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Etudes par microscopie en champ proche des phénomènes de ...

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Table <strong><strong>de</strong>s</strong> matières2.B.1.1. Pré<strong>par</strong>ation ex-situ <strong><strong>de</strong>s</strong> échantillons 422.B.1.2. Pré<strong>par</strong>ation in-situ <strong><strong>de</strong>s</strong> échantillons 432.B.2. Caractérisation <strong><strong>de</strong>s</strong> échantillons 443. Résultats sur les propriétés électriques 443.A. Mécanismes <strong>de</strong> transport dominant à l’interface métal/SC 443.B. Détermination pratique <strong><strong>de</strong>s</strong> <strong>par</strong>amètres <strong>de</strong> la jonction 453.C. Résultats avec les échantillons oxydés (passivation à l’UVOCS) 473.C.1. Echantillons non recuits 473.C.2. Influ<strong>en</strong>ce <strong>de</strong> la température <strong>de</strong> recuit 483.D. Influ<strong>en</strong>ce du traitem<strong>en</strong>t <strong>de</strong> surface 523.D.1. Influ<strong>en</strong>ce <strong>de</strong> la température <strong>de</strong> recuit et <strong>de</strong> la surface 523.D.2. Interprétation <strong><strong>de</strong>s</strong> courbes I-V et C-V <strong>en</strong> fonction du type <strong>de</strong> passivation 544.Résultats sur les propriétés magnétiques 584.A. Influ<strong>en</strong>ce <strong>de</strong> la passivation 584.B. Etu<strong>de</strong> <strong>en</strong> fonction <strong>de</strong> l’épaisseur et du recuit 615. Récapitulatif 626. <strong>Etu<strong><strong>de</strong>s</strong></strong> complém<strong>en</strong>taires 62Chapitre IV- Réalisation d’un transistor à vanne <strong>de</strong> spin sous ultra-vi<strong>de</strong>.Régimes <strong>de</strong> fonctionnem<strong>en</strong>t et performances 651. Prés<strong>en</strong>tation du transistor à vanne <strong>de</strong> spin sous ultra-vi<strong>de</strong> 672. Description du transistor à vanne <strong>de</strong> spin 692.A. Réalisation d’un « émetteur » à électrons polarisés 692.A.1. Pompage optique 692.A.2. L’activation <strong>en</strong> état d’affinité électronique négative 702.A.3. Pré<strong>par</strong>ation <strong><strong>de</strong>s</strong> sources d’électrons polarisés 712.B. Transport électronique vers l’échantillon 732.B.1. Les l<strong>en</strong>tilles électrostatiques 742.B.2. Le spectromètre électrostatique 752.B.3. L’optique <strong>de</strong> sortie et le porte échantillon 762.B.4. Les bobines d’aimantation in-situ 772.B.5. Performances <strong>de</strong> l’<strong>en</strong>semble <strong>de</strong> l’optique électronique 772.B.5.1. R<strong>en</strong><strong>de</strong>m<strong>en</strong>t <strong>de</strong> l’optique électronique 782.B.5.2. Propriétés <strong>de</strong> focalisation 782.B.5.2.1. Caractérisation optique 782.B.5.2.2. Caractérisation électrostatique 782.B.5.3. Asymétries instrum<strong>en</strong>tales 833. Régimes <strong>de</strong> fonctionnem<strong>en</strong>t du transistor à vanne <strong>de</strong> spin 843.A. Principe <strong>de</strong> la mesure et procédure d’acquisition 843.A.1. Conditions <strong>de</strong> mesure 853.A.2. Procédure d’optimisation 853.A.3. Procédure d’acquisition 853.A.4. Notations 863.B. Régimes <strong>de</strong> transmission du transistor 873.C. Dép<strong>en</strong>dance <strong>en</strong> spin <strong>de</strong> la transmission 893.D. Asymétrie <strong>de</strong> spin du gain 913.D.1. Asymétrie <strong>de</strong> spin mesurée sur la base 913.D.2. Asymétrie <strong>de</strong> spin mesurée sur le collecteur 913.E. Influ<strong>en</strong>ce <strong><strong>de</strong>s</strong> épaisseurs. Com<strong>par</strong>aison du mo<strong>de</strong> <strong>de</strong> fonctionnem<strong>en</strong>t <strong>de</strong> notre transistor avec celui <strong><strong>de</strong>s</strong>MTT 924. Performances du transistor <strong>en</strong> terme <strong>de</strong> rapport signal sur bruit. Limites <strong><strong>de</strong>s</strong> performances 94viii

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