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Minéralogie, porosité et diffusion des solutés dans l'argilite du ...

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200 CHAPITRE 5<br />

(1): Da = 8,48×10 -17 m²/s %Cu = 6<br />

(2): Da = 1,58×10 -14 m²/s %Cu = 58<br />

(3): Da = 6,53×10 -14 m²/s %Cu = 35<br />

avec %Cu représentant la proportion relative de Cu associée à chaque comportement. On<br />

observe que 6% de la masse de Cu est liée à un comportement diffusif lent perm<strong>et</strong>tant<br />

d’expliquer le comportement <strong>du</strong> début <strong>du</strong> profil. Ce comportement peut être dû (i) à une<br />

cinétique de sorption, (ii) à une évolution <strong>du</strong> Kd avec la concentration en Cu en solution (cf.<br />

section 1.1), (iii) à l’artefact de mesure <strong>du</strong> Cu avec le Ca <strong>et</strong> Al (cf. section 2.2.2) <strong>et</strong> (iv) la<br />

déstructuration <strong>du</strong> bord <strong>des</strong> échantillons (cf. section 2.2.2). La majorité <strong>du</strong> Cu (58 %) présente<br />

un comportement proche <strong>du</strong> comportement moyen. Le comportement de <strong>diffusion</strong> le plus<br />

rapide concerne 35 % <strong>du</strong> Cu <strong>et</strong> perm<strong>et</strong> de décrire le profil pour les profondeurs les plus<br />

éloignées de la surface solution / échantillon.<br />

M/M0 [-]<br />

M/M0<br />

1<br />

0,8<br />

0,6<br />

0,4<br />

0,2<br />

0<br />

0 400 800 1200 1600 2000<br />

distance (µm)<br />

profil expérimental<br />

ajustement analytique<br />

Fig. 5.33 : Ajustement analytique <strong>du</strong> profil de Cu obtenu en microLIBS avec l’eq. 5.13.<br />

M/M0 [-]<br />

M/M0<br />

1<br />

0,8<br />

0,6<br />

0,4<br />

0,2<br />

0<br />

Distance (µm)<br />

profil expérimental<br />

somme <strong>des</strong> 3 fits indivi<strong>du</strong>els<br />

fit (1)<br />

fit (2)<br />

fit (3)<br />

0 400 800 1200 1600 2000<br />

distance (µm)<br />

Distance (µm)<br />

Fig. 5.34 : Tentatives d’ajustements analytiques <strong>du</strong> profil de Cu obtenus en microLIBS par un<br />

triple comportement <strong>du</strong> Cu diffusant en « parallèle », régi par l’eq. 5.13.

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