на</strong> полупроводн<strong>и</strong>чк<strong>и</strong> уред<strong>и</strong><strong>со</strong> кр<strong>и</strong>т<strong>и</strong>чн<strong>и</strong> д<strong>и</strong>менз<strong>и</strong><strong>и</strong> од 65 nm <strong>и</strong>л<strong>и</strong> помал<strong>и</strong>;2. Опрема посебно проект<strong>и</strong>ранa за опрема контрол<strong>и</strong>ра<strong>на</strong> во3B001.e. <strong>и</strong> проект<strong>и</strong>ра<strong>на</strong> <strong>со</strong>гласно <strong>со</strong> спец<strong>и</strong>ф<strong>и</strong>кац<strong>и</strong><strong>и</strong>те <strong>на</strong>про<strong>и</strong>звод<strong>и</strong>телот <strong>и</strong>л<strong>и</strong> е опт<strong>и</strong>м<strong>и</strong>з<strong>и</strong>ра<strong>на</strong> за <strong>употреба</strong> вопро<strong>и</strong>зводството <strong>на</strong> полупроводн<strong>и</strong>чк<strong>и</strong> уред<strong>и</strong> <strong>со</strong> кр<strong>и</strong>т<strong>и</strong>чн<strong>и</strong>д<strong>и</strong>менз<strong>и</strong><strong>и</strong> од 65 nm <strong>и</strong>л<strong>и</strong> помал<strong>и</strong>;e. С<strong>и</strong>стем<strong>и</strong> за обработка <strong>на</strong> автоматско полнење <strong>на</strong>повеќекомор<strong>на</strong> централ<strong>на</strong> плочка, ко<strong>и</strong> г<strong>и</strong> <strong>и</strong>маат с<strong>и</strong>те следн<strong>и</strong>о<strong>со</strong>б<strong>и</strong>н<strong>и</strong>:1. Имаат <strong>и</strong>нтерфејс<strong>и</strong> за влез <strong>и</strong> <strong>и</strong>злез <strong>на</strong> плочка, кон која сепроект<strong>и</strong>ран<strong>и</strong> да се пр<strong>и</strong>клучат повеќе од две функц<strong>и</strong>о<strong>на</strong>лноразл<strong>и</strong>чн<strong>и</strong> „полупроводл<strong>и</strong>в<strong>и</strong> процесн<strong>и</strong> алатк<strong>и</strong>’ определен<strong>и</strong>во 3B001.a., 3B001.b., 3B001.c., <strong>и</strong>л<strong>и</strong> 3B001.d.; <strong>и</strong>2. Проект<strong>и</strong>ран<strong>и</strong> се <strong>на</strong> <strong>на</strong>ч<strong>и</strong>н <strong>на</strong> кој форм<strong>и</strong>раат <strong>и</strong>нтеграленс<strong>и</strong>стем во вакуумска сред<strong>и</strong><strong>на</strong> за ‘последовател<strong>на</strong>повеќекрат<strong>на</strong> обработка <strong>на</strong> плочката’;Забелешка: 3B001.e. не контрол<strong>и</strong>ра автоматск<strong>и</strong> робот<strong>и</strong>чк<strong>и</strong>с<strong>и</strong>стем<strong>и</strong> за ракување <strong>со</strong> плочка посебнопроект<strong>и</strong>ран<strong>и</strong> за паралел<strong>на</strong> обработка <strong>на</strong> плочката.Техн<strong>и</strong>чк<strong>и</strong> забелешк<strong>и</strong>:1. За цел<strong>и</strong>те <strong>на</strong> 3B001.e., ‘полупроводл<strong>и</strong>в<strong>и</strong> процесн<strong>и</strong> алатк<strong>и</strong>’ сеоднесува <strong>на</strong> модуларн<strong>и</strong> алатк<strong>и</strong> ко<strong>и</strong> обезбедуваат ф<strong>и</strong>з<strong>и</strong>чк<strong>и</strong>процес<strong>и</strong> за про<strong>и</strong>зводство <strong>на</strong> полупроводн<strong>и</strong>ц<strong>и</strong> ко<strong>и</strong> сефункц<strong>и</strong>оално разл<strong>и</strong>чн<strong>и</strong>, како <strong>на</strong> пр<strong>и</strong>мер депоз<strong>и</strong>ц<strong>и</strong>ја,грав<strong>и</strong>рање, <strong>и</strong>мплант <strong>и</strong>л<strong>и</strong> термал<strong>на</strong> обработка.2. За цел<strong>и</strong>те <strong>на</strong> 3B001.e., ‘последовател<strong>на</strong>та повеќекрат<strong>на</strong>обработка <strong>на</strong> плочка’ е спо<strong>со</strong>бноста за обработка <strong>на</strong> секојаплочка во разл<strong>и</strong>чн<strong>и</strong> “полупроводл<strong>и</strong>в<strong>и</strong> процесн<strong>и</strong> алатк<strong>и</strong>’, како<strong>на</strong> пр<strong>и</strong>мер <strong>со</strong> пренесување <strong>на</strong> секоја плочка од ед<strong>на</strong> алатка до206

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!