31.07.2015 Views

Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Chapitre IV – Réalisation d’un transistor à vanne <strong>de</strong> spin sous ultra-vi<strong>de</strong>.respecte la loi <strong><strong>de</strong>s</strong> noeuds (le circuit électrique équival<strong>en</strong>t est alors <strong>de</strong>ux résistances R 0 et R A <strong>en</strong>R0RA<strong>par</strong>allèle) : IB= ( 1−T ) I0et IC= ( 1−T ) I0+ TI0.RA+ R0RA+ R0La valeur <strong>de</strong> la résistance d’accès est typiquem<strong>en</strong>t comprise <strong>en</strong>tre 5 et 10 Ω, <strong>de</strong> sorte que pour unerésistance R 0 typique <strong>de</strong> 100kΩ, un courant collecté au maximum <strong>de</strong> I C = 10 -4 I 0 peut-être mesuré.Nous avons représ<strong>en</strong>té sur la figure (Fig.IV.25) la transmission d’un échantillon oxydé <strong>en</strong> fonction <strong>de</strong>l’énergie d’injection. L’extrapolation <strong>de</strong> la transmission à E 0 = 0, donne une transmission non nulle,que l’on attribue au courant résiduel lié à la résistance d’accès. Compte t<strong>en</strong>u d’une résistance mesuréeR 0 = 110 kΩ, on déduit une résistance d’accès R A <strong>de</strong> 6 Ω.Fig.IV.24 : Représ<strong>en</strong>tation du schéma équival<strong>en</strong>t <strong>de</strong> la jonction <strong>en</strong> configuration <strong>de</strong> mesure, etré<strong>par</strong>tition <strong><strong>de</strong>s</strong> courants lorsqu’un courant I 0 est injecté dans l’échantillon.Ce courant collecté <strong>par</strong>asite peut être gênant à basse énergie d’injection pour <strong><strong>de</strong>s</strong> échantillonsprés<strong>en</strong>tant <strong><strong>de</strong>s</strong> transmissions <strong>de</strong> quelques 10 -5 . Pour les échantillons que nous avons étudiés, latransmission est toujours plus gran<strong>de</strong> que 10 -4 , <strong>de</strong> sorte que nous négligerons <strong>par</strong> la suite ce courant<strong>par</strong>asite.Fig.IV.25 : Transmission d’un échantillon oxydé (Au(4nm)/Fe(4nm)/Ox/GaAs) <strong>en</strong> fonction <strong>de</strong>l’énergie d’injection. L’extrapolation à E = 0 donne une transmission <strong>de</strong> 6.10 -5 .4.B.2.2.2. Bruits aléatoires liés au courant injecté I 0Nous allons maint<strong>en</strong>ant calculer le bruit <strong>par</strong>asite lié au courant transmis au <strong><strong>de</strong>s</strong>sus <strong>de</strong> la barrièred’interface. Pour un courant incid<strong>en</strong>t I 0 , nous pouvons exprimer le courant I C et I B à <strong>par</strong>tir <strong><strong>de</strong>s</strong> relations(II.11) :97

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!