la micrometeorologia e la dispersione degli inquinanti ... - ARPA Lazio

DEPOSIZIONE SECCA ED UMIDA E PROCESSI DI TRASFORMAZIONE CHIMICA
dove:
L’elemento chiave sta tutto nell’individuare un’espressione opportuna del coefficiente
di riflessione α(x) che mantenga la conservazione della massa.
Consideriamo inizialmente il caso più generale in cui l’inquinante sia materiale
particolato con una velocità di deposizione v d ed una velocità di sedimentazione
v s .Per un punto sottovento P di coordinate (x,y,z), il coefficiente α(x) risulta pari
a (Overcamp, 1976):
dove x G (distanza sottovento a cui si calcola σ z e la sua derivata) è definito implicitamente
da:
E’ facile verificare che se z = 0, x G = x.
Questo metodo è stato utilizzato molto frequentemente anche per la sua semplicità.
La necessità di dover risolvere l’equazione (8.25b) non è un ostacolo particolare
vista la disponibilità di algoritmi capaci di risolvere questo semplice problema
numerico. La principale controindicazione del metodo partial reflection è di
natura fisica, infatti l’impoverimento del plume deriva esclusivamente dalla sorgente
immagine, mentre in realtà dipende anche dal gradiente di concentrazione
della sorgente reale in prossimità della superficie. Questo modello prevede
valori di concentrazione inferiori a quanto previsto dal modello source depletion
nelle condizioni stabili e, a brevi distanze, risulta del tutto equivalente alle previsioni
del modello surface depletion.
Nel caso in cui l’inquinante sia gassoso e quindi con v s nulla, la (8.25a) si ridurrà
alla forma seguente:
dove la distanza x G sarà la soluzione dell’equazione implicita:
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8.1.1.6 Introduzione della deposizione secca nei modelli puff
Sono stati proposti metodi anche molto complessi per tener conto del processo
di deposizione secca nei modelli gaussiani di tipo puff, tuttavia il metodo più
semplice e più usato è il seguente (Scire e al., 1989).