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Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

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Chapitre IV – Réalisation d’un transistor à vanne <strong>de</strong> spin sous ultra-vi<strong>de</strong>.Nous avons représ<strong>en</strong>té sur la figure (Fig. IV.2), le diagramme <strong>en</strong> énergie du montage expérim<strong>en</strong>tal.Lorsque le GaAs est excité <strong>par</strong> <strong>de</strong> la lumière, les électrons photo-crées sont accélérés dans le <strong>champ</strong>électrique <strong>de</strong> la zone <strong>de</strong> charge d’espace, et se prés<strong>en</strong>t<strong>en</strong>t à la surface du SC avec une certainedistribution <strong>en</strong> énergie. Comme nous le montrerons plus loin, le sélecteur électrostatique est conçupour ne laisser passer que les électrons qui sortirai<strong>en</strong>t d’une électro<strong>de</strong> dorée avec une énergie cinétiqu<strong>en</strong>ulle. Ainsi, <strong>par</strong>mi l’<strong>en</strong>semble <strong><strong>de</strong>s</strong> électrons photo-créés, seuls ceux qui ont l’énergie cinétiqued’accord E C pourront être injectés sur l’échantillon. Cette énergie cinétique est reliée au travail <strong><strong>de</strong>s</strong>ortie du GaAs, à celui <strong>de</strong> l’électro<strong>de</strong> <strong>en</strong> or, et au pot<strong>en</strong>tiel appliqué à la source d’électron <strong>par</strong> larelation :ΦAu= Φcath− eVcath+ Ec(IV.1)où ΦAuet Φcathdésign<strong>en</strong>t respectivem<strong>en</strong>t le travail <strong>de</strong> sortie <strong>de</strong> l’or et du GaAs.Inversem<strong>en</strong>t, on peut choisir la valeur du pot<strong>en</strong>tiel appliqué à la catho<strong>de</strong> pour ne laisser passer que lesélectrons qui possèd<strong>en</strong>t l’énergie cinétique désirée. C’est le mo<strong>de</strong> <strong>de</strong> fonctionnem<strong>en</strong>t qui a été ret<strong>en</strong>upour le sélecteur électrostatique.Fig. IV.2 : Diagramme <strong>en</strong> énergie du montage expérim<strong>en</strong>tal.Les électrons qui franchiss<strong>en</strong>t l’optique électronique pénètr<strong>en</strong>t <strong>en</strong>suite dans le filtre à spin avec uneénergie E 0 telle que :E0 = eV éch+ ΦAu(IV.2)L’énergie d’injection <strong><strong>de</strong>s</strong> électrons incid<strong>en</strong>ts est donc déterminée <strong>par</strong> le pot<strong>en</strong>tiel appliqué àl’échantillon. En pratique, nous avons travaillé avec <strong><strong>de</strong>s</strong> énergies d’injection variant <strong>de</strong> 10 à 3000 V.Dans ce mo<strong>de</strong> <strong>de</strong> fonctionnem<strong>en</strong>t, l’<strong>en</strong>semble <strong><strong>de</strong>s</strong> autres électro<strong><strong>de</strong>s</strong> est laissé à <strong><strong>de</strong>s</strong> pot<strong>en</strong>tiels fixes,indép<strong>en</strong>dants du pot<strong>en</strong>tiel <strong>de</strong> l’échantillon.Ce mo<strong>de</strong> <strong>de</strong> fonctionnem<strong>en</strong>t impose un choix <strong>par</strong>ticulier <strong><strong>de</strong>s</strong> t<strong>en</strong>sions <strong>de</strong> l’optique électronique et leurinflu<strong>en</strong>ce sur la focalisation du faisceau d’électrons sur l’échantillon dans la gamme d’énergie sondéesera discutée dans la prochaine section.68

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