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Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

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Chapitre III – Réalisation et caractérisations d’un filtre à spin MF/SC5. RécapitulatifNous avons prés<strong>en</strong>té au cours <strong>de</strong> ce chapitre trois procédés <strong>de</strong> traitem<strong>en</strong>t <strong>de</strong> surface pour réaliser<strong><strong>de</strong>s</strong> filtres à spin avec différ<strong>en</strong>ts profils <strong>de</strong> barrière à l’interface.Les structures Pd/Fe/Uvocs/GaAs évaporés à température ambiante prés<strong>en</strong>t<strong>en</strong>t une interfacecaractérisée <strong>par</strong> la hauteur <strong>de</strong> barrière <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> Ga 2 O 3 <strong>de</strong> 4.4 eV, et <strong>par</strong> la hauteur <strong>de</strong> barrière <strong>de</strong>Schottky <strong>de</strong> valeur typique 0.7 eV. Le mécanisme <strong>de</strong> transport électronique est très bi<strong>en</strong> décrit <strong>par</strong>l’émission thermoionique. Ces structures peuv<strong>en</strong>t être réalisées sur <strong><strong>de</strong>s</strong> surfaces latérales <strong>de</strong> l’ordre<strong>de</strong> plusieurs mm² sans dégradation <strong><strong>de</strong>s</strong> propriétés électriques. Elles peuv<strong>en</strong>t être recuites à 150°Csans affecter les propriétés magnétiques et électriques.Nous avons égalem<strong>en</strong>t étudié <strong><strong>de</strong>s</strong> jonctions traitées <strong>en</strong> surface avec HCl, et à l’hydrazine, quipermett<strong>en</strong>t <strong>de</strong> supprimer l’oxy<strong>de</strong> natif à l’interface <strong>en</strong>tre le métal et le SC. Ces dio<strong><strong>de</strong>s</strong> sontcaractérisées <strong>par</strong> <strong><strong>de</strong>s</strong> facteurs d’idéalité supérieurs à 1 (>1.1). L’effet d’un recuit à 150°C sur cesstructures ne perturbe pas les propriétés magnétiques, mais chang<strong>en</strong>t leurs propriétés électriques.6. <strong>Etu<strong><strong>de</strong>s</strong></strong> complém<strong>en</strong>tairesNous prés<strong>en</strong>tons ici certains résultats complém<strong>en</strong>taires sur la nature <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> obt<strong>en</strong>u lors du procédéUVOCS prés<strong>en</strong>té plus haut.Nous avons étudié la composition <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> formé <strong>par</strong> le procédé UVOCS <strong>par</strong> spectroscopie <strong>de</strong>photoémission X (XPS) (ces mesures ont été effectuées <strong>par</strong> Oleg Tereshch<strong>en</strong>ko à l’Université d’Etat <strong>de</strong>Novosibirsk). La source <strong>de</strong> rayons X provi<strong>en</strong>t <strong>de</strong> la raie Al Kα (1486.6 eV) <strong>de</strong> l’aluminium. Les électronsqui sort<strong>en</strong>t normalem<strong>en</strong>t à la surface <strong>de</strong> l’échantillon sont collectés <strong>par</strong> un analyseur hémisphérique <strong>de</strong>résolution 1 eV. Les profils <strong><strong>de</strong>s</strong> pics observés sont définis comme la convolution d’une lor<strong>en</strong>tzi<strong>en</strong>ne (liéeau temps <strong>de</strong> vie du niveau sondé) et d’une gaussi<strong>en</strong>ne (résolution <strong>de</strong> l’analyseur). Les pics sont alorsdéconvolués <strong>par</strong> un logiciel <strong>de</strong> simulation numérique.La figure (Fig III.14) montre les spectres <strong><strong>de</strong>s</strong> niveaux Ga3d et As3d <strong>de</strong> la surface oxydée du GaAs pourdiffér<strong>en</strong>tes températures <strong>de</strong> recuit. Ces spectres révèl<strong>en</strong>t la prés<strong>en</strong>ce <strong>de</strong> trois types <strong>de</strong> composants : Ga 2 O 3 ,As 2 O 3 et As. Ce résultat est compatible avec la littérature [Lu93]. L’ars<strong>en</strong>ic peut prov<strong>en</strong>ir <strong>de</strong> ladécomposition <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> métastable As 2 O 3 <strong>en</strong> Ga 2 O 3 : As 2 O 3 + 2 GaAs → Ga 2 O 3 + 4As. L’étu<strong>de</strong> àdiffér<strong>en</strong>tes températures montre qu’à 400°C l’oxy<strong>de</strong> formé est principalem<strong>en</strong>t composé <strong>de</strong> Ga 2 O 3 .Nous pouvons <strong>par</strong> ailleurs estimer l’épaisseur <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> à <strong>par</strong>tir <strong><strong>de</strong>s</strong> amplitu<strong><strong>de</strong>s</strong> <strong><strong>de</strong>s</strong> pics <strong>en</strong> utilisantl’équation :dOXDOXλOX(1 − exp( − )IOXλOX=IdSUBSUBDSUBλSUBexp( − )λSUBoù I OX et I SUB sont respectivem<strong>en</strong>t l’int<strong>en</strong>sité <strong><strong>de</strong>s</strong> pics <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> et du substrat pour les niveaux Ga3d (ouAs3d), D OX et D SUB les d<strong>en</strong>sités <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> et du substrat, λ OX et λ SUB les libres <strong>par</strong>cours moy<strong>en</strong> <strong><strong>de</strong>s</strong>électrons dans l’oxy<strong>de</strong> et le substrat, d OX l’épaisseur <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong>.En supposant un libre <strong>par</strong>cours moy<strong>en</strong> égal dans le substrat et l’oxy<strong>de</strong>, et <strong>de</strong> valeur 2.5 nm [Lu93],on obti<strong>en</strong>t une épaisseur <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> 2 nm.Nous avons <strong>par</strong> ailleurs cherché à estimer la valeur du gap <strong>de</strong> l’oxy<strong>de</strong>. Nous prés<strong>en</strong>tons <strong>en</strong> (Fig.III.15) <strong><strong>de</strong>s</strong>spectres obt<strong>en</strong>us <strong>par</strong> spectroscopie <strong>de</strong> perte d’énergie d’électrons (EELS). Cette métho<strong>de</strong> est s<strong>en</strong>sible auxtransitions inter ban<strong><strong>de</strong>s</strong>, et donc <strong>en</strong> <strong>par</strong>ticulier aux transitions ban<strong>de</strong> <strong>de</strong> val<strong>en</strong>ce à ban<strong>de</strong> <strong>de</strong> conduction.Lorsque l’échantillon ne subi pas <strong>de</strong> recuit, ou un recuit à une température <strong>en</strong> <strong><strong>de</strong>s</strong>sous <strong>de</strong> 250 °C, la perte62

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