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Circuits et systemes de modelisation analogique de neurones ...

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Chapitre III : circuits intégrés réalisés.capacité parasite <strong>de</strong> l'ordre <strong>de</strong> 40 fF (équation 3.11), le potentiel <strong>de</strong> grille flottante vautQCftot 1,36 V . En utilisant c<strong>et</strong>te valeur, nous pouvons calculer les tensions <strong>de</strong>programmation <strong>de</strong>s différentes cellules (équations 3.12 <strong>et</strong> 3.13) :M1M09,47/-14,08 8,95/-13,48M5M48,60/-13,07 9,47/-14,08Tableau 3-6 : tensions théoriques (en V) aux bornes <strong>de</strong>s injecteurs tunnel <strong>de</strong>s quatremémoires à étage suiveur. La valeur positive correspond à l'injection <strong>de</strong> charge <strong>et</strong> la valeurQfnégative au r<strong>et</strong>rait. Vhigh = 13 V, Vmedium = 5 V, Cp = 40 pF <strong>et</strong> 1,36VCtotLes tensions sont beaucoup trop dispersées <strong>et</strong> dissymétriques pour pouvoir comparer lesefficacités d'injection <strong>de</strong>s différentes cellules.3.3.2. Comparaison détaillée <strong>de</strong> l'efficacité d'injection.Nous avons donc réalisé <strong>de</strong>s mesures pour chaque mémoire en utilisant <strong>de</strong>s valeurs <strong>de</strong> V highdans le rapport théorique <strong>de</strong>s différents con<strong>de</strong>nsateurs tunnel pour obtenir une tension <strong>de</strong>programmation unique <strong>de</strong> 9,8 V tant pour l'injection que pour le r<strong>et</strong>rait <strong>de</strong> charge :A)53005290528052705260525052405230522052105200Vmux (mV)M5M0M4M1t (s)0 20 40 60 80 100B)Vmux (mV)530052905280M452705260M152505240M052305220 M55210t (s)52000 20 40 60 80 100Figure 3-12 : 100 s d'injection pour une tension <strong>de</strong> programmation tunnel théorique <strong>de</strong> 9,8 VA) injection <strong>de</strong> charges, B) r<strong>et</strong>rait <strong>de</strong> charges.C'est la structure <strong>de</strong> la mémoire n° 5 qui se montre la plus efficace. C<strong>et</strong>te améliorationprovient sans doute <strong>de</strong> la diminution d'épaisseur d'oxy<strong>de</strong> qui apparaît au niveau <strong>de</strong> l'encochefaite dans le niveau polysilicium 1.113

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