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Chapitre I : Etude bibliographique 63
I.4.5 Résumé:
Les deux modes de projection plasma classiques présentent tous les deux de nombreux
avantages dans le cadre de notre étude car beaucoup de paramètres peuvent être variés et
étudiés afin d’obtenir des dépôts denses. C’est cette voie que nous avons suivie lors de ces
travaux. La stratégie expérimentale fait l’objet du chapitre suivant.
I.5 Conclusion :
La réalisation de dépôts denses de zircone yttriée par projection plasma dépend
essentiellement du mode d’écrasement des particules sur le substrat et de ce fait du contact
des particules avec le substrat ou avec la couche préalablement déposée. Afin d’avoir un
dépôt dense, il faut obtenir un bon étalement des particules qui engendre un bon contact
interlamellaire.
Cette étude bibliographique a mis en évidence l’importance de la vitesse d’impact et du
diamètre des particules sur l’étalement de celles-ci et donc sur la formation du dépôt. Il est
alors intéressant de pouvoir utiliser différents types de procédés de projection plasma (Arc et
RF) afin d’avoir une gamme de vitesses d’impact des particules permettant d’obtenir des
lamelles fines ayant un bon contact entre elles et avec le substrat pour limiter au maximum la
création de porosité et ainsi obtenir une épaisseur de dépôt faible limitant la perte de charge
pour un électrolyte.
L’accent devra ainsi être porté à la fois :
• sur l’obtention de vitesses d’impact des particules élevées par le biais de l’utilisation
de différents procédés de projection plasma classiques ou améliorés, par l’utilisation
de tuyères dites supersoniques.
• sur la température des particules à l’impact pour que celles-ci soient suffisamment
fondues pour bien s’étaler.
• sur les paramètres du substrat qui conditionnent aussi cet étalement.