MR thèse 2006-21 - Bibliothèque Ecole Centrale Lyon
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Chapitre II – Evaluation du Nettoyage<br />
100<br />
90<br />
80<br />
% de performance<br />
70<br />
60<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
Hexanios<br />
G+R<br />
Salvanios<br />
pH 10<br />
Aniosyme<br />
PLA II<br />
Aniosyme<br />
DD1<br />
Aniosyme<br />
N2<br />
Figure II-1 : PND de formulations détergentes et/ou pré-désinfectantes avec la salissure<br />
CP+20%MG. Les PND sont effectués dans les Laboratoires ANIOS de Lille<br />
Cette méthodologie permet d’établir un classement de ces formulations en fonction de leur efficacité visà-vis<br />
des protéines. Elle est également utile pour étudier les effets synergiques ou antagonistes qui<br />
peuvent exister entre les différentes molécules qui composent la formulation.<br />
Un inconvénient de cette méthode est la nécessité de devoir éluer les protéines de la surface dans une<br />
solution de récupération afin de pouvoir les doser. Bien que le rendement d’élution vis-à-vis de la BSA<br />
soit évalué à 98,6 ± 0,4 %, il ne peut être représentatif du rendement d’élution de toutes les protéines.<br />
Cette méthode est également limitée par sa sensibilité puisqu’elle permet un dosage des protéines totales<br />
dans une gamme de valeurs comprises entre 0,5 et 20 µg/ml.<br />
III. LES APPROCHES SURFACIQUES<br />
Le moyen le plus pertinent pour évaluer l’efficacité du nettoyage est de s’intéresser à la surface ellemême<br />
et de mettre en évidence la présence de résidus (protéiques ou non) après nettoyage. Pour cela,<br />
deux techniques d’analyses ont été envisagées, la spectroscopie de photoélectrons et le marquage des<br />
protéines à l’iode radioactif ( 125 I).<br />
III.1. La spectroscopie de photoélectrons<br />
La spectroscopie de photoélectrons (XPS) est une technique d’analyse chimique de la surface des solides.<br />
Sa profondeur d’analyse est inférieure à 10 nm. Son principe est basé sur l’effet photoélectrique, c’est-àdire<br />
l’émission d’un électron sous l’impact d’un photon X. L’XPS est définie comme une technique<br />
d’analyse de l’extrême surface en raison de l’existence du libre parcours moyen des électrons dans la<br />
matière. En effet, lors du transfert de l’électron vers la surface à travers le solide, celui-ci peut subir des<br />
chocs inélastiques. Le libre parcours moyen, défini comme la distance moyenne entre deux chocs, joue<br />
donc un rôle prépondérant en limitant l’épaisseur analysée.<br />
L’XPS permet :<br />
- Une analyse élémentaire et qualitative de la surface puisque tous les électrons des couches<br />
électroniques de cœur ou de valence, dont l'énergie de liaison est inférieure à l’énergie des<br />
photoélectrons incidents, peuvent être extraits, sauf l’hydrogène. L’énergie de liaison caractérise<br />
un électron d’un niveau électronique d’un atome donné, ce qui permet l’identification<br />
élémentaire. Sa sensibilité est de l’ordre de 0,1 à 0,5% atomique ;<br />
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