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Circuits et systemes de modelisation analogique de neurones ...

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Chapitre II : circuits <strong>analogique</strong>s élémentairesparait acquis que l'augmentation du courant observée provient plutôt <strong>de</strong>s diminutionsd'oxy<strong>de</strong>s qu'induisaient leurs structures [DIORIO 95].d'autre part, il est démontré que l'interface polysilicium/oxy<strong>de</strong> présente un gran<strong>de</strong> nombred'aspérités qui renforce le champ <strong>et</strong> perm<strong>et</strong> d'obtenir un courant tunnel à <strong>de</strong>s tensions plusfaibles que ne le prédit la théorie. La formation <strong>de</strong> ces aspérités est provoquée pour lesprocédés spécifiques, mais elle est naturellement présente pour les procédés standard[ELLIS 82], [ANDERSON 97]. Nous bénéficions <strong>de</strong> ce phénomène, mais comme il estproduit par la croissance thermique <strong>de</strong> SiO 2 il n'apparaît que d'un côté <strong>de</strong> l'oxy<strong>de</strong> <strong>et</strong> produitune dissymétrie <strong>de</strong> l'eff<strong>et</strong> tunnel.Bien que l'eff<strong>et</strong> tunnel soit par nature bidirectionnel, l'utilisation <strong>de</strong> c<strong>et</strong>te propriété s'avèredélicate. Pour arracher <strong>de</strong>s électrons à l'armature flottante, il suffit d'appliquer une tensionpositive sur la secon<strong>de</strong> armature. Par contre pour injecter <strong>de</strong>s électrons sur la grille flottante ilfaut soit appliquer une tension négative sur c<strong>et</strong>te même secon<strong>de</strong> armature (figure 2-24-A), soitforcer une tension positive sur la grille flottante elle-même (figure 2-24-B).A) B)transistor <strong>de</strong> mesuregrille flottantegndC 1+VpV tunnel >0extraction d'électrons+VpC 2 0C 1 +C 2 +C p+Vp-VpgndV tunnel

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