Tesi di MASTER in - surfacetreatments.it
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<strong>in</strong> regime <strong>di</strong> alto vuoto (≈10 -5 ÷10 -6 mbar)senza gas <strong>di</strong> trasportoprecursore s<strong>in</strong>gle source5.2.Struttura del sistemaIl sistema utilizzato per realizzare la deposizione consta dei seguenti componenti1. Sistema da vuoto consistente <strong>in</strong> una pompa primaria rotativa ed una secondaria <strong>di</strong>ffusiva perraggiungere i 10 -5 ÷ 10 -6 mbar, più tutta la strumentazione per la misura del vuoto (Pirani edun Penn<strong>in</strong>g) e le connessioni opportunamente <strong>di</strong>mensionate per non aver cadute <strong>di</strong>pressione.2. Un reattore Schlenk <strong>in</strong> vetro <strong>di</strong> silice ove riporre sul fondo il precursore3. Un tappo cavo <strong>in</strong> quarzo a tenuta detto “<strong>di</strong>to” da <strong>in</strong>filare sulla somm<strong>it</strong>à del reattore Schlenk4. Un filo <strong>di</strong> tungsteno spiralizzato ed <strong>in</strong>ser<strong>it</strong>o all’<strong>in</strong>terno della parte cava del “<strong>di</strong>to”collegatoad un alimentatore che funge da fonte termica per effetto joule5. Un supporto <strong>in</strong> acciaio per il substrato da applicare all’estrem<strong>it</strong>à <strong>in</strong>feriore del <strong>di</strong>to6. Un substrato su cui depos<strong>it</strong>are il film (sono stati utilizzati substrati <strong>di</strong> quarzo e zaffiro)7. Una muffola <strong>in</strong> cui <strong>in</strong>trodurre verticalmente l’estrem<strong>it</strong>à <strong>in</strong>feriore del reattore Schlenk <strong>in</strong>modo da realizzare, via scambio termico, l’evaporazione del precursore contenuto sul fondodel suddetto reattore.Di segu<strong>it</strong>o viene riportata un’immag<strong>in</strong>e dell’apparato utilizzato durante le deposizioni (Fig.5.1), undettaglio relativo al reattore utilizzato (Fig.5.2.) ed un dettaglio del sistema da vuoto (Fig.53.)