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Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

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Chapitre II – Concepts généraux autour <strong>de</strong> l’électronique <strong>de</strong> spinAvec ce type <strong>de</strong> procédure, Hanbicki et al [Hanbicki03] ont mesuré <strong>par</strong> luminesc<strong>en</strong>ce <strong><strong>de</strong>s</strong> polarisationsélectroniques injectées dans le SC <strong>de</strong> 32 % (4.5 K), <strong>en</strong> utilisant comme hétérostructuresFe/AlGaAs/GaAs.En insérant une interface résistive <strong>en</strong>tre le métal et le SC, il est donc possible d’injecter uncourant polarisé <strong>de</strong> spin d’un MF vers un SC.1.B.2. Critères imposés à l’interface pour injecter et détecter un courant polarisé <strong>de</strong> spindans une structure MF/I/SC/I/MF.Le problème <strong>de</strong> la détection <strong>de</strong> spin est un problème similaire à celui <strong>de</strong> l’injection. Cep<strong>en</strong>dant, leproblème important qui se pose <strong>en</strong> électronique <strong>de</strong> spin n’est pas tellem<strong>en</strong>t celui <strong>de</strong> l’injection ouindép<strong>en</strong>damm<strong>en</strong>t celui <strong>de</strong> la détection d’un courant polarisé <strong>de</strong> spin, mais plutôt la capacité à détecterun changem<strong>en</strong>t <strong>de</strong> résistance (ou <strong>de</strong> t<strong>en</strong>sion) <strong>en</strong>tre <strong>de</strong>ux configurations P et AP <strong>de</strong> la source et duAP PR − Rdrain, c'est-à-dire à maximiser la quantité . Cette condition est équival<strong>en</strong>te à injecter unPRcourant polarisé <strong>de</strong> spin vers un SC, tout <strong>en</strong> conservant cette polarisation jusqu’au détecteur, autrem<strong>en</strong>tdit, maint<strong>en</strong>ir tout au long du transport une accumulation <strong>de</strong> spin ( Δ μ ) <strong>proche</strong> <strong>de</strong> la différ<strong>en</strong>ce <strong>de</strong>t<strong>en</strong>sion (V) imposée <strong>en</strong>tre la source et le drain. Il a été établit ces <strong>de</strong>rnières années, <strong>par</strong> différ<strong>en</strong>tsgroupes, que ces conditions impos<strong>en</strong>t un compromis sur la résistance d’interface rI<strong>en</strong>tre le métal et leSC. L’objectif <strong>de</strong> ce <strong>par</strong>agraphe est d’expliquer brièvem<strong>en</strong>t l’origine physique <strong>de</strong> ce compromis.On peut exprimer dans un régime diffusif et dans la limite <strong><strong>de</strong>s</strong> faibles courants, une inégalité sur laΔ Rrésistance d’interface pour avoir une valeur optimale <strong>de</strong>P [Fert01] :R2 SCλ DSr1 = ρ SC t SC

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