σχολη εφαρμοσμένων μαθηματικων και φυσικων ... - DSpace
σχολη εφαρμοσμένων μαθηματικων και φυσικων ... - DSpace
σχολη εφαρμοσμένων μαθηματικων και φυσικων ... - DSpace
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
που κατασκευάσαμε με ανόπτηση <strong>και</strong> την βελτιστοποίηση των παραμέτρων της<br />
διαδικασίας της ανόπτησης.<br />
Στην (Εικ. 8) φαίνονται επίσης τα βασικά στάδια της ολοκληρωμένης κατασκευής<br />
των φωτοβολταϊκών πάνελ από τα οποία στη δική μας περίπτωση απουσιάζουν<br />
τα δύο τελευταία στάδια εναπόθεσης <strong>και</strong> σύνδεσης των κυψέλων μεταξύ<br />
τους, καθώς <strong>και</strong> τα στάδια της εγχάραξης με laser, τα οποία δημιουργούν τις ξεχωριστές<br />
κυψέλες του πάνελ, καθώς μας ενδιαφέρει μόνο ο οπτικός χαρακτηρισμός<br />
των υλικών των δύο κυψελίδων, του aSi <strong>και</strong> του μcSi.<br />
Στο πρώτο βήμα της διαδικασίας γίνεται η προετοιμασία του γυάλινου υποστρώματος.<br />
Όπως αναφέραμε, το γυαλί χρησιμεύει ως μπροστινό προστατευτικό<br />
<strong>και</strong> συνεπώς πρέπει να εξασφαλίσουμε ότι το φώς θα περνάει από αυτό με τον<br />
καλύτερο τρόπο. Επιπρόσθετα, επειδή πάνω σε αυτό θα εναποτεθούν τα υπόλοιπά<br />
στρώματα, απαιτείται κατάλληλος καθαρισμός <strong>και</strong> έλεγχος της επιφάνειας<br />
για να αποφευχθεί, όσο το δυνατόν, η παρουσία ανεπιθύμητων προσμίξεων στις<br />
στρώσεις της κυψελίδας. Εισάγεται λοιπόν το γυαλί στη γραμμή παραγωγής <strong>και</strong><br />
περνάει πρώτα από έναν αυτοματοποιημένο καθαρισμό με διάφορα αλκαλικά διαλύματα.<br />
Στη συνέχεια περνάει από αυστηρό αυτοματοποιημένο οπτικό έλεγχο,<br />
για να διασφαλισθεί ότι δεν περιέχει φυσαλίδες, ρωγμές ή άλλες ατέλειες που ε-<br />
μποδίζουν την ελεύθερη διέλευση του φωτός. Ανάλογα με τα αποτελέσματα αυτού<br />
του ελέγχου, το γυαλί εισάγεται στο βασικό κομμάτι της εναπόθεσης των υ-<br />
πολοίπων στρωμάτων ή απορρίπτεται.<br />
2.2.1 Χημική Εναπόθεση Πυριτίου από ατμούς με τη παρουσία πλάσματος<br />
(PECVD)<br />
Στις μεθόδους χημικής εναπόθεσης από ατμούς, τα υποστρώματα τοποθετούνται<br />
μέσα σε έναν θάλαμο εναπόθεσης, μέσα στον οποίο εισάγουμε χημικές ενώσεις<br />
σε αέρια μορφή <strong>και</strong> παρέχοντας τους τις κατάλληλες συνθήκες (ενέργεια, πίεση,<br />
θερμοκρασία), πραγματοποιούν χημικές αντιδράσεις, τα προϊόντα των ο-<br />
ποίων εναποτίθενται σε στερεά μορφή στα υποστρώματα. Στη περίπτωση της<br />
εναπόθεσης ενδογενούς Υδρογονοποιημένου Πυριτίου (στρώση i, intrinsic), το<br />
αέριο μίγμα που χρησιμοποιείται αποτελείται από Σιλάνη (SiH 4 ) <strong>και</strong> Υδρογόνο<br />
(H 2 ) <strong>και</strong> το πυρίτιο εναποτίθενται στο υπόστρωμα μέσω της χημικής διάσπασης<br />
της Σιλάνης με την προσφορά της κατάλληλης ενέργειας:<br />
SiH 4 → Si + 2H 2<br />
Για τον σχηματισμό των n <strong>και</strong> p περιοχών στις στρώσεις του aSi <strong>και</strong> του μcSi,<br />
εισάγουμε μαζί με τα παραπάνω αέρια, Φωσφίνη (PH 3 ) <strong>και</strong> Τρι-μεθυλ-Βόριο<br />
(B(CH 3 ) 3 ) αντίστοιχα. Με την Φωσφίνη νοθεύεται η περιοχή με άτομα φωσφόρου<br />
τα οποία λειτουργούν ως δότες, ενώ με το Τρι-μεθυλ-Βόριο νοθεύουμε την περιοχή<br />
με άτομα Βορίου που λειτουργούν ως αποδέκτες. Τα πάχη των νοθευμένων<br />
στρώσεων είναι περίπου 10nm, πολύ λεπτά σε σύγκριση με το συνολικό πάχος<br />
15
Change language