Etudes des propriétés magnétiques, par méthode magnéto-optique
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N o d’ordre<br />
THÈSE<br />
présenté devant<br />
L’INSTITUT NATIONAL DES SCIENCES APPLIQUÉES<br />
DE TOULOUSE<br />
en vue de l’obtention du<br />
GRADE de DOCTEUR EN SCIENCES<br />
de l’INSA de Toulouse<br />
spécialité<br />
Nanophysique, Nanocomposant, Nanomesure<br />
<strong>par</strong><br />
David HRABOVSKÝ<br />
intitule<br />
<strong>Etu<strong>des</strong></strong> <strong>des</strong> <strong>propriétés</strong> <strong>magnétiques</strong>, <strong>par</strong> <strong>méthode</strong><br />
<strong>magnéto</strong>-<strong>optique</strong>, de sytémes de couches minces pour<br />
l’électronique de spin<br />
Soutenue le 21 Octobre 2003 devant la commission d’examen :<br />
Michel Piecuch<br />
Marcel Guyot<br />
Jean-François Bobo<br />
André R. Fert<br />
Jaromír Pištora<br />
Štefan Višňovský<br />
Rapporteur<br />
Rapporteur<br />
Directeur
NOM : HRABOVSKÝ<br />
Prénom : David<br />
Étu<strong>des</strong> <strong>des</strong> <strong>propriétés</strong> <strong>magnétiques</strong>, <strong>par</strong> <strong>méthode</strong> <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong>, de<br />
systèmes de couches minces pour l’électronique de spin.<br />
136 pages<br />
Thèse de Doctorat — Nanophysique, Nanocomposant, Nanomesure<br />
Toulouse, Octobre 2003 N o d’ordre :<br />
RÉSUMÉ :<br />
Cette thèse s’inscrit dans l’ensemble <strong>des</strong> travaux actuels pour définir les matériaux<br />
adéquats pour les dispositifs de l’électronique de spin. Est <strong>par</strong>ticulièrement abordée<br />
l’étude <strong>des</strong> <strong>propriétés</strong> <strong>magnétiques</strong> de systèmes de couches minces qui vont<br />
intervenir soit dans les jonctions tunnel <strong>magnéto</strong>résistives soit dans les problèmes<br />
d’injection de spin dans les semiconducteurs.<br />
Ce travail a d’abord consisté en la mise au point de techniques expérimentales<br />
basées sur la <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong> permettant de cerner les <strong>propriétés</strong> physiques <strong>des</strong><br />
matériaux étudiés : banc de mesure d’effet Kerr à basses températures et microscope<br />
Kerr. A l’aide de ces techniques ont été étudiées les <strong>propriétés</strong> de bicouches<br />
Co/NiO (où la couche AF bloque la couche F) principalement les problèmes de<br />
relaxation dans le temps du champ d’anisotropie d’échange. Nous montrons le<br />
rôle de l’anisotropie de la couche de NiO sur le taux de relaxation. Ont été également<br />
étudiées les <strong>propriétés</strong> <strong>magnétiques</strong> du semiconducteur magnétique dilué<br />
(Ga,Mn)As. Nous montrons les <strong>par</strong>ticularités du renversement d’aimantation de<br />
ce composé : déplacement de <strong>par</strong>ois et fort effet de dynamique selon la fréquence<br />
de sollicitation.<br />
MOTS CLÉS :<br />
relaxation magnétique, anisotropie magnétique, semiconducteurs <strong>magnétiques</strong>,<br />
couches minces <strong>magnétiques</strong>, renversement de l’aimantation, champ de décalage,<br />
couplage d’échange, <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong>, microscopie Kerr, électronique de spin.<br />
JURY, 21 Octobre 2003, Toulouse :<br />
Michel Piecuch<br />
Marcel Guyot<br />
Jean-François Bobo<br />
André R. Fert<br />
Jaromír Pištora<br />
Štefan Višňovský<br />
Rapporteur<br />
Rapporteur<br />
Directeur<br />
Cette thèse a été pré<strong>par</strong>ée au sein du Laboratoire de Physique de la Matière<br />
Condensée de Toulouse
Introduction<br />
L’électronique de spin a débuté <strong>par</strong> la découverte en 1988 de la <strong>magnéto</strong>résistance<br />
géante GMR. Cette <strong>magnéto</strong>résistance est observée dans certains<br />
systèmes artificiels de couches minces composés de couches alternées <strong>magnétiques</strong><br />
et non <strong>magnétiques</strong>. La résistance change grandement lorsque, sous<br />
l’effet d’un champ magnétique appliqué, l’on passe d’une configuration magnétique<br />
<strong>par</strong>allèle à une configuration anti<strong>par</strong>allèle. La GMR a démontré la<br />
faisabilité et l’intérêt de courant polarisé en spin dans les dispositifs où au<br />
moins une dimension est nanométrique. Dans un deuxième temps un grand<br />
effort a été dédié à l’étude et la réalisation de jonctions tunnel <strong>magnétiques</strong><br />
MTJ où les couches <strong>magnétiques</strong> bloquée et libre sont sé<strong>par</strong>ées <strong>par</strong> une très<br />
fine couche isolante d’épaisseur 10 à 20Å. La densité de courant tunnel est<br />
généralement faible et la puissance dissipée dans un réseau régulier de telles<br />
jonctions est tout à fait adaptée à la réalisation de dispositifs de type MRAM.<br />
D’autre <strong>par</strong>t les MRAM de ce type doivent avoir <strong>des</strong> temps de réponse plus<br />
courts que les mémoires à lecture seule ou les mémoires flash à base de semiconducteurs.<br />
Le blocage de l’électrode dure est généralement introduit à l’aide d’une<br />
sous couche antiferromagnétique AF. Dans les cinq dernières années, notre<br />
laboratoire a ainsi réalisé et développé l’étude du système Co/NiO. La couche<br />
AF de NiO permet d’accroître à la demande le champ coercitif de la couche de<br />
cobalt. La thèse récente de B. Diouf, soutenue à l’INSA le 24 février 2003 était<br />
dédiée à <strong>des</strong> jonctions MTJ de structure suivante verre/NiO/Co/AlOx/Co.<br />
Il a travaillé sur les processus d’élaboration pour les optimiser. Les <strong>magnéto</strong>résistances<br />
obtenues quotidiennement étaient de l’ordre de 20%. La plu<strong>par</strong>t<br />
<strong>des</strong> test expérimentaux concernant l’étude et l’optimisation <strong>des</strong> <strong>propriétés</strong><br />
<strong>magnétiques</strong> étaient réalisés <strong>par</strong> mesures <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong> (MO). Pour ma<br />
thèse j’ai aussi travaillé sur les <strong>propriétés</strong> de blocage dues à la sous couche AF<br />
type NiO mais je présenterai essentiellement dans ce mémoire le phénomène<br />
de relaxation du champ d’échange et les effets associés.<br />
Jusqu’à présent, le stockage de données est généralement réalisé à l’aide<br />
de matériau magnétique, les semiconducteurs intervenant pour le traitement<br />
v
vi<br />
INTRODUCTION<br />
de ces données. Le challenge est maintenant d’intégrer traitement et stockage<br />
sur le même système hybride. Plus largement on peut penser que la<br />
propriété de spin de l’électron peut conduire, dans le futur, au traitement<br />
de l’information quantique. Le savoir faire pour ouvrir de telles perspectives<br />
est de réaliser une injection d’électrons à spin polarisés efficace dans les<br />
matériaux semiconducteurs. L’injection de spin dans <strong>des</strong> dio<strong>des</strong> électroluminescentes<br />
à lumière polarisée (Spin LED) a été démontrée récemment avec<br />
<strong>des</strong> taux de polarisation convenables. Au LPMC Toulouse, en collaboration<br />
avec le LAAS Toulouse, <strong>des</strong> spin LED ont été fabriquées et étudiées avec<br />
une barrière Schottky inverse constituée de l’interface entre métal ferromagnétique<br />
(Co) et semi conducteur GaAlAs. D’autre <strong>par</strong>t les semiconducteurs<br />
<strong>magnétiques</strong> obtenus <strong>par</strong> inclusion d’atomes <strong>magnétiques</strong> dans les composés<br />
III-V et II-VI sont également de bons candidats pour l’injection de spin polarisé<br />
dans les dispositifs à semiconducteurs. A ce propos un gros travail est<br />
entrepris pour augmenter la température de Curie de ces semiconducteurs<br />
<strong>magnétiques</strong> dilués. Une voie est d’augmenter la concentration en ion magnétique,<br />
mais pour le manganèse dans GaAs, à plus forte concentration, les<br />
ions Mn se couplent antiferromagnétiquement. Une seconde voie de recherche<br />
semble être basée sur les composés azotés type (Ga,Mn)N où une température<br />
de Curie à l’ambiante est envisageable. Le second gros problème avec les<br />
composés III-V dopés Mn est l’instabilité du spin <strong>des</strong> trous. La polarisation<br />
de spin <strong>des</strong> trous dis<strong>par</strong>aît très rapidement contrairement au spin <strong>des</strong> électrons,<br />
il semble très difficile de réaliser <strong>des</strong> dispositifs à spin polarisés avec<br />
<strong>des</strong> porteurs trous. En collaboration avec la composante optoélectronique<br />
quantique du LPMC, nous avons développé une étude commune de systèmes<br />
de type (Ga,Mn)As en utilisant les techniques de <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong> à<br />
basses températures que j’ai mises au point au laboratoire. Une large <strong>par</strong>tie<br />
de ce travail est présentée dans la rédaction anglaise et j’en donnerai quelques<br />
éléments dans la présente. Dans le cadre de l’étude <strong>des</strong> spin LED réalisée au<br />
LPMC les techniques <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong>s sont également utilisées pour obtenir<br />
la rotation Faraday due à la traversée de la couche de Co après émission de<br />
la lumière IR. Cette rotation doit être prise en compte pour obtenir le degré<br />
réel de polarisation circulaire de la lumière émise. Ce dernier travail ne sera<br />
pas présenté ici.<br />
Je vais maintenant essayer de répondre à la question concernant l’intérêt<br />
de développer les techniques de mesures <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong>s. Lorsque l’on veut<br />
étudier le comportement magnétique d’un système de couches minces nanométriques<br />
déposées sur substrat millimétrique, les SQUID ou les techniques<br />
VSM mesurent l’aimantation totale substrat et multicouche. Au contraire<br />
et à cause de l’effet de peau, les métho<strong>des</strong> <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong>s sont sélectives
et permettent la sé<strong>par</strong>ation substrat-couches. Plus encore il est possible de<br />
distinguer la couche du <strong>des</strong>sus de la couche enterrée. Le changement de longueur<br />
d’onde permet de modifier la contribution de chacune <strong>des</strong> couches.<br />
La modélisation permet en général d’affiner la sé<strong>par</strong>ation dans les cas plus<br />
complexes. Deuxième raison, avec les techniques MO il est possible de mesurer<br />
les diverses composantes de l’aimantation (longitudinale, transverse,<br />
polaire) et non plus uniquement la composante le long du champ magnétique<br />
appliqué. Troisième intérêt <strong>des</strong> techniques MO, les fréquences <strong>des</strong> champs appliqués<br />
peuvent être modifiées dans une large gamme (au LPMC de 0,01 Hz<br />
à 1000 Hz) et permettent ainsi l’étude du comportement dynamique. Dans la<br />
majorité <strong>des</strong> cas nous alimentons les bobines de champ avec une fréquence<br />
de 50 Hz, le temps nécessaire pour obtenir un cycle d’hystérésis est alors<br />
très court. En conséquence il est possible d’étudier un nombre important<br />
d’échantillon dans un délai raisonnable et c’est très efficace pour tester les<br />
métho<strong>des</strong> de pré<strong>par</strong>ation et optimiser les conditions de dépôt pour accroître<br />
les <strong>magnéto</strong>résistances tunnel <strong>par</strong> exemple. D’autre <strong>par</strong>t le faisceau laser peut<br />
être focalisé en un point <strong>par</strong>ticulier sur la surface <strong>des</strong> systèmes de couches.<br />
La surface testée peut être facilement limitée à un disque de 20 µm de diamètre.<br />
Ceci nous donne l’opportunité de tester les couches d’une MTJ au<br />
niveau de la jonction ou à l’extérieur (couche isolée). Dans le mémoire nous<br />
présenterons également <strong>des</strong> mesures d’effet Kerr en balayant la surface de<br />
couches épitaxiées de LSMO contenant un réseau régulier d’interfaces artificielles<br />
créées <strong>par</strong> gravure laser sur le substrat. Dernier atout <strong>des</strong> techniques<br />
MO, la possibilité de faire de l’observation de domaines <strong>magnétiques</strong> <strong>par</strong> microscopie<br />
Kerr et d’étudier ainsi les mo<strong>des</strong> de renversement d’aimantation en<br />
fonction du champ appliqué. La microscopie Kerr présente ainsi l’opportunité<br />
d’observer le <strong>par</strong>allélisme ou l’anti<strong>par</strong>allélisme <strong>des</strong> couches bloquées et<br />
libres dans une MTJ et de contrôler <strong>par</strong> la même les couplages <strong>magnétiques</strong><br />
ou la duplication de domaines. Un exemple de ce type d’étude réalisée en<br />
collaboration avec le LPM de Nancy est donné dans la rédaction anglaise.<br />
Cependant la microscopie Kerr ne peut observer de domaines <strong>magnétiques</strong><br />
à une échelle nanométrique. Les métho<strong>des</strong> <strong>optique</strong>s dans le visible doivent<br />
être remplacées <strong>par</strong> les métho<strong>des</strong> de champ proche MFM ou XMCD ou réflectivité<br />
de neutrons pour les objets <strong>magnétiques</strong> dont la taille latérale est<br />
inférieure à 0,5 µm.<br />
En arrivant au LPMC pour ma thèse, j’ai été chargé de développer plusieurs<br />
banc de mesures MO de manière a accroître les capacités d’analyse<br />
expérimentale de l’équipe magnétisme. J’ai amélioré le premier banc expérimental<br />
MO existant à mon arrivée, puis développé les mesures Kerr à basses<br />
températures pour étudier en <strong>par</strong>ticulier les perovskites à valence mixte dont<br />
vii
viii<br />
INTRODUCTION<br />
la polarisation en spin est prometteuse et le système semiconducteur magnétique<br />
dilué (Ga,Mn)As, enfin j’ai réalisé et mis au point le microscope<br />
Kerr longitudinal qui a permis l’étude de domaines <strong>magnétiques</strong> associés aux<br />
mo<strong>des</strong> de renversement en <strong>par</strong>ticulier dans les MTJ. En conséquence de ces<br />
développements de techniques j’ai été le collaborateur direct de collègues du<br />
LPMC ou d’autre laboratoires. Certains travaux réalisés en collaboration seront<br />
présentés dans le mémoire de thèse en anglais sous forme de publication.<br />
J’ai choisi de présenter dans la <strong>par</strong>tie du mémoire en français, outre une<br />
introduction et une conclusion, un condensé <strong>des</strong> résultats marquants concernant<br />
le système Co/NiO et les couches minces de semiconducteur magnétique<br />
dilué (Ga,Mn)As.
Table <strong>des</strong> matières<br />
Introduction<br />
Table <strong>des</strong> matières<br />
v<br />
ix<br />
1 Système de couche magnétique biasée Co/NiO 1<br />
1.1 Echantillons . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 1<br />
1.2 Mécanisme de base du renversement . . . . . . . . . . . . . . . 2<br />
1.3 Relaxation - expérience . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3<br />
1.4 Relaxation - analyse . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 11<br />
1.5 Relaxation - discussion . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 16<br />
1.6 Etude en fort champ magnétique pulsé . . . . . . . . . . . . . 18<br />
2 Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As 21<br />
2.1 Origine du ferromagnétisme . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 21<br />
2.2 Description <strong>des</strong> échantillons . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 22<br />
2.3 Procédure expérimentale . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 22<br />
2.4 Renversement d’aimantation dans le plan . . . . . . . . . . . . 23<br />
2.5 Dépendance en température de l’aimantation . . . . . . . . . . 26<br />
2.6 Dépendance en température de l’anisotropie . . . . . . . . . . 29<br />
2.7 Dynamique de renversement . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29<br />
Conclusion 33<br />
Bibliographie 37<br />
ix
x<br />
TABLE DES MATIÈRES
Chapitre 1<br />
Système de couche magnétique<br />
biasée Co/NiO<br />
Ce type de couche est déposé <strong>par</strong> pulvérisation cathodique au laboratoire.<br />
L’objectif de la sous couche antiferromagnétique de NiO est d’accroître<br />
le champ coercitif (ou champ de renversement) de la couche de Cobalt afin de<br />
réaliser l’électrode bloquée (ou électrode dure) d’une jonction tunnel <strong>magnéto</strong>résistante,<br />
l’électrode libre pouvant alors être une couche de Cobalt simple<br />
la barrière étant constituée d’une couche mince de 15 à 20 Å d’épaisseur d’aluminium<br />
oxydé (cf. thèse de B. Diouf 24-02-2003 [1]). Le couplage à l’interface<br />
AF/F introduit en outre un décalage du cycle d’hystérésis caractéristique (ou<br />
champ de bias H B ), les champs de renversements H c1 et H c2 n’étant plus<br />
égaux. On <strong>par</strong>le de couche biasée . En dépit d’une grande variété de travaux<br />
sur le sujet, le mécanisme du couplage et du décalage qui en résulte<br />
n’est toujours pas bien compris. L’étude que je présente dans la rédaction<br />
en anglais est une contribution à la compréhension de ce mécanisme. Dans<br />
ce résumé en langue française je donnerai les résultats les plus marquants<br />
de l’étude de la relaxation du champ de décalage lorsque l’aimantation de la<br />
couche de Cobalt est renversée.<br />
1.1 Echantillons<br />
Dans la rédaction qui va suivre, nous présenterons les résultats concernant<br />
3 échantillons <strong>par</strong>ticuliers considérés comme échantillons modèles <br />
et correspondant à 3 mo<strong>des</strong> de pré<strong>par</strong>ation bien distinctes.<br />
Pour les échantillons que nous appellerons FIX 60 et FIX 80 Co(60 ou 80 Å)<br />
NiO(1250 Å), la couche de NiO est déposée le substrat de verre étant fixe<br />
au centre du magnétron face à face. A priori ce type de dépôt à incidence<br />
1
2 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
oblique donne une bonne anisotropie à la couche de NiO.<br />
Pour l’échantillon MAG 50 Co(50 Å)/NiO(1250 Å), la couche de NiO est déposée<br />
avec substrat tournant, mais le substrat est équipé de deux petits<br />
aimants permanents afin que le dépôt de NiO et Co, surtout, se fasse sous<br />
champ de 1 kOe.<br />
Pour l’échantillon ISO 50 Co(50 Å)/NiO(1250 Å), la couche de NiO est déposée<br />
avec substrat tournant, le seul champ magnétique présent est celui<br />
du magnétron de l’ordre de 100 Oe. Dans tous les cas de ce dernier type, la<br />
couche de NiO est isotrope et sauf recuit postérieur sous champ magnétique,<br />
nous n’avons pas observé de champ de décalage notable.<br />
1.2 Mécanisme de base du renversement d’aimantation<br />
de la couche ferromagnétique.<br />
Formulation.<br />
L’analyse du renversement d’aimantation de la couche F et le cycle d’hystérésis<br />
associé peut être présentée, dans le cas où cette couche F est déposée<br />
sur une couche AF dont l’interface est non compensée, à l’aide du modèle<br />
classique de Meiklejohn et Bean (MB).<br />
Dans ce cas MB, la non compensation de la couche d’interface est totale.<br />
En fait, dans la suite, nous utiliserons le modèle de Malozemoff qui suppose<br />
la formation de domaines AF à l’interface résultant de l’existence de champ<br />
aléatoire lié à la rugosité, la non compensation sera alors dépendante de la<br />
taille <strong>des</strong> domaines AF. L’énergie totale, <strong>par</strong> unité de surface, de la couche<br />
magnétique F d’épaisseur t F peut s’écrire sous la forme<br />
E = −H a M F t F cos θ − K ua t F cos 2 θ − J int cos θ (1.1)<br />
où M F est l’aimantation de la couche F <strong>par</strong> unité de volume (uem/cm 3 ),<br />
H a est le champ magnétique appliqué supposé le long de l’axe facile K ua<br />
est l’anisotropie uniaxiale <strong>par</strong> unité de volume (erg/cm 3 ) J int est l’énergie<br />
d’interaction d’échange à l’interface F/AF <strong>par</strong> unité de surface (erg/cm 2 ). θ<br />
est l’angle entre l’aimantation F et l’axe de facile aimantation.<br />
Dans un modèle de type Stoner et Wohlfarth (SW), les champs de renversement<br />
H c1 (positif) and H c2 (négatif), sont obtenus en considérant la<br />
stabilité <strong>des</strong> états θ = 0 et θ = π<br />
H c1 = −(2K ua t F + J int )/M F t F<br />
H c2 = (2K ua t F − J int )/M F t F<br />
En introduisant, comme le font MB, un champ uniaxial H ua = 2K ua /M F<br />
et un champ unidirectionnel H ud = J int /M F t F qui traduit l’effet du couplage
1.3. Relaxation - expérience 3<br />
d’interface les champs de renversement s’écrivent :<br />
H c1 = −H ua − H ud<br />
H c2 = H ua − H ud<br />
A cause de la contribution du couplage d’échange à l’interface, les deux<br />
champs de renversement ne sont plus égaux et le cycle d’hystérésis est décalé<br />
d’une quantité H B = −H ud = −J int /M F t F qui ap<strong>par</strong>aît inversement proportionnel<br />
à l’épaisseur de la couche F, comme attendu pour un effet interfacial.<br />
A <strong>par</strong>tir du cycle d’hystérésis expérimental et <strong>des</strong> valeurs de champs H c1 et<br />
H c2 il est possible de déduire l’anisotropie d’échange (composantes uniaxiale<br />
et unidirectionnelle). Cependant il faut savoir que les champs coercitifs dépendent<br />
carrément <strong>des</strong> phénomènes de nucléation et propagation de <strong>par</strong>ois<br />
ainsi que de la dynamique d’application du champ magnétique. On peut dire<br />
que le modèle de Stoner et Wolhfarth n’est, généralement, pas adéquat pour<br />
décrire les processus de renversement. Afin d’éviter ces difficultés, et également<br />
afin d’observer les phénomènes dynamiques associés à la seule couche<br />
AF, nous avons développé une <strong>méthode</strong> expérimentale proche de celle proposé<br />
<strong>par</strong> Krivorotov [2] que nous décrirons <strong>par</strong> la suite et qui élimine toute<br />
exploitation <strong>des</strong> champs coercitifs et toute dynamique de la couche F.<br />
1.3 Relaxation - expérience<br />
Durant les étu<strong>des</strong> du champ de bias H B , une très large dispersion<br />
de résultat démontre l’évolution de celui-ci avec le temps. Par observation<br />
systématique nous avons noté que le bias dépend de l’orientation de<br />
l’aimantation de la couche de Cobalt. Cet effet est interprété comme résultant<br />
de la relaxation de l’état magnétique <strong>des</strong> domaines dans la couche<br />
anti-ferromagnetique de NiO, entraînée <strong>par</strong> l’aimantation du Co via le couplage<br />
d’échange à l’interface AF/F.<br />
Mesure de cycles d’hystérésis<br />
Les premières mesures montrant la relaxation du bias sont faites à<br />
l’aide de tracé de cycle réalisés grâce au dispositif de mesure MOKE à température<br />
ambiante décrit section 3.1 VA, en mesurant les cycles dans un champ<br />
alternatif 50 Hz. L’échantillon est saturé magnétiquement dans la direction<br />
positive de l’axe de facile aimantation et laissé à lui même pour plusieurs<br />
jours. Il est ensuite placé dans la bobine de champ et mesuré. Le champ<br />
appliqué dure 10 pério<strong>des</strong> et l’ acquisition du cycle se fait sur la dernière<br />
période. Le dispositif est configuré de telle sorte que l’état final du Co (après<br />
les 10 pério<strong>des</strong>) soit dans la même direction positive que l’aimantation de
4 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
dé<strong>par</strong>t. Plusieurs mesures de ce type sont réalisées avec <strong>des</strong> intervalles de<br />
temps de quelques minutes. On observe une série de cycle identiques (avec<br />
H B de l’ ordre de -50 Oe). Le bias reste constant ce qui démontre que le<br />
système est dans un état quasi-stable que l’on appellera S1.<br />
Après ce test, le champ magnétique est appliqué de telle sorte que l’état<br />
final du Co soit renversé (H fin dans une direction négative) <strong>des</strong> cycles d’hystérésis<br />
sont alors mesurés en succession. Les résultats sont présentés sur la<br />
figure 1.1 et montrent clairement la décroissance de H B avec le temps. On<br />
peut dire que, si l’on renverse la direction de l’aimantation du Co, le système<br />
est dans un état instable et commence à relaxer.<br />
MO signal (a.u.)<br />
t = 0<br />
t = 28 min<br />
-400 0 400<br />
Magnetic field H (Oe)<br />
Fig. 1.1: Cycle d’hystérésis mesuré avec H fin opposé au champ initial (ou<br />
aimantation initiale). Un déplacement du cycle est observé après un délai de<br />
28 minutes.<br />
Cette expérience est réalisée durant plusieurs jours et une décroissance<br />
de H B est observée. Quand la variation du bias devient très lente, H fin<br />
est à nouveau renversé dans la direction positive et les cycles sont mesurés.<br />
Une variation continue de H B (fig. 1.2) est observée. La valeur du bias <br />
n’atteint pas la valeur initiale de −53 Oe. Il faut attendre plusieurs jours pour<br />
retrouver quasiment la même valeur.<br />
Lorsque l’on com<strong>par</strong>e les deux processus de décroissance et de croissance<br />
du bias , on peut considérer que S1 est un état quasi stable induit <strong>par</strong><br />
la pré<strong>par</strong>ation ou <strong>par</strong> un traitement de recuit postérieur à l’élaboration. Par<br />
contre, renversant le Co, la couche AF commence <strong>par</strong> relaxer le long d’un<br />
cheminement complexe à travers de nombreux états métastables dans la direction<br />
d’un état qui serait le symétrique de S1, mais difficile à atteindre<br />
expérimentalement au vu <strong>des</strong> temps de relaxation caractéristiques. En conséquence<br />
l’état atteint au bout de quelques heures d’expérience est un état<br />
intermédiaire très complexe et inconnu que nous appellerons pour faciliter la
1.3. Relaxation - expérience 5<br />
-50<br />
Bias field H B<br />
(Oe)<br />
-40<br />
-30<br />
-20<br />
-10<br />
0<br />
H FIN<br />
0<br />
50<br />
100<br />
150<br />
200<br />
Time (hours)<br />
Fig. 1.2: Evolution du bias H B après renversement de l’aimantation du<br />
Co. Les lignes verticales (en pointillé) indiquent l’instant de renversement du<br />
Co.<br />
rédaction de la suite état S2.<br />
-50<br />
H B<br />
(0)<br />
Bias field H B<br />
(Oe)<br />
-40<br />
-30<br />
-20<br />
t 1<br />
-10<br />
10 0 10 1 10 2 10 3 10 4<br />
Time (s)<br />
Fig. 1.3: Relaxation du bias vs. le logarithme du temps. La dépendance<br />
en temps est décrite <strong>par</strong> l’équation 1.2<br />
On pouvait penser obtenir une dépendance exponentielle du temps. Cependant<br />
comme montré sur la figure 1.3 pour t > 50 s le bias depend<br />
linéairement de log(t) et peut être décrit <strong>par</strong> la fonction<br />
H B (t) = H B (0) − K · log(t/t 1 ). (1.2)<br />
H B (0) est la valeur du bias avant relaxation, K est la pente en échelle logarithmique<br />
(Oe/dec), et t 1 est le temps où débute la décroissance linéaire. Ce
6 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
comportement est observé pour tous les échantillons étudiés, les <strong>par</strong>amètres<br />
associés sont répertoriés dans le tableau 1.1.<br />
sample process H B (0)(Oe) K(Oe/dec) t 1 (s)<br />
FIX 60 S1 → S2 −52,2 −8,5 5,5<br />
S2 → S1 −1,4 9,4 14,3<br />
Tab. 1.1: Table de <strong>par</strong>amètres<br />
Mesures sous champ magnétique perturbateur alternatif<br />
La <strong>méthode</strong> précédente consistant en tracés successifs de cycles d’hystérésis<br />
présente un sérieux inconvénient car, à chaque renversement de l’aimantation<br />
du Co on perturbe fortement l’état magnétique de NiO. C’est pour cette<br />
raison que nous avons développé une <strong>méthode</strong> analogue à celle de Krivorotov<br />
[2] mais utilisant les techniques MO comme décrites section 3.5 VA.<br />
Pendant les mesures, l’état magnétique du Co est faiblement perturbé<br />
<strong>par</strong> un champ alternatif d’amplitude 10 Oe et de fréquence 60 Hz appliqué<br />
perpendiculairement à l’axe de facile aimantation. En configuration longitudinale<br />
le signal MO correspond alors à la composante a.c. de l’aimantation<br />
perpendiculaire à l’axe facile. A <strong>par</strong>tir de cette amplitude on peut déduire le<br />
champ d’anisotropie d’échange H ex = H ud + H ua , comme démontré dans la<br />
section correspondante de la rédaction en anglais 3.5,<br />
θ Ksat<br />
θ K /H ac<br />
= (H ua ± H ud ), (1.3)<br />
H ua and H ud sont les champs d’anisotropie uniaxial et unidirectionnel. θ K est<br />
l’amplitude de la rotation Kerr mesurée, H ac est l’amplitude du champ a.c.,<br />
et θ Ksat est la rotation Kerr correspondant à la couche de Co saturée.<br />
Le signe de H ud dépend de la direction d’aimantation (positive où négative)<br />
du Co relativement à l’axe. A <strong>par</strong>tir de ce résultat, H ua and H ud peuvent<br />
être obtenus sé<strong>par</strong>ément <strong>par</strong> renversement de l’aimantation du Co.<br />
Le grand avantage de cette <strong>méthode</strong> résulte du fait que l’on maintien<br />
pendant les mesures le Co saturé dans une direction <strong>par</strong>ticulière et que les<br />
effets dépendant du temps observés résultent du seul processus de relaxation<br />
dans la couche AF du NiO.<br />
Impulsions<br />
Nous présenterons d’abord les mesures réalisées avec la <strong>méthode</strong> précitée<br />
mais pour <strong>des</strong> temps courts d’observation <strong>des</strong> phénomènes de relaxation
1.3. Relaxation - expérience 7<br />
pendant lesquels l’aimantation du Co est renversée.<br />
L’échantillon FIX 60 était initialement dans l’état S1 identifié <strong>par</strong> mesure<br />
de cycle d’hystérésis. Au dé<strong>par</strong>t <strong>des</strong> mesures nous observons donc une valeur<br />
constante de H ex = H ua + H ud = 941 Oe. A t = 65 s l’aimantation du Co<br />
est renversée dans le sens négatif de l’axe, le couplage d’interface change de<br />
signe et le champ d’anisotropie d’échange devient H ex = H ua −H ud = 777 Oe.<br />
Par cette simple mesure nous pouvons déduire les champs d’anisotropie uniaxial<br />
et unidirectionnel H ua = 859 Oe and H ud = 82 Oe. Sur l’intervalle de<br />
temps t = 〈65,100〉 s on peut observer le début du processus de relaxation<br />
de H ud . A t = 100 s l’aimantation du Co est renversée à nouveau dans la<br />
direction initiale et positive. Ce protocole d’expérience est répété plusieurs<br />
fois permettant de confirmer la reproductibilité <strong>des</strong> résultats.<br />
Etape suivante, l’échantillon FIX 60 (en fait la couche de Co) est magnétisé<br />
dans la direction négative et laissé plusieurs jours ainsi, son état est appelé S2<br />
comme précisé précédemment. La même procédure est utilisée pour estimer<br />
H ua et H ud . Il faut noter qu’après le renversement de l’aimantation du Co à<br />
t = 60 s l’on n’observe qu’un très petit changement de H ex d’où il résulte les<br />
valeurs suivantes H ua = 875 Oe and H ud = 6 Oe. Ces valeurs sont en accord<br />
avec l’étude de cycle où l’état S2 est caractérisé <strong>par</strong> une très petite valeur<br />
de H B de l’ordre de 1 Oe. La valeur de H ua correspond bien à celle trouvée<br />
précédemment comme attendu.<br />
Anisotropy field H ex<br />
(Oe)<br />
1000<br />
950<br />
900<br />
850<br />
800<br />
750<br />
700<br />
Anisotropy field H ex<br />
(Oe)<br />
1000<br />
950<br />
900<br />
850<br />
800<br />
750<br />
700<br />
40<br />
80<br />
Time (s)<br />
120<br />
160<br />
40<br />
80<br />
Time (s)<br />
120<br />
160<br />
Fig. 1.4: Effet du renversement de l’aimantation du Co sur l’échantillon<br />
FIX 60 . Les flèches indiquent la direction de l’aimantation du Co<br />
Les mêmes expériences furent réalisées avec l’échantillon MAG 50 . La différence<br />
essentielle est que dans l’état S2 H ud est trouvé fortement négatif<br />
-127 Oe contrairement à une valeur quasi nulle dans le cas de l’échantillon<br />
FIX 60 . Ce résultat traduit un processus de relaxation beaucoup plus rapide<br />
pour ce type d’échantillon.
8 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
Anisotropy field H ex<br />
(Oe)<br />
1200<br />
1100<br />
1000<br />
900<br />
800<br />
700<br />
Anisotropy field H ex<br />
(Oe)<br />
1000<br />
900<br />
800<br />
700<br />
600<br />
500<br />
40<br />
80<br />
Time (s)<br />
120<br />
160<br />
40<br />
80<br />
Time (s)<br />
120<br />
160<br />
Fig. 1.5: Effet du renversement de l’aimantation du Co sur l’échantillon<br />
MAG 50<br />
Toutes les valeurs obtenues pour H ua and H ud sont répertoriées dans le<br />
tableau 1.2.<br />
sample state H ua (Oe) H ud (Oe)<br />
FIX 60 S1 859 82<br />
S2 875 6<br />
FIX 80 S1 520 56<br />
S2 496 -12<br />
MAG 50 S1 912 167<br />
S2 762 -127<br />
Tab. 1.2: Tableau <strong>des</strong> <strong>par</strong>amètres H ua and H ud<br />
Relaxation<br />
Après les étu<strong>des</strong> préliminaires présentées ci <strong>des</strong>sus, nous allons aborder<br />
l’étude de la relaxation de H ud (t) sur un grand intervalle de temps. La même<br />
procédure est adoptée, mais M ac est mesuré durant plusieurs heures. H ud<br />
est déduit à <strong>par</strong>tir de l’expression 1.3. Sur la figure 1.6 sont présentés les<br />
résultats obtenus avec l’échantillon FIX 60 . Le type de courbe de relaxation,<br />
dépendance en logarithme du temps, est analogue à celle obtenue <strong>par</strong> trac<br />
é de cycle bien que les constantes caractéristiques sont distinctes. Utilisant<br />
l’expression<br />
H ud (t) = H ud (0) − K · log(t/t 1 ) (1.4)<br />
on obtient le taux de relaxation K et le temps caractéristique t 1 . Les <strong>par</strong>amètres<br />
au dé<strong>par</strong>t H ud et H ua sont obtenus <strong>par</strong> différence avant et après
1.3. Relaxation - expérience 9<br />
renversement de l’aimantation du Co. Tous ces <strong>par</strong>amètres sont présentés<br />
dans le tableau 1.3.<br />
740<br />
760<br />
Anisotropy field H ex (Oe)<br />
780<br />
800<br />
820<br />
840<br />
860<br />
880<br />
10 0 10 1 10 2 10 3 10 4<br />
Time (s)<br />
Fig. 1.6: Dépendance en temps du champ d’échange pour l’échantillon FIX 60<br />
et le processus S2 → S1<br />
sample state H ua (Oe) H ud (Oe) K (Oe/dec) Knorm<br />
FIX 60 S1 865 86 18,7 0,22<br />
S2 832 4,7 −34,2<br />
FIX 80 S1 515 53 10,4 0,20<br />
S2 503 −11 −19,8<br />
MAG 50 S1 851 160 51,0 0,32<br />
S2 881 −116 −98,0<br />
Tab. 1.3: Tableau <strong>des</strong> <strong>par</strong>amètres de relaxation<br />
Afin de com<strong>par</strong>er les processus de relaxation pour les différents échantillons<br />
le signal a été normalisé <strong>par</strong> la valeur de H ud (0) (champ unidirectionnel<br />
dans l’état S1) et il est présenté figure 1.7. Cette figure montre clairement<br />
le taux de relaxation supérieur pour l’échantillon MAG 50 . Les <strong>par</strong>amètres normalisés<br />
K sont dans le tableau 1.3.
10 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
1.0<br />
0.8<br />
Normalized H ud<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0.0<br />
FIX 60<br />
FIX 80<br />
MAG 50<br />
10 0 10 1 10 2 10 3 10 4<br />
Time (s)<br />
Fig. 1.7: Com<strong>par</strong>aison <strong>des</strong> relaxation <strong>des</strong> champs d’échange normalisés.
1.4. Relaxation - analyse 11<br />
1.4 Relaxation - analyse<br />
Les expériences précitées montrent que le champ d’échange résultant de<br />
l’interface AF/F est dépendant du facteur temps. Plusieurs auteurs [3] ont<br />
observé ce phénomène et ont relié ce résultat à l’histoire et en <strong>par</strong>ticulier à<br />
l’état final de l’aimantation de la couche ferromagnétique.<br />
Le modèle de Malozemoff (section 5.2 VA), assume la formation de domaines<br />
AF à l’interface avec la couche F, du à l’existence de champ aléatoire<br />
lié à la rugosité d’interface, et considère que chacun d’entre eux présente<br />
un moment magnétique résultant de la non compensation de ses moments.<br />
Le fait qu’une majorité de moments, associés aux domaines, soient orientés<br />
dans le même sens et selon la direction de l’axe facile entraîne l’existence<br />
d’un champ de bias décalant le cycle d’hystérésis.<br />
Pour expliquer la dépendance en temps du bias le modèle de Fulcomer<br />
et Charap [4] suppose un ensemble de domaines AF indépendants couplés<br />
ferromagnétiquement via l’interface avec l’aimantation de la couche F. Quand<br />
la couche F est renversée, les domaines AF sont soumis à un couple qui tend à<br />
renverser également leur aimantation dans la même direction que la couche F.<br />
La vitesse de renversement résulte d’un processus de franchissement, activé<br />
thermiquement, de barrière d’énergie directement connectée avec le volume<br />
<strong>des</strong> domaines et leur énergie d’anisotropie.<br />
Énergie d’anisotropie de domaines AF<br />
L’énergie totale <strong>par</strong> unité de surface d’un domaine AF dont l’épaisseur<br />
est t AF et l’anisotropie uniaxiale K AF couplé à l’interface avec la couche<br />
ferromagnétique <strong>par</strong> la constante de couplage d’échange J eff est<br />
E AF = K AF t AF sin 2 (γ) + J eff cos(γ), (1.5)<br />
où γ est l’angle entre le moment magnétique du domaine AF et l’axe de facile<br />
aimantation commun F et AF. J eff est la constante d’échange à l’interface <strong>par</strong><br />
unité de surface et résulte de la non compensation <strong>des</strong> moments d’un domaine<br />
AF. On peut écrire que cette constante est inversement proportionnelle à √ N,<br />
où N est le nombre de spins d’un domaine AF à l’interface.<br />
J eff = J 0<br />
√ . (1.6)<br />
N<br />
Analysant l’équation 1.5 on peut montrer que, pour 2K AF t AF > J eff<br />
(Fig. 1.9a) il existe deux minima d’énergie pour γ = 0 and γ = π de valeurs<br />
±J eff sé<strong>par</strong>ées <strong>par</strong> un maximum dont l’énergie est<br />
( )<br />
J 2<br />
]<br />
eff<br />
E max = K AF<br />
[1 +<br />
. (1.7)<br />
2K AF t AF
12 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
M F<br />
M AF<br />
γ<br />
Fig. 1.8: Particule AF avec anisotropie uniaxiale. γ et l’angle entre l’aimantation<br />
et l’axe facile. L’aimantation de la couche F adjacente est le long de<br />
l’axe facile commun AF-F.<br />
E max<br />
+J eff<br />
+J eff<br />
−J eff<br />
−J eff<br />
Fig. 1.9: Dépendance angulaire de l’énergie d’anisotropie E AF (a) pour<br />
2K AF t AF > J eff il existe deux minima (b) pour 2K AF t AF < J eff il existe<br />
seulement un état stable.<br />
Il résulte deux barrières d’énergie différente à franchir pour passer de l’état<br />
S1 → S2 et inversement.<br />
∆E 0→π = E max − J eff<br />
∆E π→0 = E max + J eff<br />
(1.8)<br />
On peut voir que pour 2K AF t AF < J eff (Fig. 1.9b) La barrière d’énergie<br />
dis<strong>par</strong>aît et en conséquence il n’y a plus de déplacement du cycle d’hystérésis.<br />
Evolution du bias ou champ de décalage<br />
Le processus de relaxation peut être décrit à l’aide d’une loi d’Arrhenius<br />
(<br />
R = A exp − ∆E )<br />
k B T<br />
où R est la fréquence, A une constante caractéristique et indépendante de la<br />
température, ∆E est la barrière d’énergie, k B est la constante de Boltzmann<br />
et T la temperature absolue. Pour obtenir la constante de temps caractéristique<br />
du renversement <strong>des</strong> domaines AF, la dernière équation est inversée<br />
( ) ∆E<br />
τ = τ 0 exp<br />
k B T
1.4. Relaxation - analyse 13<br />
τ est le temps caractéristique de franchissement de la barrière d’énergie ∆E,<br />
et τ 0 est un temps caractéristique du mécanisme de renversement.<br />
A <strong>par</strong>tir de l’équation d’évolution du système (S1 → S2)<br />
∂P 1<br />
∂t<br />
= 1 τ 2<br />
P 2 − 1 τ 1<br />
P 1 (1.9)<br />
où P 1 et P 2 sont les probabilités d’occupation <strong>des</strong> états S1 et S2 et où 1/τ 1<br />
and 1/τ 2 sont les fréquences de franchissement de S1 vers S2 et S2 vers S1.<br />
La solution en P 1 pour le cas <strong>par</strong>ticulier où P1(t=0)=1 et 1/τ 1 > 1/τ 2 (tous<br />
les domaines AF sont dans l’état S1 et l’aimantation du Co pointe dans la<br />
direction opposée favorisant le transfert vers S2) est<br />
P 1 (t) = exp(−t/τ)<br />
où<br />
1<br />
τ = 1 τ 1<br />
+ 1 τ 2<br />
. (1.10)<br />
Le champ unidirectionnel H ud (t) est alors obtenu simplement <strong>par</strong><br />
H ud (t) = H ud (0)P 1 (t) − H ud (0) [1 − P 1 (t)]<br />
H ud (t) = H ud (0) [ 2 exp(−t/τ) − 1 ]<br />
(1.11)<br />
L’expression de H ud (t) — donne une dépendance exponentielle du temps<br />
ce qui est contraire aux résultats présentés dans la section 1.3. C’est la raison<br />
pour introduire une distribution de valeurs de τ (due à une distribution de<br />
taille <strong>des</strong> domaines et/ou d’énergie d’anisotropie) conduisant à une variation<br />
logarithmique du temps. La fonction H ud (t) prend la forme d’une intégrale<br />
Distribution ρ(τ)<br />
H ud (t) =<br />
∫∞<br />
0<br />
[ (<br />
ρ(τ) 2 exp − t ) ]<br />
− 1 dτ (1.12)<br />
τ<br />
La distribution de temps de relaxation ρ(τ) peut être trouvée en com<strong>par</strong>ant<br />
la formule (1.12) avec la dépendance en temps observée H ud (t) (expression<br />
1.4).<br />
∫∞ (<br />
H ud (0) − K log(t/t 1 ) = 2 ρ(τ) exp − t )<br />
dτ − H ud (0)<br />
τ<br />
0<br />
Négligeant les constantes et avec la substitution b = K/2 ln(10) on obtient<br />
−b ln(t) =<br />
∫∞<br />
0<br />
(<br />
ρ(τ) exp − t )<br />
dτ<br />
τ
14 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
De manière à trouver une fonction analytique de cette équation intégrale,<br />
une similarité avec la définition de la transformation de Laplace est utilisée<br />
F (s) =<br />
∫ ∞<br />
Utilisant la substitution u = 1/τ on obtient<br />
0<br />
f(t) exp −st dt F (s) = L {f(t)} (1.13)<br />
−b ln(t) = −<br />
∫∞<br />
0<br />
{ }<br />
ρ(1/u)<br />
ρ(1/u)<br />
exp −tu du b ln(t) = L<br />
u 2 u 2<br />
(1.14)<br />
Pour obtenir ρ(τ) on doit inverser la transformation de Laplace de b ln(t).<br />
Comme il n’y a pas de règle absolue pour cela, la fonction ln(t) peut être<br />
exprimée sous forme d’intégrale ln(t) = ∫ (1/q) dq, et utilisant la règle d’intégration<br />
<strong>par</strong> image<br />
∫∞<br />
{ } 1<br />
F (q) dq = L<br />
t f(t)<br />
s<br />
la fonction f(t) est obtenue comme L −1 {F (q)}. 1 Dans ce cas F (q) = (b/q)<br />
et ceci peut être transformé en L −1 {b/q} = b. Alors f(u) = ρ(1/u)/u. Com<strong>par</strong>ant<br />
finalement les deux côtés de l’ équation et substituant τ = 1/u la<br />
distribution ρ(τ) est obtenue,<br />
ρ(τ) = b/τ. (1.15)<br />
Au vu de la <strong>méthode</strong> adoptée pour déduire ρ, l’intégrale ∫ ∞<br />
0 ρ(τ) va à l’infini(contrairement<br />
à la réalité physique où taille <strong>des</strong> <strong>par</strong>ticules et énergies<br />
d’anisotropie restent finies). En vue de corriger ce point, <strong>des</strong> limites supérieure<br />
et inférieure (τ min ,τ max ) sont introduites, en dehors de ces limites ρ(τ)<br />
est nul comme décrit figure 1.10.<br />
La fonction H ud (t) dépend alors seulement du <strong>par</strong>amètre K obtenu directement<br />
de la mesure de τ min et τ max qui spécifient l’intervalle de distribution.<br />
Ces deux valeurs peuvent être obtenues <strong>par</strong> ajustement avec les résultats<br />
expérimentaux.<br />
H ud (t) =<br />
K<br />
2 ln(10)<br />
τ∫<br />
max<br />
τ min<br />
1<br />
τ<br />
[ (<br />
2 exp − t ) ]<br />
− 1 dτ (1.16)<br />
τ<br />
1 on peut penser qu’une intégrale finie ∫ ∞<br />
(1/q) dq n’existe pas à cause de la limite<br />
s<br />
supérieure (lim t→inf ln(t) = inf), mais au vu de la nature du processus de renversement<br />
lim t→inf H ud (t) = −1.
1.4. Relaxation - analyse 15<br />
ρ(τ)<br />
10 0 10 2<br />
10 4<br />
10 6<br />
τ(s)<br />
10 8<br />
10 10<br />
10 12<br />
Fig. 1.10: Distribution ρ(τ)<br />
Temps de relaxation résultant de l’ajustement<br />
L’ajustement pour l’échantillon MAG 50 est présenté figure 1.11. Le <strong>par</strong>amètre<br />
K caractéristique de la pente de la courbe en échelle logarithmique est<br />
extrait <strong>des</strong> résultats expérimentaux. L’ensemble de <strong>par</strong>amètres τ min , τ max et<br />
K pour tous les échantillons sont dans la table 1.4. Le <strong>par</strong>amètre τ max (limite<br />
supérieure de la distribution) affecte directement la vitesse du processus de<br />
relaxation. Clairement on peut voir que, pour l’échantillon MAG 50 , ce temps<br />
est de trois ordres plus petit que pour l’échantillon FIX 60 , ce qui montre que<br />
le processus de relaxation est nettement plus rapide comme déja constaté<br />
lors de l’étude H ud normalisé (figure 1.7).<br />
200<br />
Unidirectional field H ud (Oe)<br />
150<br />
100<br />
50<br />
0<br />
-50<br />
10 0 10 1 10 2 10 3 10 4<br />
Time t (s)<br />
Fig. 1.11: Evolution de H ud de MAG 50 analysé <strong>par</strong> l’équation 1.16
16 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
échantillon τ min (s) τ max (s) K (Oe/dec)<br />
FIX 60 12,1 2,28 · 10 10 18,7<br />
FIX 80 4,4 1,55 · 10 11 10,4<br />
MAG 50 8,7 2,33 · 10 07 51,0<br />
Tab. 1.4: Table de <strong>par</strong>amètres<br />
1.5 Relaxation - discussion<br />
Taille <strong>des</strong> domaines AF<br />
Comme dans la plu<strong>par</strong>t <strong>des</strong> modèles la couche F est supposée monodomaine.<br />
Cette hypothèse n’est pas évidente <strong>par</strong>ce que la taille <strong>des</strong> domaines<br />
dans le cas d’une couche F biasée a été généralement observée plus petite que<br />
dans le cas d’un couche F seule. Cependant la <strong>méthode</strong> a.c. utilisée dépasse ce<br />
problème dans la mesure où la couche demeure saturée <strong>par</strong> application d’un<br />
champ statique constant. Concernant les domaines AF nous avons considéré<br />
que leur taille est directement corrélée à la taille <strong>des</strong> grains cristallins. Par<br />
étude HREM nous avons observé une structure en colonne de grains de 10<br />
à 15 nm de large. L’épaisseur du film de NiO est de 125 nm, mais prenant<br />
en compte le travail de Malozemoff nous supposerons que le renversement ne<br />
concerne pas toute l’épaisseur du film de NiO mais seulement une couche à<br />
l’interface dont l’épaisseur serait de l’ordre de la demi largeur <strong>des</strong> domaines<br />
AF soit 5 nm.<br />
r = 5 · 10 −7 cm<br />
S = 7,85 · 10 −13 cm 2<br />
t AF = 5 · 10 −7 cm<br />
V = 3,93 · 10 −19 cm 3<br />
Cette faible taille en largeur <strong>des</strong> domaines AF est confirmée <strong>par</strong> le travail<br />
de Wang et al. [5]. Lorsqu’ils gravent les couches en plots microniques de<br />
NiO/NiFe, si la couche NiO est épitaxiale le champ d’échange croit fortement<br />
en réduisant la taille <strong>des</strong> plots ce qui prouve que la taille <strong>des</strong> domaines<br />
était supérieure à un micron. Au contraire, le champ d’échange d’une couche<br />
polycristalline de NiO sur Si ne dépend pas de la taille <strong>des</strong> plots, ce qui<br />
montre bien que la taille <strong>des</strong> domaines est, dans ce cas, là bien plus petite et<br />
probablement avoisine la taille <strong>des</strong> grains. Un ordre de grandeur de la taille<br />
<strong>des</strong> domaines peut être obtenue en considérant que les domaines tendent à<br />
se contracter, comme l’explique Malozemoff, jusqu’à ce que sa taille soit de<br />
l’ordre de grandeur de la largeur d’une <strong>par</strong>oi de domaine δ dont l’expression
1.5. Relaxation - discussion 17<br />
√<br />
classique est δ = π A AF /Ka<br />
AF Prenant en compte les valeurs absolues <strong>des</strong><br />
constantes d’échange de NiO A 1 = 1,6 · 10 −7 erg/cm entre premiers voisins,<br />
A 2 = 6,7 · 10 −7 erg/cm entre second voisins et une valeur moyenne pour l’anisotropie<br />
Ka<br />
AF = 3,3 · 10 6 erg/cm 3 nous obtenons la valeur δ = 14 nm. Cette<br />
valeur est consistante avec l’évaluation précédente où l’on considère que la<br />
taille est égale à la taille <strong>des</strong> grains (10 à 15 nm).<br />
Couplage d’échange effectif<br />
La division de la couche AF, près de l’interface, en petits domaines <strong>magnétiques</strong><br />
réguliers est clairement une grossière simplification de la réalité<br />
physique du problème.<br />
Liée à la rugosité d’interface, il existe une importante frustration dans la<br />
couche AF qui impose un fort désordre à l’interface comme dans tout système<br />
à anisotropie aléatoire. Malgré tout, nous ferons l’hypothèse que l’on peut<br />
modéliser le système à l’aide d’un réseau régulier de domaines AF, chacun<br />
d’entre eux possédant une aimantation qui résulte de la non compensation<br />
<strong>des</strong> moments et qui est couplée à l’aimantation de la couche ferromagnétique.<br />
Nous prendrons comme couplage d’échange à l’interface J 0 entre la couche de<br />
Co et un plan AF totalement non compensé la valeur de 10 erg/cm 2 . Comme<br />
dans le problème de champ aléatoire de Imry - Ma, nous supposerons que<br />
le nombre de spins non compensés dans un domaine AF de surface S est<br />
√<br />
N, où N est le nombre de site magnétique. L’énergie de couplage effectif<br />
<strong>par</strong> unité de surface est alors J eff = J 0 / √ N. Si N = 2S/a 2 = 900 alors<br />
J eff = 0,33 erg/cm 2 .<br />
Energie d’anisotropie<br />
A <strong>par</strong>tir de la taille <strong>des</strong> domaines AF et de l’énergie de couplage effectif,<br />
estimés comme décrit ci <strong>des</strong>sus, et à <strong>par</strong>tir <strong>des</strong> valeurs de τ (temps de relaxation<br />
caractéristiques résultant de l’ajustement <strong>des</strong> résultats expérimentaux<br />
section 1.3), nous pouvons déduire une distribution de valeurs de l’énergie<br />
d’anisotropie caractéristique de chacun <strong>des</strong> échantillons. Considérant que tous<br />
les domaines ont un volume V analogue, et utilisant la valeur τ 0 = 10 −9 s et<br />
JS = 0,2 · 10 −12 erg nous obtenons pour l’échantillon FIX 60<br />
0,4 · 10 −12 < K AF V < 0,6 · 10 −12 erg<br />
et l’intervalle d’énergie d’anisotropie volumique<br />
0,8 · 10 6 < K AF < 1,2 · 10 6 erg/cm 3
18 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
Ces valeurs sont tout à fait de l’ordre de grandeur que l’on pouvait attendre<br />
sachant que l’anisotropie <strong>magnéto</strong>cristalline de NiO est au maximum<br />
égale à K AF = 3,3 · 10 6 erg/cm 3 (valeur selon l’axe difficile), sachant aussi que<br />
nous n’avons pas observé de texture dans le film de NiO et qu’en conséquence<br />
les plans faciles (111) sont distribués de manière aléatoire. Il faut rappeler<br />
que, dans le cas d’un dépôt de NiO avec substrat non tournant, l’anisotropie<br />
moyenne résulte de l’incidence oblique de la déposition. Dans le cas d’un substrat<br />
tournant, l’anisotropie résulte d’effets <strong>magnéto</strong>élastiques dus au champ<br />
magnétique appliqué, et l’anisotropie est dans ce cas clairement plus faible.<br />
Cas extrême, le cas du substrat tournant (sans champ appliqué) recensé dans<br />
la thèse de S. Dubourg où il obtient une valeur d’anisotropie 10 fois plus faible<br />
K AF = 0,1 · 10 6 erg/cm 3 .<br />
Cette <strong>par</strong>tie est suivi dans la rédaction en anglais <strong>par</strong> l’exposé d’une étude<br />
sous fort champ magnétique pulsé. Les résultats expérimentaux démontrent,<br />
que malgré les valeurs très faibles d’aimantation associées aux domaines AF,<br />
l’énergie Zeeman résultant de l’application d’un champ de l’ordre de 55 Teslas<br />
permet le franchissement instantané <strong>des</strong> barrières de potentiel qui bloquent<br />
le renversement <strong>des</strong> domaines AF.<br />
1.6 Etude en fort champ magnétique pulsé<br />
Dans cette <strong>par</strong>tie nous présentons l’effet d’un champ magnétique pulsé<br />
de 55 T sur le champ d’anisotropie d’échange (<strong>par</strong>ticulièrement le bias )<br />
dans les bicouches Co/NiO. La motivation vient du fait qu’un fort champ<br />
magnétique (en gros 1000 fois plus fort que les champs habituellement utilisés<br />
dans notre laboratoire) est susceptible de renverser les domaines AF bien que<br />
les aimantations résultant de la non compensation de ces domaines soient<br />
très faibles. L’étude expérimentale a été réalisée au Laboratoire National<br />
<strong>des</strong> Champs Magnétiques Pulsés à Toulouse.<br />
Expérience<br />
Avant d’appliquer une impulsion de champ magnétique fort de 55 T sur<br />
l’échantillon FIX 60 nous avons vérifié que l’échantillon était dans l’état de<br />
bias fort S1 (≈ 50 Oe). L’impulsion est d’abord appliquée dans la direction<br />
positive, c’est à dire dans la direction de l’aimantation du Co. Quelques<br />
instants après l’impulsion, le cycle d’hystérésis est mesuré. Le champ de décalage<br />
n’est pas changé et reste stable. Les cycles avant et après impulsion sont<br />
présentés figure 1.12. La très petite différence n’est pas significative (tab. 1.5).<br />
Après avoir constaté que le champ pulsé, s’il est de même sens que celui
1.6. Etude en fort champ magnétique pulsé 19<br />
20<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
before<br />
after<br />
-600 -400 -200 0 200 400 600<br />
Magnetic field (Oe)<br />
Fig. 1.12: Com<strong>par</strong>aison <strong>des</strong> cycles d’hystérésis avant et après impulsion positive<br />
du Co, n’a pas d’effet sur le champ de décalage, nous faisons l’expérience<br />
complémentaire avec le champ en sens contraire du Co pour renverser l’aimantation<br />
du Co et analyser à nouveau la relaxation du bias . Comme<br />
précédemment, quelques instants après l’impulsion de champ, les cycles d’<br />
hystérésis sont mesurés. On constate immédiatement que le champ de décalage<br />
est voisin de zéro, l’état après impulsion étant donc quasiment l’état S2,<br />
(fig.1.13), ce qui implique qu’une grande <strong>par</strong>t <strong>des</strong> domaines AF est renversée<br />
pendant l’impulsion de champ fort. Vingt heures plus tard les cycles sont<br />
mesurés avec pratiquement le même résultat.<br />
H B (Oe)<br />
H C (Oe)<br />
avant impulsion −56 313<br />
impulsion positive −53 319<br />
impulsion négative 7 317<br />
Tab. 1.5: Table de <strong>par</strong>amètres<br />
Les valeurs obtenues sont résumées dans le tableau 1.5. Une explication<br />
possible réside dans le fait qu’à fort champ pulsé, l’énergie Zeeman (produit<br />
du champ <strong>par</strong> l’aimantation non compensée du domaine AF) apportée au<br />
système est probablement de l’ordre de grandeur de la barrière et le renversement<br />
d’une <strong>par</strong>tie <strong>des</strong> domaines AF devient effectif.
20 CHAPITRE 1. Système de couche magnétique biasée Co/NiO<br />
20<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
before<br />
after<br />
-600 -400 -200 0 200 400 600<br />
Magnetic field (Oe)<br />
Fig. 1.13: Com<strong>par</strong>aison <strong>des</strong> cycles d’hystérésis avant et après impulsion négative<br />
Energie Zeeman dans une impulsion de champ fort<br />
Nous nous proposons de calculer les valeurs d’énergie Zeeman dans un<br />
champ de 55 T appliqué le long de l’axe de facile aimantation du Co. Et<br />
d’abord nous devons évaluer le moment magnétique moyen de non compensation<br />
associé à l’ensemble <strong>des</strong> moments <strong>magnétiques</strong> d’un domaine AF dont<br />
le volume a été discuté précédemment. Le nombre moyen de spins dans un<br />
domaine est N = 2.5 · 10 4 . La valeur moyenne d’aimantation non compensée<br />
<strong>par</strong> domaine est<br />
M = 2µ B<br />
√<br />
N = 2 · 9,1 · 10<br />
−24 · 158 = 29 · 10 −22 JT −1 (1.17)<br />
Pour un champ de 55 T l’énergie Zeeman est<br />
E Zeeman = 2µ B H √ N = 1,5 · 10 −12 erg (1.18)<br />
Cette énergie est du même ordre de grandeur que la hauteur de la barrière<br />
d’énergie que nous avions obtenue dans le précédent <strong>par</strong>agraphe. Elle<br />
peut expliquer le renversement immédiat de nombreux domaines AF dans<br />
la direction du champ magnétique induisant, <strong>par</strong> la même, la décroissance<br />
observée du champ de bias .<br />
La <strong>méthode</strong> consistant à appliquer une série d’impulsions de champ magnétique<br />
fort, d’amplitude croissante, pourrait être un processus expérimental<br />
efficace pour tester la distribution de barrières d’énergie.
Chapitre 2<br />
Semiconducteur magnétique<br />
(Ga,Mn)As<br />
Dans ce chapitre nous présenterons une <strong>par</strong>t <strong>des</strong> résultats concernant<br />
l’étude de couches minces du semiconducteur magnétique dilué (Ga,Mn)As.<br />
Dans cette version, nous décrirons l’origine du ferromagnétisme, le type<br />
d’échantillon, la procédure expérimentale et enfin les principaux résultats<br />
concernant la dépendance en température de l’aimantation et de l’anisotropie.<br />
Le chapitre se fermera sur les résultats de dynamique de renversement.<br />
2.1 Origine du ferromagnétisme<br />
Dans le réseau (Ga,Mn)As les atomes Mn sont en substitution sur les sites<br />
de Ga. Les ions Mn 2+ étant un électron trop court pour réaliser les liaisons III-<br />
V, ils se comportent comme accepteur et comme moment magnétique. L’état<br />
de base de la structure électronique est formé <strong>par</strong> un couplage antiferromagnétique<br />
entre le moment de spin S=5/2 de Mn 2+ et le spin j=3/2 du trou,<br />
l’ensemble formant un complexe manganèse-trou (Mn-hole) dont le moment<br />
total (dans l’état fondamental) est J = S + j = 1 et g J=1 = 2,77 déterminé<br />
<strong>par</strong> <strong>des</strong> mesures ESR et susceptibilité [6]. Les états excités correspondent à<br />
J = 2, 3 et 4 et ne contribuent pas au comportement aux basses températures.<br />
On considère, qu’à basses températures, en <strong>des</strong>sous de la température<br />
de transition T C la forte concentration de trous assure une interaction magnétique<br />
de double échange entre les ions localisés Mn 2+ conduisant à un<br />
ordre ferromagnétique [7].<br />
21
22 CHAPITRE 2. Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As<br />
2.2 Description <strong>des</strong> échantillons<br />
Les échantillons étudiés sont pré<strong>par</strong>és <strong>par</strong> J. Sadowski au MaxLab (Lund<br />
University, Sweden) selon la <strong>méthode</strong> d’épitaxie à jet moléculaire à basse<br />
température [8].<br />
La première série d’échantillons est caractérisée <strong>par</strong> <strong>des</strong> couches d’une<br />
épaisseur de (Ga,Mn)As de l’ordre de 0,5 µm sur un substrat de GaAs. La<br />
concentration de Mn varie de 1,5% à 5,6%. Sur le substrat on a fait d’abord<br />
croître une couche de GaAs de 1 µm d’épaisseur à la température de 590 ◦ C<br />
puis une couche tampon de AlAs a été déposée. Dans l’étape suivante, la<br />
température est abaissée à environ 200 ◦ C la croissance de GaAs commence<br />
– l’obturateur de la source de Mn étant ouvert – une couche de (Ga,Mn)As<br />
de 0,5 µm est alors déposée. Les <strong>par</strong>amètres caractéristiques <strong>des</strong> échantillons<br />
et les épaisseurs <strong>des</strong> couches sont répertoriés table 2.1.<br />
sample x (Ga,Mn)As GaAs AlAs<br />
% nm nm nm<br />
A134 1,7 550 39 150<br />
A133 2,5 396 39 100<br />
A132 5,1 476 39 100<br />
A131 5,6 420 33 100<br />
Tab. 2.1: Concentration de Mn et épaisseur <strong>des</strong> couches de (Ga,Mn)As<br />
2.3 Procédure expérimentale<br />
Les mesures <strong>magnétiques</strong> sont faites à l’aide du dispositif de mesure<br />
MOKE à basses températures décrit dans la section 3.2 VA. L’observable<br />
est alors la rotation Kerr (avec une polarisation s) qui correspond à la composante<br />
de l’aimantation <strong>par</strong>allèle au plan d’incidence - aimantation longitudinale.<br />
Les mesures ont été réalisées pour trois configurations du champ<br />
magnétique appliqué à l’intérieur du plan de l’échantillon : dans le plan d’incidence<br />
(direction longitudinale), perpendiculaire au plan d’incidence (direction<br />
transverse) et à 45 degrés de ces deux directions (direction diagonale).<br />
Ces trois directions sont présentées sur la figure 2.1. L’échantillon est placé<br />
dans le dispositif de telle sorte que l’axe cristallin [110] du substrat (et aussi<br />
de la couche de (Ga,Mn)As) soit <strong>par</strong>allèle à la direction longitudinale.<br />
L’échantillon est collé sur le doigt froid du cryogénérateur. La chambre à<br />
vide est fermée et pompée pendant plusieurs heures pour atteindre une pression<br />
inférieure à 1 · 10 −5 mbar. Le système de refroidissement est alors mis en
2.4. Renversement d’aimantation dans le plan 23<br />
polarizer<br />
x<br />
sample<br />
H<br />
x<br />
z<br />
retarder<br />
Transv.<br />
Diag.<br />
light source<br />
y<br />
y<br />
Wollaston<br />
prism<br />
p<br />
I 2<br />
s<br />
I 1<br />
(1-10)<br />
(110)<br />
Long.<br />
Fig. 2.1: Schéma de la configuration du dispositif MOKE et directions du<br />
champ appliqué.<br />
route, mais en maintenant l’échantillon à la température ambiante à l’aide<br />
d’une résistance chauffante. Pendant cette étape, la température <strong>des</strong> <strong>par</strong>ties<br />
intérieures de la chambre décroît de manière continue et fonctionne en cryopompe.<br />
Ce processus accroît le vide de la chambre et élimine la condensation<br />
<strong>des</strong> gaz résiduels sur la surface de l’échantillon. La qualité de la surface est<br />
fondamentale pour les mesures <strong>magnéto</strong>-<strong>optique</strong>s. Dernière étape, le chauffage<br />
de l’échantillon est stoppé, sa température peut alors décroître. La plus<br />
basse température (≈ 10 K) est atteinte en une heure environ. Les cycles<br />
d’hystérésis en fonction de la température sont obtenus en laissant la température<br />
remonter lentement (2 K/min) jusqu’à 100 K une fois le cryogénérateur<br />
stoppé. Une mesure à température fixe mais avec le cryogénérateur en route<br />
est possible, mais les résultats sont entachés d’un bruit important du aux<br />
vibrations du compresseur.<br />
2.4 Renversement d’aimantation dans le plan<br />
Nous présentons dans ce <strong>par</strong>agraphe les mesures de cycle d’hystérésis<br />
avec champ magnétique dans le plan et appliqué selon les trois directions<br />
principales. Les résultats expérimentaux sont com<strong>par</strong>és aux cycles d’hystérésis<br />
simulés afin d’identifier le type d’anisotropie et d’estimer sa valeur. Toutes<br />
les mesures sont faites à la température de T=15 K±1 K et en appliquant un<br />
champ de 700 Oe d’amplitude à la fréquence de 1 Hz. La rotation Kerr mesurée<br />
correspond à la composante longitudinale de l’aimantation. Les cycles<br />
d’hystérésis obtenus avec l’échantillon A133(2.5%) (figure 2.2) montrent clairement<br />
une aimantation spontanée, bref un comportement ferromagnétique.<br />
Un cycle très carré le long de la direction diagonale ([100] et [010]) indique les<br />
axes de facile aimantation. Dans la direction longitudinale le comportement<br />
observé est typique d’un système à anisotropie biaxiale (four-fold anisotropy
24 CHAPITRE 2. Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As<br />
<strong>des</strong> cristaux cubiques) pour le champ appliqué selon les directions [110] and<br />
[1¯10] et donc à 45 ◦ de l’axe facile.<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
-600<br />
H (Oe)<br />
600<br />
-600<br />
H (Oe)<br />
600<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
-600<br />
H (Oe)<br />
600<br />
Fig. 2.2: Cycles d’Hystérésis mesurés à T=15 K pour l’échantillon<br />
A133(2.5%) avec le champ magnétique appliqué selon la direction longitudinale,<br />
transverse et diagonale.<br />
Le cycle mesuré selon la direction transverse présente une forme complexe<br />
(fig. 2.2). Pour avoir une meilleure compréhension de ce comportement une<br />
simulation a été réalisée en utilisant le modèle de S-W modifié (appendix A<br />
VA).<br />
Dans une première étape, les cycles pour un champ selon la direction<br />
longitudinale et transverse (figure 2.3a) sont calculés avec la seule anisotropie<br />
biaxiale (four-fold anisotropy).<br />
Dans un second temps, l’échantillon est légèrement tourné relativement au<br />
champ magnétique appliqué de telle sorte que celui ci ne soit plus exactement<br />
aligné le long <strong>des</strong> axes cristallins, ce qui amplifie les sauts d’aimantation<br />
observé sur les cycles transverses (figure 2.3b). Ce résultat en simulation<br />
est pratiquement analogue à celui observé expérimentalement, mais on peut<br />
voir ap<strong>par</strong>aître <strong>des</strong> petits sauts d’aimantation sur le cycle longitudinal qui
2.4. Renversement d’aimantation dans le plan 25<br />
ap<strong>par</strong>aissent au même champ magnétique que ceux observés en transverse,<br />
contrairement aux résultats expérimentaux.<br />
Un résultat satisfaisant (figure 2.3c) est obtenu en introduisant une faible<br />
anisotropie uniaxiale le long de la direction [100]. Welp et al. [9] suggèrent<br />
que cette anisotropie résulte de reconstruction de surface pendant le dépôt<br />
MBE à basse température.<br />
Fig. 2.3: Cycles d’hystérésis simulés (a) pour une anisotropie purement<br />
biaxiale, (b) après avoir incliné l’échantillon, (c) en introduisant une composante<br />
supplémentaire uniaxiale selon [100].<br />
Si l’on veut faire le bilan <strong>des</strong> étapes précédentes, il est possible de simuler<br />
les cycles et donc le comportement magnétique en introduisant une anisotropie<br />
biaxiale complétée <strong>par</strong> une composante uniaxiale et un léger défaut<br />
d’alignement. Cette simulation a été développée pour tous les échantillons
26 CHAPITRE 2. Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As<br />
et utilisant les valeurs d’aimantation à saturation obtenues <strong>par</strong> SQUID (section<br />
2.5), nous pouvons présenter l’ensemble <strong>des</strong> constantes caractéristiques<br />
dans la table 2.2.<br />
échantillon M s H c ϕ K 1 K u @ (deg)<br />
emu/cm 3 Oe deg erg/cm 3 erg/cm 3 deg<br />
A134(1.7%) 9 125 -9 -6000 200 @ +45<br />
A133(2.5%) 13 114 -7 -7500 300 @ -45<br />
A132(5.1%) 23,6 110 -2 -8000<br />
A131(5.6%) 30 95 -7 -10500 200 @ -45<br />
Tab. 2.2: Paramètres utilisés dans la simulation <strong>des</strong> cycles d’hystérésis<br />
2.5 Dépendance en température de l’aimantation<br />
La dépendance en température de la rotation Kerr (et aussi de l’aimantation)<br />
est déduite du tracé <strong>des</strong> cycles en configuration où le champ magnétique<br />
est longitudinal. Les résultats sont présentés figure 2.4. Tous les échantillons<br />
présentent une transition ferromagnétique avec T C variant entre 35 K pour la<br />
plus basse concentration et 80 K pour la plus forte. La dépendance de T C avec<br />
la concentration x de Mn est représentée figure 2.5. Pour une analyse plus<br />
détaillée de cette dépendance plus de points de mesure seraient nécessaires,<br />
on observe un accroissement de T C jusqu’à la concentration de 5,1% de Mn,<br />
puis T C reste constant. Le même comportement est observé <strong>par</strong> Ohno [10]<br />
avec le maximum de T C =110 K pour une concentration de x = 5,3%.<br />
Les mesures <strong>magnéto</strong>-<strong>optique</strong>s de l’aimantation ont été complétées <strong>par</strong><br />
<strong>des</strong> mesures SQUID, en gardant la même procédure(ZFC) et à champ égal à<br />
1000 Oe. L’évolution de l’aimantation en température est présentée figure 2.6.<br />
Les valeurs de M S à 15 K utilisées pour la simulation <strong>des</strong> cycles d’hystérésis<br />
et les valeurs de température de Curie T C sont résumées dans la table 2.3.<br />
L’aimantation mesurée à basses températures peut être com<strong>par</strong>ée avec<br />
les valeurs calculées en utilisant l’expression M S = µ B g J=1 N où g J=1 = 2,77,<br />
J = 1 et N est le nombre de complexes manganèse-trou <strong>par</strong> unité de volume.<br />
Prenant en compte la présence de 4 atomes de Ga dans la cellule de base<br />
zinc-blinde de GaAs (a = 5,67 Å) il est possible de calculer la valeur de<br />
l’aimantation dans ce modèle. Comme on peut le voir dans le tableau 2.3 les<br />
valeurs calculées et expérimentales sont en très bon accord, ce qui démontre
2.5. Dépendance en température de l’aimantation 27<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
20<br />
15<br />
10<br />
5<br />
A134(1.7%)<br />
A133(2.5%)<br />
A132(5.1%)<br />
A131(5.6%)<br />
0<br />
0<br />
20<br />
40 60<br />
Temperature T (K)<br />
80<br />
100<br />
Fig. 2.4: Température dépendance de la rotation Kerr pour un champ appliqué<br />
de 1 kOe le long de[110]<br />
100<br />
80<br />
Tc [K]<br />
60<br />
40<br />
20<br />
0<br />
0<br />
2 4 6<br />
Mn concentration [%]<br />
8<br />
Fig. 2.5: Dépendance de T C avec la concentration de Mn.<br />
M S @ 15 K M S calc. T C (SQUID) T C (MOKE)<br />
échantillon emu/cm 3 emu/cm 3 K K<br />
A134(1.7%) 9,7 40<br />
A133(2.5%) 13 14,2 55 60<br />
A132(5.1%) 23,6 29 68 80<br />
A131(5.6%) 30 32 62 80<br />
Tab. 2.3: Aimantation à saturation et T C obtenues <strong>par</strong> SQUID
28 CHAPITRE 2. Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As<br />
Magnetization (emu/cm 3 )<br />
30<br />
25<br />
20<br />
15<br />
10<br />
5<br />
0<br />
A133(2.5%)<br />
A132(5.1%)<br />
A131(5.6%)<br />
0<br />
20<br />
40 60<br />
Temperature T (K)<br />
80<br />
100<br />
Fig. 2.6: Dépendance en température de l’aimantation mesurée au SQUID<br />
avec 1 kOe le long de la direction (100).<br />
que l’ensemble <strong>des</strong> ions Mn sont bien en substitution dans le réseau <strong>des</strong> Ga<br />
et contribue au ferromagnétisme d’ensemble via les complexes Mn-h.<br />
Par contre on peut observer une différence notoire <strong>des</strong> valeurs de T C obtenues<br />
avec les deux métho<strong>des</strong> SQUID et MOKE. On peut penser à une<br />
différence de température de l’ordre de 15 K . L’accroissement de T C due aux<br />
porteurs de charge photo-induits <strong>par</strong> le faisceau laser dans (Ga,Mn)As pendant<br />
les mesures Kerr ne peut expliquer ces différences, en effet changeant<br />
l’intensité du faisceau d’un facteur 10 aucun effet notable n’est remarqué.<br />
Nous n’avons pas d’explication définitive permettant d’interpréter ces différences<br />
observées avec <strong>des</strong> métho<strong>des</strong> différentes. On peut tout de même dire<br />
que le SQUID mesure essentiellement l’ aimantation résultant <strong>des</strong> complexes<br />
Mn-h, alors que la <strong>méthode</strong> <strong>magnéto</strong>-<strong>optique</strong> résulte, via le tenseur de permittivité<br />
diélectrique, <strong>des</strong> <strong>propriétés</strong> électroniques. Et l’on peut penser que<br />
les dépendances en température de ces deux observables, <strong>par</strong>ticulièrement au<br />
voisinage de T C , sont fort distinctes. La com<strong>par</strong>aison <strong>des</strong> valeurs de T C n’est,<br />
dans cette hypothèse, pas possible. On peut remarquer également, concernant<br />
la dépendance en température de l’aimantation mesurée <strong>par</strong> SQUID,<br />
que la forme de la courbe est franchement distincte de celle habituellement<br />
observée dans le cas du ferromagnétisme (magnétisme de bande ou résultant<br />
d’interaction d’échange entre ions localisés). Au contraire, l’effet Kerr qui est<br />
le résultat de l’ordre magnétique <strong>des</strong> porteurs de charges, donne une dépen-
2.6. Dépendance en température de l’anisotropie 29<br />
dance en température plus proche de ce que l’on observe avec les métalliques.<br />
2.6 Dépendance en température de l’anisotropie<br />
Comme décrit dans le <strong>par</strong>agraphe précédent, (Ga,Mn)As présente à basses<br />
températures une anisotropie avec deux axes de facile aimantation perpendiculaires<br />
associés à sa structure cristalline cubique. Il faut cependant ajouter<br />
une composante uniaxe de faible amplitude afin d’ajuster correctement le<br />
comportement magnétique observé. Cependant l’anisotropie magnétique de<br />
(Ga,Mn)As est connue pour être largement contrôlée <strong>par</strong> les contraintes résultant<br />
de l’épitaxie [11] <strong>par</strong>ticulièrement <strong>par</strong>ce que (Ga,Mn)As est obtenu <strong>par</strong><br />
une déposition MBE à basse température. A cause de petites différences de<br />
<strong>par</strong>amètres de réseau cristallin entre GaAs et (Ga,Mn)As, la couche magnétique<br />
de (Ga,Mn)As est soumise à une contrainte en compression qui impose<br />
l’aimantation dans le plan. Nous avons étudié le comportement magnétique<br />
de (Ga,Mn)As (x = 5,6%) en fonction de la température. Les cycles d’hystérésis,<br />
pour un champ appliqué le long de la direction [110] sont présentés<br />
figure 2.7. Un changement d’anisotropie dans le plan est observé lorsque l’on<br />
franchit la température de 35 K correspondant en gros à T C /2. Pour T < T C /2<br />
le comportement est typiquement biaxial (four-fold anisotropy) avec axe facile<br />
selon [100] et [010]. Pour T > T C /2 l’axe facile semble être selon [110].<br />
Cette dépendance en température n’est pas conventionnelle et franchement<br />
pas observée dans les ferro<strong>magnétiques</strong> traditionnels. Ce résultat à été aussi<br />
récemment mis en évidence <strong>par</strong> Welp et. al. [9]. Cette transition d’une anisotropie<br />
biaxial à une anisotropie uniaxiale avec axe facile à 45 ◦ pourrait<br />
résulter de reconstruction de surface pendant la croissance.<br />
2.7 Dynamique de renversement<br />
L’étude <strong>des</strong> cycles d’hystérésis démontre une forte dépendance du champ<br />
coercitif avec l’amplitude et la fréquence du champ magnétique appliqué.<br />
Les mesures sur l’échantillon A133(2.5%) à la température T=20 K pour les<br />
fréquences 0,1, 1 et 10 Hz sont présentées sur la figure 2.8.<br />
Pour explorer ce phénomène plus en détail, <strong>des</strong> mesures aux fréquences<br />
f=0,1, 1 et 10 Hz et avec <strong>des</strong> amplitu<strong>des</strong> de champ H=300, 700 et 1300 Oe ont<br />
été réalisées sur tous les échantillons dont nous disposions. Tenant compte<br />
de l’amplitude et de la fréquence du champ appliqué, le taux de variation
30 CHAPITRE 2. Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
12K<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
20K<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
30K<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
20<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
-20<br />
40K<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
50K 10<br />
0<br />
-10<br />
60K<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
Rotation [x10 -3 deg]<br />
10<br />
5<br />
0<br />
-5<br />
-10<br />
70K<br />
-1000-500 0 500 1000<br />
Magnetic Field [Oe]<br />
Fig. 2.7: Cycles d’hystérésis pour diverses températures, et pour l’échantillon<br />
A131(5.6%). On peut observer, que l’axe facile est orienté à basses<br />
températures le long de [100] et pour <strong>des</strong> températures plus élevées le long de<br />
[110].
2.7. Dynamique de renversement 31<br />
20<br />
Kerr rotation (mdeg)<br />
10<br />
0<br />
-10<br />
0.5 kOe/s<br />
5 kOe/s<br />
50 kOe/s<br />
-20<br />
-800 -400 0 400 800<br />
H (Oe)<br />
Fig. 2.8: Effet de la vitesse de variation du champ magnétique sur le champ<br />
de renversement à T=20 K - échantillon A133(2.5%). Un champ d’amplitude<br />
700 Oe à la fréquence de 0,1, 1 et 10 Hz est appliqué le long de(100).<br />
du champ 2πHf est compris entre 200 et 50000 Oe/sec. Les résultats sont<br />
présentés figure 2.9.<br />
Le renversement d’aimantation est toujours trouvé très abrupt. Ce comportement<br />
est analogue à celui observé pour certaines couches minces métalliques,<br />
présentant de larges domaines <strong>magnétiques</strong>, et pour lequel le renversement<br />
est associé au déplacement rapide d’une <strong>par</strong>oi (ou d’un nombre<br />
réduit de <strong>par</strong>ois) à travers tout l’échantillon. Dans ce cas là, le renversement<br />
est aussi très abrupt, la forme du cycle n’est pas modifié en changeant la fréquence<br />
du champ appliqué, mais le champ coercitif augmente régulièrement<br />
avec la fréquence. Au contraire dans le cas où le renversement est dominé <strong>par</strong><br />
les phénomènes de nucléation de domaines, le cycle d’hystérésis s’arrondit<br />
avec la fréquence [12].<br />
Dietl et al. [13] ont effectivement prédit que le renversement d’aimantation<br />
dans les semiconducteurs <strong>magnétiques</strong> dilués pouvait être associé à un type<br />
de phénomène de nucléation et de propagation de <strong>par</strong>ois de domaines comme<br />
observé dans les composés en couches minces métalliques. Récemment Welp<br />
et al. [9] ont publié une étude très pertinente (<strong>par</strong> microscopie Kerr) <strong>des</strong><br />
structures en domaines <strong>magnétiques</strong> dans (Ga,Mn)As et démontrent ainsi<br />
l’existence de domaines de taille millimétrique, le renversement d’aimantation<br />
étant observé comme correspondant au mouvement de <strong>par</strong>ois <strong>magnétiques</strong>.<br />
Ces résultats confirment notre hypothèse et indiquent bien un renversement<br />
<strong>par</strong> déplacement de <strong>par</strong>ois. Les processus de nucléation demandent une
32 CHAPITRE 2. Semiconducteur magnétique (Ga,Mn)As<br />
2<br />
Coercivity (Oe)<br />
100<br />
10<br />
6<br />
5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
3 4 5 6 7<br />
10 3 2 3 4 5 6 7<br />
dH/dt (Oe/s)<br />
1.7%<br />
2.5%<br />
5.1%<br />
5.7%<br />
10 4 2 3 4 5<br />
Fig. 2.9: Evolution du champ coercitif avec le taux de variation du champ<br />
appliqué à T=20 K<br />
énergie relativement faible au vu <strong>des</strong> inhomogénéités résultant de la distribution<br />
aléatoire <strong>des</strong> ions Mn dans le réseau de GaAs. Par ailleurs, on peut<br />
penser que le côté abrupt du renversement d’aimantation traduit une distribution<br />
de champ (ou d’énergie) de propagation très étroite. Ceci peut être<br />
expliqué soit <strong>par</strong> le blocage d’une <strong>par</strong>oi unique sur un défaut ponctuel soit<br />
<strong>par</strong> plusieurs <strong>par</strong>ois bloquées sur de nombreux défauts statistiquement ré<strong>par</strong>tis<br />
dans le cristal ce qui pourrait correspondre à une distribution très<br />
étroite d’énergie. Enfin une telle dépendance du champ de renversement avec<br />
la fréquence n’est pas observée dans les couches minces métalliques. C’est<br />
assurément le résultat d’une haute barrière d’énergie de propagation associée<br />
à une faible énergie d’activation à T = 20 K.
Conclusion<br />
Le premier objectif de cette thèse était de développer les techniques de<br />
mesures <strong>magnéto</strong> <strong>optique</strong>s du laboratoire. Dans la première <strong>par</strong>tie de mon<br />
travail, j’ai réalisé un banc expérimental complet permettant <strong>des</strong> mesures <strong>magnéto</strong><br />
<strong>optique</strong>s à basses températures (10 K à 320 K). J’ai <strong>par</strong>ticulièrement<br />
étudié et résolu le problème d’obtention d’un excellent vide dans la chambre<br />
de mesure afin d’éviter toute contamination sur la surface de l’échantillon.<br />
C’est une condition strictement nécessaire pour espérer mesurer <strong>par</strong> réflexion<br />
les <strong>propriétés</strong> <strong>magnétiques</strong> de la couche étudiée. J’ai aussi mis au point une<br />
chaîne de mesure complète très précise pour l’acquisition <strong>des</strong> données avec<br />
les sous programmes permettant d’adapter le dispositif à <strong>des</strong> fonctionnalités<br />
distinctes, <strong>par</strong> exemple aux mesures de relaxation du champ d’échange <strong>par</strong><br />
la <strong>méthode</strong> alternative voisine de celle adopté <strong>par</strong> Krivotorov. Le deuxième<br />
banc expérimental réalisé a été le microscope Kerr équipé d’une caméra de<br />
grande qualité, de diverses sources de lumière de longueur d’onde et d’intensité<br />
distinctes et enfin d’un électroaimant autorisant <strong>des</strong> champs <strong>magnétiques</strong><br />
appliqués jusqu’à 1,5 kOe. Ce microscope est <strong>par</strong>ticulièrement adapté pour<br />
l’étude <strong>des</strong> jonctions tunnel MTJ et permet l’acquisition simultanée de la<br />
<strong>magnéto</strong>résistance R(H) et de l’évolution <strong>des</strong> domaines <strong>magnétiques</strong>.<br />
A l’aide de ces techniques expérimentales j’ai été en charge de plusieurs<br />
étu<strong>des</strong> physiques dont les deux principales concernaient le semiconducteur<br />
dilué magnétique (Ga,Mn)As et le système Co/NiO. Concernant (Ga,Mn)As<br />
dont les échantillons étaient pré<strong>par</strong>és <strong>par</strong> Sadowski (Göteborg, Suède) j’ai<br />
utilisé le banc de mesure d’effet Kerr à basses températures et démontré tout<br />
d’abord que cette technique était très bien adaptée pour une telle étude. La<br />
rotation Kerr était de l’ordre de grandeur de 1/100 de degré, pour <strong>des</strong> couches<br />
de 10 nm d’épaisseur, ce qui est tout à fait commun et facile à mesurer. Il était<br />
<strong>par</strong> ailleurs aisé de modifier l’orientation <strong>des</strong> axes de la couche <strong>par</strong> rapport au<br />
champ magnétique appliqué ce qui nous a permis d’analyser les anisotropies<br />
de ce matériau. Nous avons observé en accroissant la température, autour<br />
T C /2, que l’anisotropie associée à un environnement cubique dis<strong>par</strong>aissait<br />
pour laisser place à T > T C /2 à un comportement uniaxial. (Ga,Mn)As est un<br />
33
34 CONCLUSION<br />
exemple de système fortement corrélé et dans lequel l’ordre magnétique <strong>des</strong><br />
moments localisés de Mn est réalisé via les spins <strong>des</strong> trous. Toutes les expériences<br />
tendent à démontrer que le comportement magnétique de (Ga,Mn)As<br />
est analogue à celui observé dans les matériaux métalliques <strong>magnétiques</strong>, il<br />
existe le même type d’anisotropie, il existe <strong>des</strong> domaines <strong>magnétiques</strong> et le<br />
renversement d’aimantation est accompli <strong>par</strong> rapide déplacement de <strong>par</strong>ois<br />
donnant <strong>des</strong> cycles d’hystérésis très carrés et abrupts. Les effets dynamiques<br />
sont aussi présents et à basses températures le champ coercitif dépend très<br />
fortement de la fréquence d’excitation. Très probablement les domaines <strong>magnétiques</strong><br />
sont de taille millimétrique et sont piégés <strong>par</strong> <strong>des</strong> défauts qui restent<br />
à identifier. Nous avons aussi commencé les premières expériences sur un ensemble<br />
de boites quantiques réalisées (Sadowski) <strong>par</strong> <strong>méthode</strong> de croissance<br />
tridimensionnelle de (Ga,Mn)As. Nous avons observé un début d’ordre magnétique<br />
pour T < 12 K, mais pour l’instant nous ne pouvons attribuer cet<br />
ordre magnétique aux Mn dans les boites (ce qui serait très intéressant bien<br />
évidemment). Nous obtenons un spectre de luminescence large, ce qui semble<br />
montrer qu’il n’y a pas de Mn dans la couche ultra mince joignant les boites<br />
(en effet Ga,MnAs n’est pas luminescent) et que si la luminescence vient<br />
<strong>des</strong> boites celles ci sont de taille trop grande avec une large distribution. De<br />
nouveaux échantillons ayant de meilleures caractéristiques sont attendus.<br />
La seconde étude concerne le système de couche biasée Co/NiO. Nous<br />
avons démontré, en utilisant une <strong>méthode</strong> caractérisée <strong>par</strong> l’application d’un<br />
champ magnétique alternatif, que le champ unidirectionnel H ud résultant du<br />
couplage à l’interface AF/F, relaxe lorsque l’aimantation de la couche de Co<br />
est renversée. La vitesse de relaxation dépend grandement de l’anisotropie de<br />
la sous couche antiferromagnétique NiO. Pour le cas où la couche de NiO est<br />
déposée avec une incidence oblique (et substrat fixe) l’anisotropie est forte<br />
et la décroissance de H ud est ré<strong>par</strong>tie sur plusieurs jours. Le processus est<br />
bien pris en compte dans le modèle de Malozemoff, où la couche AF se divise<br />
en surface en domaines <strong>magnétiques</strong> réguliers, <strong>par</strong> la relaxation de ces<br />
domaines dans le sens de l’aimantation du Co, relaxation au <strong>des</strong>sus de barrières<br />
d’énergie dont la hauteur dépend de l’anisotropie uniaxe et du couplage<br />
d’échange à l’interface. Pour nos échantillons, nous avons montré que la taille<br />
<strong>des</strong> domaines AF pouvait être égale à la taille <strong>des</strong> cristallites résultant de la<br />
<strong>méthode</strong> de dépôt. La relaxation observée est toujours une dépendance logarithmique<br />
du temps. Cette loi peut être interprétée <strong>par</strong> une distribution<br />
d’énergie d’anisotropie résultant de l’orientation aléatoire <strong>des</strong> grains. Enfin<br />
l’étude du comportement sous fort champ magnétique pulsé au LNCMP de<br />
Toulouse semble donner une <strong>méthode</strong> d’analyse de la distribution de barrières<br />
d’énergie dans les systèmes de type Co/NiO. On peut en effet penser
que, dans <strong>des</strong> champs de l’ordre de 50 Teslas, les aimantations associées à<br />
la non compensation <strong>des</strong> domaines AF conduisent à <strong>des</strong> énergies Zeeman<br />
com<strong>par</strong>ables aux énergies de barrière.<br />
Dans ce travail, et en raison <strong>des</strong> techniques MO développées, j’ai aussi<br />
présenté diverses étu<strong>des</strong> en collaboration avec d’autres laboratoires et pour<br />
lesquelles j’ai réalisé les mesures et leur analyse. En focalisant le faisceau<br />
laser, j’ai étudié l’état magnétique <strong>des</strong> interfaces dans <strong>des</strong> films minces de<br />
La 1−x Sr x MnO 3 contenant un réseau d’interfaces artificielles. L’effet Kerr au<br />
niveau <strong>des</strong> interfaces est singulièrement diminué <strong>par</strong> rapport à celui de la<br />
couche, ce qui indique une réduction de l’aimantation et un affaiblissement<br />
du couplage ferromagnétique. En utilisant le microscope Kerr j’ai aussi analysé<br />
la corrélation entre les mesures de <strong>magnéto</strong>résistance de jonctions tunnel<br />
et le renversement de domaines <strong>magnétiques</strong> dans les couches libre et bloquée.<br />
Nous avons démontré l’intérêt de mesurer simultanément R(H) M(H)<br />
et le renversement <strong>des</strong> domaines. Le microscope Kerr m’a également permis<br />
d’observer le renversement magnétique d’un système de plots régulièrement<br />
gravés dans une couche mince de Fe. Ce travail permet à notre laboratoire<br />
de développer <strong>des</strong> collaborations avec les laboratoires d’Ostrava (République<br />
Tchèque) et de Bratislava (Slovaquie) avec en perspective la réalisation de<br />
capteurs pour détection de microfissures dans <strong>des</strong> matériaux métalliques à<br />
<strong>par</strong>tir de champs de fuite.<br />
35
36 CONCLUSION
Bibliographie<br />
[1] Baye Boucar Diouf. Élaboration et étude de jonctions tunnel <strong>magnétiques</strong><br />
NiO/Co/Al 2 O 3 /Co. PhD thesis, Institut National <strong>des</strong> Sciences<br />
Appliquées de Toulouse, 2003.<br />
[2] I. N. Krivorotov, T. Gredig, K. R. Nikolaev, A. M. Goldman, and E. D.<br />
Dahlberg. Role of magnetic aftereffect in coercivity enhancement of<br />
Co/CoO bilayers. Physical Review B Condensed Matter and Materials<br />
Physics, 65(18) :180406/1–4, 1 May 2002.<br />
[3] M. Cartier. PhD thesis, Université Joseph Fourrier, 2000.<br />
[4] E. Fulcomer and S. H. Charap. Temperature and frequency dependence<br />
of exchange anisotropy effects in oxidized NiFe films. Journal of Applied<br />
Physics, 43(10) :4184–90, Oct 1972.<br />
[5] Yu Jen Wang and Chih Huang Lai. Size and shape effects on exchange<br />
field of patterned NiO/NiFe films. Journal of Applied Physics,<br />
89(11) :7537–9, 1 June 2001.<br />
[6] J. Schneider, U. Kaufmann, W. Wilkening, M. Baeumler, and F. Kohl.<br />
Electron structure of the neutral manganese acceptor in gallium arsenide.<br />
Physical Review Letters, 59(2) :240–243, 1987.<br />
[7] T. Dietl, H. Ohno, F. Matsukura, J. Cibert, and D. Ferrand. Zener model<br />
<strong>des</strong>cription of ferromagnetism in zinc-blende magnetic semiconductors.<br />
Science, 287 :1019–1022, 2000. (in Reports).<br />
[8] J. Sadowski, J. Z. Domaga̷la, J. Bak-Misiuk, ↩<br />
S. Koleśnik, M. Sawicki,<br />
K. Świ atek,<br />
↩<br />
J. Kanski, L. Ilver, and V. Ström. Structural and magnetic<br />
properties of molecular beam epitaxy grown GaMnAs layers. Journal of<br />
Vacuum Science and Technology, B18(3) :1697–700, May 2000.<br />
[9] U. Welp, V. K. Vlasko Vlasov, X. Liu, J. K. Furdyna, and T. Wojtowicz.<br />
Magnetic domain structure and magnetic anisotropy in Ga 1−x Mn x As.<br />
Physical Review Letters, 90(16) :167206/1–4, 25 April 2003.<br />
[10] H. Ohno. Properties of ferromagnetic III-V semiconductors. Journal of<br />
Magnetism and Magnetic Materials, 200(1-3) :110–129, Oct 1999.<br />
37
38 BIBLIOGRAPHIE<br />
[11] A. Shen, F. Matsukura, S. P. Guo, Y. Sugawara, H. Ohno, M. Tani,<br />
H. Abe, and H. C. Liu. Low-temperature molecular beam epitaxial<br />
growth of GaAs and (Ga,Mn)As. Journal of Crystal Growth, 201 :679–<br />
683, May 1999.<br />
[12] B. Raquet. Dynamique d’aimantation dans une couche ultramince ferromagnétique,<br />
application au système OR/COBALT/OR. PhD thesis,<br />
Institut National <strong>des</strong> Sciences Appliquées de Toulouse, 1996.<br />
[13] T. Dietl, J. Konig, and A. H. MacDonald. Magnetic domains in III-<br />
V magnetic semiconductors. Physical Review B Condensed Matter and<br />
Materials Physics, 64(24) :241201/1–4, 15 Dec 2001.