Листа на стоки и технологии со двојна употреба

3BОпрема за испитување, проверка и производство3B001 Опрема за производство на полупроводнички уреди илиматеријали, како што следува, и посебно проектирани составниделови и додатоци за нив:а. Опрема за епитаксијален раст како што следува:1. Опрема што може да произведе слој од кој било материјал,различни од силициум, со хомогеност на дебелинатапомала од ± 2,5 % на растојание од 75 mm или повеќе;Забелешка: 3B001.a.1. опфаќа опрема за епитаксијалниатомски слој (ALE).2. Реактори за нанесување на слој од фаза пареа наметалооргански хемикалии (MOCVD), посебно проектираниза раст на кристал на сложен полупроводник со посредствона хемиска реакција помеѓу материјалите наведени во3C003 или во 3C004;3. Опрема за епитаксијален раст на молекуларен сноп соупотреба на гас или цврсти извори;b. Опрема проектирана за јонска имплантација која има кои билоод следниве карактеристики:1. Енергијата на снопот (напонот на забрзување) надминува1 MeV;2. Посебно е проектирана и оптимизирана да работи наенергија на снопот (напон на забрзување) помала од 2 keV;3. Има можност за директно запишување; или4. Има енергија на снопот од 65 keV или повеќе и струја намлазот од 45 mA или повеќе за да се овозможиимплантација на високоенергетски кислород во загреанполупроводнички материјал на „подлогата“.c. Опрема за суво гравирање со употреба на анизотропска плазакоја ги има и двете следни карактеристики:1. Проектирана или оптимизирана за производство накритични димензии од 65 nm или помали; и2. недоследноста во рамките на парчето е еднаква или205