31.07.2015 Views

Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Chapitre IV – Réalisation d’un transistor à vanne <strong>de</strong> spin sous ultra-vi<strong>de</strong>.ΔTexp=ΔI+ MC− ΔI2I0−MCOn peut alors définir l’asymétrie <strong>de</strong> spin (ou contraste <strong>de</strong> spin) pour chaque courant I B et I C :ABICAC=ICσIB− I=σI + IBσσσ− I ΔTC=σ+ I 2TCΔTexp=2(1 − TσBσBexpexpexp)ΔT=2TΔT=2(1 − T)(IV.6)En <strong>par</strong>ticulier, nous prévoyons une diverg<strong>en</strong>ce <strong>de</strong> l’asymétrie mesurée sur la base lorsque T est<strong>de</strong> l’ordre <strong>de</strong> 1.On définit égalem<strong>en</strong>t la fonction <strong>de</strong> Sherman <strong>de</strong> l’instrum<strong>en</strong>t <strong>par</strong> :ACS =Cette fonction n’est cep<strong>en</strong>dant pas à confondre avec la fonction <strong>de</strong> Sherman S intrinsèque dufiltre à spin introduit au chapitre II.3.B. Régimes <strong>de</strong> transmission du transistorNous avons représ<strong>en</strong>té sur la figure (Fig.IV.18), l’allure typique <strong><strong>de</strong>s</strong> courants I B et I C pourl’échantillon 2 lorsque l’énergie d’injection est comprise <strong>en</strong>tre 6 et 1400 eV. Lorsque l’énergie <strong><strong>de</strong>s</strong>électrons incid<strong>en</strong>ts est <strong>en</strong> <strong><strong>de</strong>s</strong>sous <strong>de</strong> 500 eV, le courant I B est quasim<strong>en</strong>t égal au courant incid<strong>en</strong>t. Au<strong>de</strong>là, le courant transmis continue à croître, jusqu’à <strong><strong>de</strong>s</strong> valeurs <strong>de</strong> plusieurs microampères.Pour une énergie <strong>par</strong>ticulière, E* = 765 eV, le courant collecté est égal au courant incid<strong>en</strong>t. Cettevaleur <strong>de</strong> l’énergie correspond à une transmission égale à 1, soit T(E*) = 1. On remarque, que surl’<strong>en</strong>semble <strong>de</strong> la gamme représ<strong>en</strong>tée la relation IV.5 I 0 = I B + I C , est bi<strong>en</strong> vérifiée.Pour une énergie E 0 > E*, le courant collecté dans la base <strong>de</strong>vi<strong>en</strong>t négatif, et le courant I C supérieur aucourant injecté I 0 . Nous avons représ<strong>en</strong>té sur la figure (Fig. IV.19), la représ<strong>en</strong>tation <strong>en</strong> échelle loglog,<strong>de</strong> la transmission <strong>de</strong> l’échantillon 1. Pour cet échantillon, d’épaisseur plus faible que leprécéd<strong>en</strong>t, E * = 520 eV. Lorsque l’énergie <strong><strong>de</strong>s</strong> électrons incid<strong>en</strong>ts passe <strong>de</strong> 10 à 3000 eV, latransmission varie <strong>de</strong> plus <strong>de</strong> 6 ordres <strong>de</strong> gran<strong>de</strong>urs. Pour une énergie <strong>de</strong> 3000 eV, cet échantillonprés<strong>en</strong>te un gain <strong>de</strong> plus <strong>de</strong> 300 ; c’est-à-dire que pour un électron incid<strong>en</strong>t, 300 électrons sontdétectés dans le SC.Ces transmissions, très largem<strong>en</strong>t supérieures à 1, montr<strong>en</strong>t la possibilité d’avoir un gain du transistorsupérieur à 1, pour une énergie d’injection <strong>de</strong> l’ordre <strong>de</strong> 500 eV, et démontr<strong>en</strong>t que les processus <strong>de</strong>multiplication et <strong>de</strong> collection dans le filtre à spin sont très efficaces, même pour <strong><strong>de</strong>s</strong> épaisseurs <strong>de</strong>métal <strong>de</strong> quelques nanomètres.P 087

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!