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Circuits et systemes de modelisation analogique de neurones ...

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Chapitre II : circuits <strong>analogique</strong>s élémentairesNous n'avons, jusqu'à présent, parlé que <strong>de</strong> mémoire numérique. Dans tous ces dispositifs, lacharge stockée sur la grille flottante est mesurée <strong>et</strong> comparée à un seuil pour discriminer <strong>de</strong>uxniveaux logiques, 0 ou 1. Pour augmenter les <strong>de</strong>nsité d'intégration <strong>de</strong>s mémoires flash, lesfabricants ont conçu <strong>de</strong>s point mémoires multiniveaux. Au lieu <strong>de</strong> stocker un bit par cellule ilsen stockent <strong>de</strong>ux ou trois, en discriminant, respectivement, quatre ou huit niveaux.La discrétisation réelle <strong>de</strong> l'information mémorisée sur la grille flottante est imposée par lacharge élémentaire <strong>de</strong> l'électron. Nous pouvons considérer c<strong>et</strong>te mémorisation commecontinûment variable <strong>et</strong> elle peut donc servir à représenter un paramètre <strong>analogique</strong> àcondition <strong>de</strong> remplacer les comparateurs <strong>de</strong> sortie par <strong>de</strong> simples dispositifs amplificateurs.C<strong>et</strong>te idée est utilisée <strong>de</strong>puis une dizaine d'années par quelques groupes <strong>de</strong> rechercheuniversitaire, principalement pour <strong>de</strong>s applications <strong>de</strong> compensation <strong>de</strong>s dispersions <strong>de</strong>circuits <strong>analogique</strong>s <strong>et</strong> pour le stockage <strong>de</strong>s paramètres <strong>de</strong> circuits neuronaux programmables[MANN 90].Quel que soit le dispositif <strong>de</strong> lecture perm<strong>et</strong>tant <strong>de</strong> mesurer la charge stockée, les mécanismesd'écriture restent i<strong>de</strong>ntiques. La grille flottante, l'isolant <strong>et</strong> le canal du MOS <strong>de</strong> lecture, ou unesecon<strong>de</strong> grille, constituent un con<strong>de</strong>nsateur. La mise en conduction <strong>de</strong> celui-ci estgénéralement obtenue par l'utilisation d'un <strong>de</strong>s trois procédé suivant : création <strong>de</strong> porteurs par illumination UV, injection <strong>de</strong> porteurs chauds, injection ou r<strong>et</strong>rait par eff<strong>et</strong> tunnel.L'interface conducteur-isolant induit une barrière <strong>de</strong> potentiel dont la hauteur estcaractéristique <strong>de</strong>s matériaux la constituant. Elle provient <strong>de</strong> la différence entre les affinitésélectroniques pour une jonction semiconducteur-isolant ou du travail <strong>de</strong> sortie <strong>et</strong> <strong>de</strong> l'affinitéélectronique pour une jonction métal-isolant (figure 2-19). C'est c<strong>et</strong>te barrière qui s'oppose àla pénétration <strong>de</strong>s électrons libres du conducteur dans l'isolant. Les trois mécanismesphysiques que nous allons décrire perm<strong>et</strong>tent à ces porteurs <strong>de</strong> surmonter c<strong>et</strong>te barrière <strong>et</strong> <strong>de</strong>pénétrer dans l'isolant avec une énergie suffisante pour se trouver dans sa ban<strong>de</strong> <strong>de</strong>conduction. Les charges finissent alors <strong>de</strong> traverser l'isolant par conduction en présence d'unchamps électrique adéquat appliqué au con<strong>de</strong>nsateur.Pour l'interface SiO 2 -Si la barrière est plus élevée pour les trous que pour les électrons, c'estdonc c<strong>et</strong>te <strong>de</strong>rnière catégorie <strong>de</strong> porteurs qui produit la conduction.69

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