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Etudes de cristaux liquides colonnaires en solution organique et en ...

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4.5. CONFIGURATION WAXSAutrem<strong>en</strong>t dit, un dépôt réalisé à partir d’un “mauvais solvant” <strong>organique</strong> conduit-il à unancrage particulier <strong>de</strong>s colonnes ?Tout comme le di<strong>et</strong>hyl succinate pour le Pe4CEH, l’hexanol est un “mauvais solvant”du T4CEH. A partir d’une <strong>solution</strong> très conc<strong>en</strong>trée <strong>de</strong> T4CEH dans l’hexanol, nous avonspréparé un film d’une épaisseur <strong>en</strong>viron 2 µm. A priori, le cliché <strong>de</strong> la figure 4.29 prés<strong>en</strong>te unaspect différ<strong>en</strong>t <strong>de</strong>s figures <strong>de</strong> diffraction obt<strong>en</strong>ues jusqu’à prés<strong>en</strong>t. En eff<strong>et</strong>, nous observonsune distribution <strong>de</strong>s vecteurs <strong>de</strong> diffusion selon un “anneau”, avec toujours une int<strong>en</strong>sitémaximale autour du “pic 60” <strong>et</strong> du “pic planaire”. Même si au niveau <strong>de</strong> ces <strong>de</strong>ux picsl’int<strong>en</strong>sité est un ordre <strong>de</strong> gran<strong>de</strong>ur supérieure à celle sur l’anneau, le solvant ne semble pasavoir d’influ<strong>en</strong>ce particulière sur l’ancrage <strong>de</strong>s colonnes.4.4.2.2.2 Par évaporationDans ce paragraphe, nous caractérisons les dépôts réalisés par évaporation. Il s’agit <strong>de</strong><strong>de</strong>ux films <strong>de</strong> Py4CEH d’épaisseurs 50 <strong>et</strong> 100 nm. Ces films sont évaporés sur un substrat <strong>de</strong>SiO 2 . Nous allons voir que c<strong>et</strong>te technique révèle un résultat très étonnant qui rappelle celuiobt<strong>en</strong>u avec les films minces non recuits réalisés par spin coating. D’une part, la texture dufilm mince évaporé ressemble fortem<strong>en</strong>t à celle <strong>de</strong>s dépôts réalisés par spin coating (figure4.30). D’autre part, sur la figure <strong>de</strong> diffusion du film mince d’épaisseur 100 nm, nous remarquonsles <strong>de</strong>ux pics caractéristiques <strong>de</strong> l’ancrage planaire <strong>de</strong>s colonnes (figure 4.31). Nousrappelons que lors d’une évaporation le matériau est sublimé <strong>et</strong> se dépose sur le substrat. Parspin coating, il est dissout dans un solvant puis déposé sur le substrat. Il est donc intéressant<strong>de</strong> constater que ces <strong>de</strong>ux techniques, si différ<strong>en</strong>tes, conduis<strong>en</strong>t à un ancrage i<strong>de</strong>ntique <strong>de</strong>scolonnes.4.5 Configuration WAXSDans la configuration WAXS, nous cherchons à m<strong>et</strong>tre <strong>en</strong> évi<strong>de</strong>nce l’ordre liqui<strong>de</strong> <strong>de</strong>scolonnes. Ainsi, comme nous l’avons vu dans le paragraphe 4.2.2, la caméra CCD se trouveà 12 cm <strong>de</strong> l’échantillon <strong>de</strong> manière à couvrir la distance inter-colonne 15 <strong>et</strong> l’ordre liqui<strong>de</strong>15 pic (100)136

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