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4.9.Modelli di crescita dei filmPassiamo ora ad esaminare la natura del deposito, cioè la sua microstruttura e l’influenza dellecondizioni di deposizione.Il modo in cui un film si forma su una superficie mediante CVD è ancoramotivo di controversia, al punto che varie teorie sono state proposte per descrivere il fenomeno.I principali modelli proposti per la crescita di film sottili sono schematizzati in figura 4.8.[Pierson(1992)].Copertura superficialeAumento dello spessoreFig.48: Modelli di crescita di film sottili: a) crescita ad isole (Volmer – Weber); b) crescita a strati ed isole (Stranski –Krastanov); c) crescita strato su strato (Franck – Van der Merwe).a) Crescita ad isole: in questo caso esiste una scarsa affinità chimica tra il film e il substrato a causadella maggiore intensità delle interazioni tra le specie che si depositano rispetto alle interazioni conla superficie. La crescita del film procede attraverso la coalescenza di isole tridimensionali che sisviluppano a partire da piccoli clusters.c ) Crescita strato su strato: è il caso di film epitassiali su substrati monocristallini; le interazionifilm-substrato risultano maggiori rispetto alle interazioni tra le specie che si depositano, portando aduna crescita dello strato sottile secondo una ben precisa geometria che conferisce al film ottenutouna struttura ordinata.