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Circuits et systemes de modelisation analogique de neurones ...

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Chapitre III : circuits intégrés réalisés.Deux adaptateurs <strong>de</strong> niveau CMOS perm<strong>et</strong>tent <strong>de</strong> transformer l'excursion 0-5 V <strong>de</strong>s signauxlogiques V in <strong>et</strong>High/ Medium , en signaux d'excursion [0, V high ] V nécessaires pour piloter lestransistors <strong>de</strong> commutations M1, M2 <strong>et</strong> M3.Les limites <strong>de</strong> tensions imposées par la technologie utilisée sont résumées ci-<strong>de</strong>ssous :PMOS 0,8 m, V DS max 8 V minimum, 12V typiqueNMOS 0,8 m, V DS max 9 V minimum, 13 V typiqueClaquage d'oxy<strong>de</strong> T ox12 V minimum, >18 V typiqueClaquage d'oxy<strong>de</strong> interpoly 14 V minimum, >20 V typiqueJonction puits N/diffusion P13 V typiqueJonction substrat P/diffusion N18 V typiqueJonction substrat P/puits N55 V typiqueTableau 3-5 : valeurs limites <strong>de</strong> tension pour la technologie AMS BiCMOS 0,8 m.La tension drain-source maximale <strong>de</strong>s transistors MOS est le seul paramètre sur lequel nouspouvons jouer. Il correspond à un mécanisme appelé "punchthrough" : lorsque le transistor estbloqué l'augmentation <strong>de</strong> la tension V DS provoque l'extension <strong>de</strong> la zone d'inversion <strong>de</strong> lajonction drain/canal jusqu'à la source ce qui provoque la mise en conduction brutale dutransistor. Les valeurs du tableau 3-5 correspon<strong>de</strong>nt aux transistors <strong>de</strong> taille minimale,l'allongement du canal perm<strong>et</strong> d'augmenter la tension qui provoque le recouvrement <strong>de</strong> tout lecanal. En eff<strong>et</strong>, dans l'hypothèse d'une jonction abrupte, l'extension <strong>de</strong> la zone <strong>de</strong> charged'espace croît comme la racine carrée <strong>de</strong> la tension inverse aux bornes <strong>de</strong> la jonction :Wn2 Vd V i (3.14)qNDavec : - constante diélectrique,- q charge <strong>de</strong> l'électron,- N D dopage le plus faible <strong>de</strong> la jonction,- V d tension <strong>de</strong> diffusion,- V i tension aux bornes <strong>de</strong> la jonction.Dans ces conditions la limite inférieure <strong>de</strong> claquage provient du claquage d'oxy<strong>de</strong> T ox(12 V/18 V) <strong>et</strong> du claquage <strong>de</strong> la jonction drain/puit <strong>de</strong>s transistors PMOS (13 V), elle fixe lalimite maximale pour la tension V high .109

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