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4.8. Concentrazione dei reagenti4.9.Modelli di crescita dei film4.10. I composti precursoriCapitolo cinque Low pressare Chemical Vapour deposition5.1.Premessa………………………………………………pages modified…………………..445.2.Struttura del sistema5.3.Procedimento della deposizione5.4.Valutazioni del sistema L.P.C.V.D.Capitolo sei Precursori e Coatings via LPCVD6.1.Precursori………………………………………….. pages modified…………………….556.2.Sintesi del precursore.6.2.1.Via Grignard.6.4.Conclusioni.
IntroduzioneIl seguente lavoro di tesi si sviluppa in tre partiParte prima : comprende i primi due capitoli relativi agli aspetti generali della superconduttivitàfocalizzandosi sulle proprietà del diboruro di magnesio.Parte seconda: descrive e sviluppa la realizzazione di campioni bulk di diboruro di magnesio bendensificato via Infiltrazione Liquida Reattiva.(basato sul lavoro svolto presso lo I.E.N.I.-C.N.R.di Lecco-Supervisore Dott. G.Giuchi).Parte terza: introduce gli aspetti generali delle tecniche di deposizione chimica da fase vapore,descrive la metodologia C.V.D. a basse pressioni (L.P.C.V.D.) e riporta gli studi di alcunipossibili precursori per il diboruro di magnesio .(basato sul lavoro svolto presso lo I.C.I.S.-C.N.R. di Padova-Supervisore Dir. P.Zanella).
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