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• Distribuzione statistica degli individui cristallini: utilizzando un
portacampione rotante, le orientazioni preferenziali possono essere
caratterizzate con pochi parametri e possono quindi essere introdotte
piuttosto facilmente nello schema di interpolazione e nell'affinamento
di Rietveld. Il non tener conto dell’effetto delle orientazioni
preferenziali determina una limitazione nell’accuratezza del processo di
affinamento, in quanto possono insorgere errori nelle intensità relative
dei picchi. La via più semplice per correggere le intensità calcolate dal
modello strutturale è utilizzare una funzione empirica di correzione
dipendente dall’angolo acuto (φ) tra il piano di diffrazione (k) e il piano
di orientazione preferenziale:
k
( corr)
I P ( ϕ)
I =
dove Pk è solitamente una funzione di tipo gaussiano.
• Omogeneità della taglia dei cristalliti. Particelle di grandezza superiore
ai 10 µm devono essere rimosse dal campione, così come quelle molto
piccole (< 1 µm), in quanto responsabili dell’allargamento dei picchi.
• Disponibilità di un modello di correzione per le aberrazioni strumentali;
occorre definire la dipendenza angolare della forma del picco, il cui
profilo può essere espresso come:
( 2θ ) b(
2θ
) [ w(
2θ
) * g(
2θ
) ] * f ( 2θ
)
y = +
, (eq. 4.2)
dove b ( 2θ
) è la funzione descrivente il fondo, ( 2θ
)
relativa al campione, e ( 2θ ) * g(
2θ
)
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k
k
f è una funzione
w è la cosiddetta funzione
strumentale. Questa può essere considerata come la convoluzione di
una funzione relativa all’ottica del diffrattometro, ( 2θ
)
g , con una
seconda funzione rappresentante la distribuzione delle lunghezze
d’onda della radiazione incidente, ( 2θ
)
La funzione ( 2θ
)
di 6 funzioni specifiche:
w .
g può essere vista come il risultato della convoluzione
g = g * g K*
g .
1
La funzione g 1 dipende dal profilo del punto focale proiettato, g 2 è
dovuta allo spostamento della superficie piatta del campione dal cerchio
focale, g 3 si riferisce alla divergenza assiale (collimata dalle slitte di
2
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