Validazione di un algoritmo per la valutazione dei rischi da ...

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COM-03
CAMPI MAGNETICI ELF ED ESPOSIZIONE PROFESSIONALE:
MISURE RIPETUTE DELLA ESPOSIZIONE INDIVIDUALE
IN LAVORATORI ADDETTI A VARIE MANSIONI
G. Bravo1,2 , M. Scaringi1,2 , A. M. Vandelli3 , A. Romanelli4 , P. Rossi5 ,
F. Gobba1,2 1Cattedra di Medicina del Lavoro, Università di Modena e Reggio
Emilia, Modena
2Dottorato di Ricerca in Sanità Pubblica, Dipartimento di Scienze di
Sanità Pubblica; Università di Modena e Reggio Emilia, Modena
3Dipartimento di Sanità Pubblica, Azienda USL di Modena.
4Dipartimento di Sanità Pubblica, Azienda USL di Reggio Emilia.
5 Istituto Superiore per la Prevenzione e la Sicurezza del Lavoro
(ISPESL)
Corrispondenza: Dott.ssa Giulia BRAVO, Dottorato di Ricerca in Sanità
Pubblica, Dipartimento di Scienze di Sanità Pubblica, Università di
Modena e Reggio Emilia, Via Campi 287 41100 Modena (MO) ITALY, Tel
+ 39 059 205 54 75, Fax + 39 059 205 54 83, e-mail giulia.bravo@libero.it
RIASSUNTO. L’obiettivo del nostro studio è stimare l’esposizione
occupazionale a campi elettromagnetici a frequenza estremamente bassa
(ELF-MF) attraverso l’impiego di dosimetri personali. Sono stati monitorati
543 lavoratori impiegati in 9 comparti aziendali (addetti ad oltre
150 mansioni) rappresentativi della realtà produttiva della regione Emilia-Romagna.
Nell’intero campione esaminato il TWA (Time-Weighted
Average) mediano di esposizione è risultato pari a 0,14 µT (5°- 95° percentile:
0,04 - 2,50 µT). Il comparto ceramico ha presentato il più alto
TWA occupazionale (0,46 ± 1,83µT), mentre, per quanto riguarda il TWA
di mansione i più bassi sono risultati quelli relativi alle figure di Magazziniere
sia nella Ceramica che nel settore Tessile.
A distanza di 6-9 mesi le misure di esposizione sono state ripetute in
circa il 10% del campione originario (48 soggetti) per verificare i risultati
ottenuti inizialmente. Ad un’analisi condotta con il software SPSS 12.0
non sono emerse differenze significative con il precedente monitoraggio.
L’esposizione professionale individuale ad ELF-MF così stimata ha
fornito valori più bassi dei limiti occupazionali previsti dalla Direttiva
Comunitaria 2004/40/CE.
ELF-MF OCCUPATIONAL EXPOSURE: REPEATED MEASURES ON
WORKERS
ABSTRACT. The aim of our study was to estimate
occupational exposure to Extremely Low Frequency-
Magnetic Fields (ELF-MF). Using personal dosimeters we
evaluated occupational exposure in 543 workers employed
in 9 occupational settings (about 150 jobs), representative
of the main occupational activities in Emilia-Romagna
region. In the whole sample, the median Time-Weighted
Average (TWA) exposure resulted 0,14 µT (5° - 95°
percentiles: 0,04 - 2,50 µT); Tile production presented the
highest occupational setting TWA (0,46 ± 1,83µT), while
the lower job TWA was Stock Clerk in Tile Production and
Stock Clerk in Garment Production.
After 6-9 months we repeated measurement in about 10% of the
original sample (about 48 subjects) to verify the resulted obtained. At
repeated measurement analysis with SPSS 12.0 no variation was found
compared the previous monitoring.
Individual occupational exposure to ELF-MF evaluated in a
relatively large group of workers engaged in the main occupational
activities proved low values compared to the proposed occupational limit.
Key words: ELF-MF, occupational exposure, repeated measures
INTRODUZIONE
La imprecisione nella stima della esposizione è uno dei principali
problemi che caratterizzano la ricerca epidemiologica sugli effetti della
esposizione occupazionale ai campi elettromagnetici a frequenza estremamente
bassa (Extremely Low Frequency -ELF-) (1, 2).
Lo studio è stato condotto allo scopo di ottenere una stima rappresentativa
della esposizione professionale ai campi magnetici ELF
(ELF-MF) nei lavoratori addetti alle principali mansioni lavorative
presenti nella realtà produttiva della regione Emilia-Romagna, attraverso
una misurazione personale prolungata e la riproducibilità dei risultati
ottenuti.
MATERIALI E METODI
Tramite l’impiego di dosimetri personali (Emdex LITE, Enertech
Consultants, USA) indossati alla cintura per due turni di lavoro completi,
si è proceduto al monitoraggio di 543 lavoratori addetti a circa 150
mansioni dei comparti Metalmeccanico, Ceramico, Tessile, Alimentare,
Grande Distribuzione-Commercio, Biomedicale, Legno, Grafica Industriale;
alcune altre mansioni, non considerate adeguatamente rappresentative
del comparto di appartenenza, sono state raccolte in un unico gruppo
non differenziato (Altre mansioni).
Per ogni lavoratore sono state raccolte oltre 5.750 misurazioni durante
l’attività lavorativa, e oltre 11.500 fuori dal lavoro, tramite campionamento
dell’esposizione ogni 10 secondi.
L’esposizione personale è stata calcolata come media aritmetica di
tutte le misurazioni (Time Weighted Average -TWA). Sono stati calcolati
anche i TWA di comparto (media dei TWA individuali di tutti gli addetti
al comparto) ed i TWA di mansione (media dei TWA di tutti gli addetti alla
mansione). I valori di ELF-MF sono espressi in microtesla (µT).
A distanza di circa 6-9 mesi dall’effettuazione delle ultime misurazioni,
lo studio è stato ulteriormente sviluppato tramite una ripetizione
delle misurazioni di esposizione, per poter verificare la variabilità e quindi
la rappresentatività dei dati precedentemente raccolti.
I dati sono stati elaborati con il programma Emcalc 2000 (Enertech
Consultants, USA), e con il software statistico SPSS 12.0 (SPSS Italia).
RISULTATI
Nell’intero campione, è stato possibile rilevare un TWA mediano di
esposizione ad ELF-MF pari a 0,14 µT con 5° e 95° percentile rispettivamente
pari a 0,04 µT e 2,50 µT (Tabella I).
Passando all’analisi dei TWA medi di comparto (Tabella I), è quello
del settore ceramico ad essere il più elevato, con un’esposizione media
pari a 0,46±1,83 µT.
Dall’analisi successiva dei TWA di mansione presenti nei rispettivi
comparti produttivi esaminati, i più bassi (con esposizione TWA pari a
0,02 µT) sono risultati, ad esempio, quelli relativi alle figure di Magazziniere
e Addetto ai Campioni nel comparto Ceramico, Magazziniere nel
Tabella I. Livelli di esposizione TWA a campo magnetico ELF-MF nei vari comparti
lavorativi esaminati. I valori sono espressi in microtesla (µT)